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[发明专利]一种方形光纤加工方法及加工辅助装置-CN202310273711.5在审
发明人：鲍振军;杨李茗;黄金勇;蔡红梅;李智钢;蔡超;王刚;高胥华;朱衡;周衡 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2023-03-20 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种方形光纤加工方法及加工辅助装置。先准备辅助加工元件，包括窗口片、第一垂直度块、第二垂直度快、第一基板和第二基板。加工过程包括：将窗口片连接在两垂直度块之间，且将两垂直度块的底面连接在第一基板的顶面，形成成盘；然后磨削、抛光成盘的顶面和窗口片暴露的两个侧面，之后在成盘顶面连接上第二基板；在第二基板方向切割成盘，得到薄片，抛光该薄片，从第二基板上取下方形光纤即可，重复上盘之后的操作可以得到更多方形光纤。本发明可以同时加工多件光纤，能够得到亚微米级精度的方形光纤，各面间的垂直度、各面的面形精度高。
一种方形光纤加工方法辅助装置

[发明专利]一种抛光液浓度在线测量装置及抛光液供液系统-CN202210647288.6在审
发明人：周佩璠;刘义彬;张宁;高胥华;陈伦强;张曼;胡庆;戴红玲 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2022-06-09 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01N5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光液浓度在线测量装置及抛光液供液系统，包括：采样皿，用于在线获取抛光液；升降机构，与采样皿相连，用于驱动采样皿升降；升降机构用于设置在抛光液容器内，以使采样皿能够浸入抛光液容器的液面下方；力传感器，连接于采样皿和升降机构之间；控制器，分别与升降机构和力传感器相连，控制器预先存储有采样皿的体积和水的密度，用于当升降机构将采样皿抬升至液面上方时，根据力传感器的检测信号、采样皿的体积和水的密度，计算得到抛光液的浓度。可实现抛光液浓度的在线测量，有利于对抛光工艺全过程进行抛光液浓度的实时在线监测，从而提高抛光质量与效率。
一种抛光浓度在线测量装置液供液系统

[发明专利]一种用于方形光学元件数控加工的拼接装置-CN202011398248.X有效
发明人：黄金勇;高胥华;蔡超;王刚;谢磊;赵恒;胡庆;何祥;马平;鄢定尧;李瑞洁 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于方形光学元件数控加工的拼接装置，包括方形支撑板，其为凸台结构，包括上凸台和下凸台，所述下凸台的水平方向的横截面面积大于所述上凸台，所述上凸台面积与待加工光学元件相同；所述上凸台上还依次设置有硅胶垫和防水布；使用时，所述待加工光学元件设置于所述防水布上；还包括四个拼接块，其相互连接后设置于所述下凸台上方用于将设置于所述上凸台上的所述待加工光学元件夹紧，所述待加工光学元件的上表面略高于各所述拼接块的上表面，各所述拼接块的顶面外侧还设置有若干用于固定所述防水布的磁条。上述拼接装置，同时具备元件装夹和抛光液储存两种功能，实现了元件的浸没式抛光，提高了元件的抛光稳定性。
一种用于方形光学元件数控加工拼接装置

[实用新型]一种环形抛光分离器-CN202022748722.9有效
发明人： 高胥华;姜创 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种环形抛光分离器，包括把手、压圈、金属套圈、挡块、支撑层和清扫层，把手可拆卸地安装于金属套圈的顶面，压圈可拆卸地连接于金属套圈顶部边缘，挡块可拆卸地嵌套于金属套圈的内圈，支撑层可拆卸地安装于金属套圈底部外圈边缘，清扫层安装于支撑层外侧。该环形抛光分离器与现有的环形抛光分离器相比，支撑层为一体化结构，支撑层底面无拼接痕迹和安装孔，避免了不平整支撑层表面划伤沥青抛光膜层的可能性，保证了沥青抛光膜层表面在抛光工艺过程中的平整程度；清扫层可以阻挡大尺寸杂质颗粒进入分离器内部，降低了光学元件表面产生划痕的概率。
一种环形抛光分离器

[发明专利]一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法-CN201910661952.0有效
发明人：赵恒;蔡超;何祥;马平;鄢定尧;黄金勇;王刚;谢磊;胡庆;蔡红梅;鲍振军;李智钢;卢忠文;崔建朋;朱衡;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B24C1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于共聚焦兆声波微射流的抛光装置和方法，属于超精密光学表面加工领域。所述抛光装置包括顶部外罩、兆声波换能器、换能器集束座、连接座、储液腔、密封圈、喷嘴，所述喷嘴上设有用于供抛光液喷出的小孔。该共聚焦兆声波微射流抛光装置和方法除了具有传统射流抛光的优点外，由于使用高频、高能兆声波来推动抛光液产生微射流实现射流抛光，因此能够抑制抛光粉颗粒的团聚效应，提高抛光液的悬浮性和分散性；除此之外相比传统的射流抛光，所述装置和方法可控参数更多，可通过调控兆声波换能器阵列的功率、频率参数来实现不同的抛光斑、抛光效率、抛光质量，具有很好的时间响应特性。
一种基于聚焦声波射流抛光装置方法

[发明专利]一种激光系统、激光诱导损伤测试系统及方法-CN202011553952.8在审
发明人：赵恒;吕亮;高胥华;何祥;马平;李瑞洁;鄢定尧;黄金勇;蔡超;王刚;谢磊;胡庆;蔡红梅;周佩幡;鲍振军;李智钢 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光系统，激光产生装置用于产生激光束并将激光束入射到光束控制装置，光束控制装置用于整形激光束以控制输出激光形成的光斑大小，汇聚装置用于将光束控制装置发射出的激光束汇聚而发射出。本发明的激光系统能够调节输出激光的聚焦光斑大小，能够应用于光学元件激光诱导损伤测试，有助于提高测试效率和测试准确度。本发明还公开了一种激光诱导损伤测试系统以及方法。
一种激光系统诱导损伤测试方法

[发明专利]一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置-CN201910496610.8有效
发明人：黄金勇;谢磊;高胥华;胡庆;王刚;赵恒;蔡超;何祥;马平;鄢定尧;张云帆 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置，包括铸铁盘，其固定设置于环形抛光机的大理石盘上方，所述铸铁盘的顶部浇注有沥青抛光膜层，待加工光学元件和校正盘均设置于所述沥青抛光膜层上；热电阻温度传感器，其设置于所述沥青抛光膜层外侧；环形水管，其置于所述铸铁盘内，且其进水端和出水端分别位于所述铸铁盘的上下方；恒温供水系统，其包括相连的水箱及恒定水温控制系统，所述水箱外还设置有循环水泵，所述恒定水温控制系统与所述热电阻温度传感器相连；所述环形水管的所述进水端与所述循环水泵相连，所述出水端与所述水箱相连。上述装置可实时调节沥青抛光盘盘面面形，从而实现光学元件全口径面形的高精度加工。
一种用于调节环形抛光机沥青表面装置

[发明专利]一种光学元件抛光工具及抛光方法-CN201910092105.7有效
发明人：黄金勇;胡庆;谢磊;蔡超;王刚;赵恒;高胥华;何祥;马平;鄢定尧 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中心开设中心孔，压圈与磨盘连接并且使包覆了抛光膜层的凸台从压圈的中心孔穿过，压圈将抛光膜层压紧贴附在凸台上。本发明所述的光学元件抛光工具无需安装辅助加工用的拼接块，有效提高加工效率，磨盘的运动范围扩展到元件的外部区域，磨盘不会发生倾覆，使得元件边缘区域与中间区域加工情况一致，有效消除塌边或翘边面形等边缘效应问题，实现光学元件全口径面形的高精度加工。
一种光学元件抛光工具方法

[发明专利]一种全口径低缺陷平面工件的加工设备及方法-CN201911326584.0在审
发明人：谢磊;何祥;黄金勇;高胥华;郑俊锋;姜创;王刚;蔡超;赵恒;胡庆 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种全口径低缺陷平面工件的加工设备，包括：表面设有用以供工件抛光加工的抛光模层的转台；用以带动工件自转实现抛光并能够使工件沿着抛光模层的表面摆动以防止工件表面产生环形痕迹的偏摆式平面抛光装置；用以过滤抛光液并能够向抛光模层的表面输送预设温度的抛光液的抛光液循环过滤装置；设于转台的外部、用以当工件抛光时控制空气的洁净度和湿度以提高工件表面质量的空气控制装置。本发明还公开了一种应用于上述全口径低缺陷平面工件的加工设备的加工方法。上述全口径低缺陷平面工件的加工设备可以解决由于工件加工精度和表面质量不能同时达标所造成的反复加工，从而可以提高工件全口径加工质量及加工效率。
一种口径缺陷平面工件加工设备方法

[发明专利]一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统-CN201810377942.X有效
发明人：黄金勇;胡庆;谢磊;蔡超;王刚;赵恒;马平;鄢定尧;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-04-25 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈值；然后根据匀滑拟合面形误差数据与去除函数计算匀滑驻留时间函数，以确定第二加工路径；根据第二加工路径进行二次抛光加工，直至其RMS值不大于预设GRMS阈值；最后基于匀滑抛光工艺确定伪随机式加工路径，根据伪随机式加工路径进行三次抛光加工，直至其波前PSD1 RMS值、面形PSD2 RMS值和表面粗糙度RMS值均达到合格值，完成元件加工。本申请实现了光学玻璃元件全频段指标的合格加工，提高了光学玻璃元件的加工效率和加工精度。
加工路径光学玻璃元件面形误差数据装置及系统函数计算时间函数数控加工驻留伪随机加工去除预设表面粗糙度二次抛光加工效率抛光工艺抛光加工元件加工次抛光全频段面形拟合申请

[实用新型]一种数控抛光工具-CN201820067361.1有效
发明人：黄金勇;马平;鄢定尧;胡庆;何祥;吕亮;谢磊;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本实用新型公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设置于所述金属盘底部，所述金属盘与所述抛光模层通过液体通道连通，且所述过滤网设置于各所述液体通道上。该数控抛光工具，与现有的对光学元件抛光技术工艺相比，过滤网设置于引流孔上侧，保证杂质颗粒无法进入抛光模层底部，避免了抛光液中的杂质颗粒划伤光学元件表面的可能性。抛光颗粒在抛光液的离心力作用下，与加工碎屑一起被排到金属盘外侧，保证了光学元件表面在抛光工艺过程中的平整程度。
金属盘抛光模层数控抛光过滤网套圈光学元件表面液体通道杂质颗粒可拆卸抛光液清扫层光学元件抛光抛光工艺过程本实用新型离心力作用技术工艺加工碎屑抛光颗粒周向侧壁地连接引流孔划伤连通平整保证

[发明专利]一种数控抛光工具-CN201810039405.4在审
发明人：黄金勇;马平;鄢定尧;胡庆;何祥;吕亮;谢磊;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： B24B13/01 文献下载
摘要：本发明公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设置于所述金属盘底部，所述金属盘与所述抛光模层通过液体通道连通，且所述过滤网设置于各所述液体通道上。本发明提供的数控抛光工具，与现有的对光学元件抛光技术工艺相比，过滤网设置于引流孔上侧，保证杂质颗粒无法进入抛光模层底部，避免了抛光液中的杂质颗粒划伤光学元件表面的可能性。抛光颗粒在抛光液的离心力作用下，与加工碎屑一起被排到金属盘外侧，保证了光学元件表面在抛光工艺过程中的平整程度。
金属盘抛光模层数控抛光过滤网套圈光学元件表面液体通道杂质颗粒可拆卸抛光液清扫层光学元件抛光抛光工艺过程离心力作用技术工艺加工碎屑抛光颗粒周向侧壁地连接引流孔划伤连通平整保证

[实用新型]环抛机校正盘减荷装置-CN200720081504.6无效
发明人：杨李茗;吴学良;刘民才;雷华;刘义彬;刘夏来;张珑;周宏庆;鄢定尧;欧光亮;高胥华 -专利权人：成都精密光学工程研究中心南京利生光学机械有限责任公司
申请日： 2007-10-17 - 公布日： 2008-08-27 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种环抛机校正盘减荷装置，属于光学机械技术领域。它包括真空系统、回转系统、提升系统和自动控制系统；真空系统包括真空吸盘、和真空发生器；回转系统包括回转轴、缓冲器；提升系统包括气缸比例阀；自动控制系统包括人机界面。本实用新型可大大提高了环抛机的加工效率，校正盘可单独清洗，并可方便地翻转进行面形检测。本装置不工作时可将校正盘离线存放，克服了固着式减荷装置存在的缺点。适合各种环抛机校正盘的减压使用。
环抛机校正盘减荷装置

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