“高桥和弘”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果21个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]生物素变体二聚体及其用途-CN202180028597.9在审
发明人：金井求;山次健三;巽俊文;儿玉龙彦;杉山晓;塚越雅信;户田雄三;鹫山幸信;高桥和弘;赵松吉;右近直之;铃木美穗 -专利权人：国立大学法人东京大学;赛威德医疗公司;公立大学法人福岛县立医科大学
申请日： 2021-04-13 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C07D519/00 文献下载
摘要：本发明的课题是提供能够进行成像诊断或治疗的卤化的新型生物素变体二聚体。根据本发明，提供下述式（1）所示的化合物或其盐。式中，L1表示3价连接基，L2表示2价连接基，Hal表示卤素元素，p表示1～5的整数，q、r、s和t各自独立地表示1～8的整数。
生物素变体二聚体及其用途

[发明专利]二磷酸甲羟戊酸脱羧酶变异体、和利用了该变异体的烯烃化合物的制造方法-CN201780057299.6有效
发明人：折下凉子;白井智量;高桥和弘;日座操;田边祐介 -专利权人：国立研究开发法人理化学研究所;日本瑞翁株式会社;横滨橡胶株式会社
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C12P5/02 文献下载
摘要：本发明对二磷酸甲羟戊酸脱羧酶(MVD)的各部位导入伴随氨基酸替换的变异，制备了多种MVD的变异体。然后，对于变异体评价对于异戊二烯等烯烃化合物的生成的催化活性，结果发现，通过152位的甘氨酸被替换成其他氨基酸，上述催化活性提高。另外表明，除了152位之外进一步74位的精氨酸和209位的苏氨酸各自被替换成其他氨基酸的MVD也具有高的上述催化活性。
二磷酸甲羟戊酸脱羧酶异体利用烯烃化合物制造方法

[发明专利]酵母属来源的阿魏酸脱羧酶突变体、和使用该突变体的不饱和烃化合物的制造方法-CN202080064749.6在审
发明人：白井智量;森裕太郎;高桥和弘;赤堀弥生 -专利权人：国立研究开发法人理化学研究所;日本瑞翁株式会社;横滨橡胶株式会社
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： C12N9/88 文献下载
摘要：发现了酵母属来源的野生型阿魏酸脱羧酶具有与不饱和烃化合物生成有关的高催化活性。进而搞清楚了，通过在该阿魏酸脱羧酶中将398位的氨基酸替换成谷氨酰胺、甲硫氨酸、天冬酰胺、苯丙氨酸、组氨酸或苏氨酸，从而所述催化活性进一步提高，能够提供能够以高生产性制造丁二烯等不饱和烃化合物的方法、以及用于该方法的酶。
酵母来源阿魏酸脱羧酶突变体使用不饱和化合物制造方法

[发明专利]二磷酸甲羟戊酸脱羧酶变异体、和利用了该变异体的烯烃化合物的制造方法-CN201680045135.7有效
发明人：折下凉子;白井智量;高桥和弘;日座操;田边祐介 -专利权人：国立研究开发法人理化学研究所;日本瑞翁株式会社;横滨橡胶株式会社
申请日： 2016-08-03 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C12N15/09 文献下载
摘要：本发明的目的是提供能以高生产率制造烯烃化合物的方法、和用于该方法的酶，对二磷酸甲羟戊酸脱羧酶(MVD)的各部位导入伴随氨基酸替换的变异，制备了多种MVD的变异体。然后，对于变异体评价参与异戊二烯等烯烃化合物的生成的催化活性，结果发现，209位的苏氨酸被替换成其他氨基酸的MVD具有上述催化活性，表明了除了209位以外进一步74位的精氨酸也被替换成其他氨基酸的MVD具有更高的上述催化活性。
二磷酸甲羟戊酸脱羧酶异体利用烯烃化合物制造方法

[发明专利]曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法-CN202111018293.2在审
发明人： 高桥和弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了曝光装置、曝光方法、以及用于制造半导体装置的方法。曝光装置包括照明光学系统、投影光学系统、以及控制器，所述照明光学系统用于照明包括周期图案的原版，所述投影光学系统用于在基板上形成所述原版的图像，所述控制器被配置为使来自所述照明光学系统的光斜入射在所述原版上使得由衍射光束在所述投影光学系统的光瞳区域中形成光强度分布，并且控制所述基板的曝光使得所述基板的投射区域中的每个点在不少于两个聚焦状态下被曝光，所述光强度分布相对于经过所述光瞳区域的原点并且与所述周期图案的周期方向正交的线线对称，所述衍射光束包括来自所述周期图案的不低于2阶的衍射光。
曝光装置方法以及用于制造半导体

[发明专利]二磷酸甲羟戊酸脱羧酶变异体、和利用了该变异体的烯烃化合物的制造方法-CN201880009364.2在审
发明人：折下凉子;白井智量;高桥和弘;日座操;田边祐介 -专利权人：国立研究开发法人理化学研究所;日本瑞翁株式会社;横滨橡胶株式会社
申请日： 2018-01-30 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C12N15/09 文献下载
摘要：本发明的目的是提供能以高生产率制造烯烃化合物的方法、和用于该方法的酶，对二磷酸甲羟戊酸脱羧酶(MVD)的各部位导入伴随氨基酸替换的变异，制备了多种MVD的变异体。然后，对于变异体评价对于异戊二烯等烯烃化合物的生成的催化活性，结果发现，通过将153位的丝氨酸和209位的苏氨酸各自替换成其他氨基酸，上述催化活性提高。另外表明，通过进一步将152位的甘氨酸替换成其他氨基酸，所述变异体的催化活性进一步提高。
变异体烯烃化合物催化活性二磷酸甲羟戊酸脱羧酶氨基酸替换氨基酸替换异戊二烯甘氨酸丝氨酸苏氨酸制备制造发现

[发明专利]线性致动器和镗孔装置-CN201210250758.1有效
发明人： 高桥和弘;山口大辅 -专利权人：株式会社神崎高级工机制作所
申请日： 2012-07-19 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： H02K33/18 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够以精确的方式进行推压或牵引操作的线性致动器以及设置有该线性致动器的镗孔装置。线性致动器1具有布置在本体外壳2内直线延伸的滑块3，沿着滑块3的轴向固定于滑块3的多个磁铁6，以及由本体外壳2支持以便围绕固定有磁铁6的滑块3的多个线圈4，线性致动器1被构造成使得，由于通电线圈4与磁铁6之间的相互作用，滑块3相对于本体外壳2在轴向上移动，线性致动器1还包括各自在轴向上支持滑块3的一端或另一端的多个板簧7，各个板簧7关于滑块3的轴向上的移动而弹性变形。
线性致动器镗孔装置

[发明专利]图像处理设备和图像处理方法-CN201080036685.5有效
发明人： 高桥和弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2010-07-01 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H04N5/76 文献下载
摘要：CPU在分割帧位置处分割运动图像文件，由此生成包括第一个帧的第一分割后运动图像文件和其它分割后运动图像文件。CPU从其它分割后运动图像文件中检测在再现顺序中第一次出现被摄体的帧位置，并生成描述所检测到的位置的文件作为新的面部信息管理文件。CPU控制记录/再现控制电路将所生成的新的面部信息管理文件与其它分割后运动图像文件相关联地存储在记录介质中。
图像处理设备方法

[发明专利]曝光装置及方法-CN200610105988.3有效
发明人： 高桥和弘;三上晃司;河野道生 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2006-07-21 - 公布日： 2007-01-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种分辨力良好的曝光方法和装置。曝光装置使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴平行的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中至少一个。
曝光装置方法

[发明专利]再现装置-CN200510088735.5有效
发明人： 高桥和弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-07-29 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： G11B27/00 文献下载
摘要：一种再现装置，包括：再现单元，用来从记录介质再现内容数据；管理单元，用来将记录在记录介质上的多个内容数据分入多个组中；以及控制单元，响应于停止再现内容数据，该控制单元将用来将内容数据分入其中一个组的询问信息输出到显示装置。
再现装置

[发明专利]压敏胶粘剂片,保护半导体晶片表面的方法以及加工工件的方法-CN200480002370.3有效
发明人：堀米克彦;泉逹矢;高桥和弘 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2004-01-21 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明目的是提供一种不粘附到其他装置上的压敏胶粘剂片，该片即使应用于包括热处理或产生热量的处理的制造过程。本发明另一个目的是提供用于具有优越高温耐热性的半导体衬底处理用的压敏胶粘剂片，通过提供诸如电路表面保护功能或扩展性能，用作表面保护片，切割片或拾取片。本发明的压敏胶粘剂片的特点是包含通过对第一可固化树脂进行膜的形成并固化获得的底材，通过涂布第二可固化树脂并固化而在底材上形成的顶涂层，以及在上述底材的背面形成的压敏胶粘剂层。
胶粘剂保护半导体晶片表面方法以及加工工件

[发明专利]共轭二烯聚合物氢化方法、氢化催化剂体系和碱性共轭二烯聚合物组合物-CN02823168.6有效
发明人： 高桥和弘;川中孝文 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2002-09-20 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： C08F8/04 文献下载
摘要：一种用于氢化共轭二烯聚合物的方法，其中共轭二烯聚合物在一种包括铂族金属或其化合物的催化剂和一种碱性化合物存在下被氢化。更具体地说，(1)氢化是在通过对共轭二烯聚合物的溶液或胶乳加入催化剂和碱性化合物而构成的反应体系中进行的，(2)氢化是在通过对共轭二烯的溶液或胶乳加入包括催化剂与碱性化合物组合的催化剂体系而构成的反应体系中进行的，或(3)氢化是在通过对包括共轭二烯聚合物和碱性化合物的组合物的溶液加入催化剂而构成的一种反应体系中进行的。因此，氢化共轭二烯聚合物可以在工业上用少量催化剂高效而便利地生产。
共轭聚合物氢化方法催化剂体系碱性组合

[发明专利]压敏粘合剂片及其使用方法-CN99107152.2有效
发明人：近藤健;高桥和弘;峯浦芳久 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 1999-06-02 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种压敏粘合剂片，它包括一基底和叠加在其上的压敏粘合剂层，所述的基底在-5℃至80℃，具有至少0.5的最大动态粘弹性正切δ值。在处理有较大不规则高度差表面的被粘物的背面时，最好将该压敏粘合剂片粘合在被粘物表面，这样可在处理期间保护该被粘物表面。
粘合剂及其使用方法

[发明专利]可用能束固化的亲水性压敏粘合剂组合物及其使用-CN99107024.0有效
发明人：近藤健;加藤挥一郎;高桥和弘;峯浦芳久 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 1999-05-21 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： C09J133/02 文献下载
摘要：公开了一种可用能束固化的亲水性压敏粘合剂组合物，它包括有可用能束聚合基团和酸性基团的聚合物(A)以及中和剂(B)。提供了适用于晶片表面保护片的压敏粘合剂组合物。晶片表面保护片保护在晶片表面上形成的线路图形在研磨晶片背面时不受研磨粉尘等的影响。即使在剥离压敏粘合剂片后有压敏粘合剂残留在晶片表面，用水就能容易地清洗除去该压敏粘合剂组合物。
可用固化亲水性粘合剂组合及其使用

[发明专利]用于晶片背磨的表面保护片及其使用方法-CN99118101.8有效
发明人： 高桥和弘;江部和义;田久真也 -专利权人：琳得科株式会社;东芝株式会社
申请日： 1999-08-18 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种在晶片背磨的一个工艺中所使用的用于半导体晶片的表面保护片，此工艺包括：在设有电路的半导体晶片的表面上形成槽，槽的切割深度小于晶片的厚度；以及对晶片的背面进行研磨从而减小晶片的厚度且最终把晶片分割成独立的芯片，该表面保护片包括衬底和叠加在其上的压敏粘合剂层，该压敏粘合剂层的弹性模量在40℃下至少为1.0×10⁵帕。此表面保护片适用于以高产率生产极薄的IC芯片的工艺。
用于晶片表面保护及其使用方法

1
2
下一页»
尾页
共 21 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top