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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电去离子水制造装置以及去离子水的制造方法-CN202180081520.8在审
发明人：中村友绮;高桥悠介;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B01D61/48 文献下载
摘要：提高硼等弱酸成分的去除性能的电去离子水制造装置(EDI装置)在阳极和阴极之间具有由一对离子交换膜划分的脱盐室。将0.1mm以上且0.4mm以下的粒径设为小粒径，并将超过0.4mm的粒径设为大粒径，在脱盐室内，沿被处理水的流向而配置有由大粒径的离子交换树脂构成的大粒径层以及混合有大粒径的离子交换树脂与小粒径的离子交换树脂的混合粒径层。
离子水制造装置以及方法

[发明专利]水处理系统、纯水制造方法以及水处理方法-CN202180053366.3在审
发明人： 高桥悠介;佐佐木庆介;高桥一重 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种更高效地去除难分解性有机物的水处理系统。纯水制造装置(1A)(水处理系统)具有：卤素含氧酸添加单元(21)，其向含有有机物的被处理水添加卤素含氧酸；以及离子交换体填充装置(14)，其位于卤素含氧酸添加单元(21)的下游，至少填充有阴离子交换体。将添加卤素含氧酸后的被处理水向离子交换体填充装置(14)通水。
水处理系统纯水制造方法以及

[发明专利]纯水制造装置以及纯水制造方法-CN202180058599.2在审
发明人：油井启徳;高桥悠介;高桥一重;桃谷尚宪 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种高效且稳定地去除尿素等难分解性有机物的纯水制造装置。纯水制造装置(1)具有：生物处理单元(12)，其对包含有机物的被处理水进行生物处理；次卤酸添加单元(20)，其位于生物处理单元(12)的下游，向进行了生物处理后的被处理水添加次卤酸；以及紫外线照射装置(15)，其位于次卤酸添加单元(20)的下游，对添加了次卤酸后的被处理水照射紫外线。
纯水制造装置以及方法

[发明专利]水处理装置、超纯水制造装置以及水处理方法-CN202180040719.6在审
发明人： 高桥悠介;佐佐木庆介;高桥一重;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：本发明提供能提高过氧化氢的去除效率的水处理装置。水处理装置(纯水制造装置)(2A)具有：阴离子去除单元(16)，其从包含过氧化氢和阴离子的被处理水中去除阴离子；以及铂族催化剂载体(催化剂塔20)，其位于阴离子去除单元(16)的下游侧。
水处理装置超纯水制造以及方法

[发明专利]水处理装置以及水处理方法-CN202180033803.5在审
发明人： 高桥悠介;桃谷尚宪;佐佐木庆介;高桥一重;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种更高效地去除难分解性有机物的水处理装置。水处理装置(1A)具有：次卤酸添加单元(21)，其向包含有机物的被处理水添加次卤酸；以及紫外线照射装置(15)，其位于次卤酸添加单元(21)的下游，向添加有次卤酸的被处理水照射紫外线。
水处理装置以及方法

[发明专利]用于生产去离子水的电去离子装置-CN201880084989.5有效
发明人：佐佐木庆介;合庭健太;高桥悠介;日高真生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2018-07-30 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：提供了一种具有新配置的生产电去离子水的装置，该装置能够有效地去除从浓缩室扩散到去离子室中所容纳的待处理水中的弱酸组分。该装置包括设置在彼此相对的阴极和阳极之间的至少一个去离子处理单元；去离子处理单元包括至少填充有阴离子交换剂的去离子室和与去离子室的两侧相邻的一对浓缩室；去离子室经由阳离子交换膜与一对浓缩室中的位于阴极侧的一个浓缩室相邻；去离子室经由第一阴离子交换膜与一对浓缩室中的位于阳极侧的另一个浓缩室相邻，其中，在阳离子交换膜的去离子室侧表面的部分区域上叠置有第二阴离子交换膜，第二阴离子交换膜与阳离子交换膜不为一体，并且阴离子交换剂与第二阴离子交换膜的去离子室侧表面的至少一部分接触。
用于生产离子水离子装置

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