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[发明专利]一种网络信息管理平台、装置及安全管理方法-CN202010833940.4有效
发明人：薛家胜;逯志刚;仲兆桉;肖飞;曲斌;徐成峰;白文峰;高文泉;韩大伟 -专利权人：内蒙古华强通讯技术有限公司
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： H04L12/24 文献下载
摘要：本发明提出一种网络信息管理平台、装置及安全管理方法，其中所述的网络信息管理平台、装置及安全管理方法基于具有学习能力的Q‑Net网络技术实现，所述Q‑Net网络信息管理平台的结构采用扁平化设计原则，能够消除集中化管理所导致的瓶颈问题；通过自主学习来完善历史样本模型，使异常分析结果更加准确；通过对采集到的数据进行数据清洗来统一数据格式，对特征属性进行量化，从而增加了异常分析所能够利用的特征属性类型，从更多维度进行异常分析，提高了异常分析的全面性和准确性。
一种网络信息管理平台装置安全管理方法

[实用新型]一种使用减速电机和拉伸弹簧的高谐振频率光学调整镜架-CN202021655556.1有效
发明人：龚姣;漆国兴;高文泉 -专利权人：武汉中和海洋光讯有限公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G02B27/62 文献下载
摘要：一种使用减速电机和拉伸弹簧的高谐振频率光学调整镜架，包括结构组件、传动组件、电控组件，结构组件包括压镜装置、镜体、一体式柔铰镜架底座、拉伸弹簧，一体式柔铰镜架底座包括底座部分、柔铰部分、镜架部分，柔铰部分连接镜架部分和底座部分；底座部分的两个角分别安装有传动组件，传动组件包括减速电机、黄铜螺母、球头螺杆，黄铜螺母、球头螺杆组成螺纹副，镜架部分两个角对应设有凸起平台，减速电机的输出转轴与球头螺杆间隙配合，球头螺杆的球头与凸起平台接触。本实用新型采用减速电机、螺纹副调节，比压电调节型镜架在保证调节精度高、响应速度快的同时成本低，角定位精度小于5μrad，在光学精密仪器技术领域具有广泛的应用前景。
一种使用减速电机拉伸弹簧谐振频率光学调整镜架

[实用新型]体外诊断设备-CN201822093448.9有效
发明人：柴亮;高文泉;李鑫 -专利权人：深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司;北京深迈瑞医疗电子技术研究院有限公司
申请日： 2018-12-13 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： G01N33/48 文献下载
摘要：一种体外诊断设备，包括：翻盖机构，翻盖机构包括盖板和盖板支架；锁止机构，锁止机构包括锁杆和回复件；以及试管架机构，试管架机构包括试管架、固定架和驱动组件。由于安装有锁止机构，锁止机构通过机械结构实现自动锁紧盖板，并且锁止机构与试管架机构连接，试管架的移动可带动锁止机构联动，从而本体外诊断设备通过增加机械的锁止机构和自身的试管架机构联动，实现了机械式的自动化锁紧和松开盖板，采用机械结构锁紧，降低了成本，并具有良好的稳定性，使用更为安全。
锁止机构试管架盖板翻盖机构机械结构诊断设备联动锁紧盖板支架机构连接驱动组件自动锁紧固定架回复件松开锁杆种体自动化移动安全

[发明专利]化学机械平坦化终点检测方法及装置-CN201410129960.8有效
发明人：王东辉;郭强生;周国安;李伟;高文泉 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2014-04-02 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提出了一种化学机械平坦化终点检测方法及装置，方法包括以下步骤步骤一根据设定的平坦化工艺参数将平坦化材料在第一抛光台上进行平坦化，将采集到的反射光信号进行数据图形化处理得到第一表面图形及第二表面图形；在所述第一表面图形符合第一特征图形的情况下，根据第一特征图形在相应的区域内对所述平坦化材料施加背压力进行平坦化；在第二表面图形符合第三特征图形的情况下，根据第三特征图形在相应的区域内对平坦化材料施加背压力进行平坦化。本发明提高了平坦化材料的全局平坦化效果，保证了平坦化材料平坦化的加工质量，提高化学机械平坦化设备的一次加工合格率，大大降低了化学机械平坦化终点检测工艺开发的成本。
化学机械平坦终点检测方法装置

[发明专利]化学机械抛光晶圆承载器-CN201310442865.9有效
发明人：李伟;柳滨;高文泉;王东辉 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2013-09-26 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：一种化学机械抛光晶圆承载器，采用上球面轴承、下球面轴承、上十字联轴节、下十字联轴节、固定在集流盘上的支撑柱以及与支撑柱滑动连接的安装环和上盖上的导向孔构成万向节结构，带动晶圆自动产生万向偏摆；夹持环上的外撑螺钉、保持环上的与外撑螺钉成配合副的限位孔以及气囊构成保持环移动限位机构，使保持环寿命延长、更换周期合理、容易；保持环、夹持环和调整垫片构成晶圆存放平面槽的深度微调机构，更换调整垫片保持晶圆安装槽深度在规定范围内。本发明在改善“边缘效应”的同时，上盖、集流盘采用工艺孔结构，使晶圆分区域控制的背压流体分布均衡、作用面积大且管路安装方便。本发明结构设计尺寸大，可满足大直径晶圆抛光要求。
化学机械抛光承载

[发明专利]应用在晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整装置-CN201310442858.9无效
发明人： 高文泉;柳滨;李伟;王东辉 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2013-09-26 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： B24B53/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种应用于晶圆化学机械平坦化（CMP）过程中的抛光垫修整装置，主要由机架、伺服电机、减速器、气动气囊、钢丝软轴、摆动臂、杠杆支撑轴、支撑底板、底板支撑轴、十字球头结构等部件组成；本装置采用伺服电机和减速器实现修整器摆动臂在抛光台上的摆动以及钻石轮的转动；通过杠杆机构分别对两个气动气囊充气以带动摆动臂抬升、下降及对抛光台施加修整力；采用钢丝软轴传动方式将旋转电机远离抛光区域放置，以避免因长期暴露在抛光液环境中对旋转电机造成一定的腐蚀；在摆动臂修整端设计有十字球头结构，以使钻石轮在抛光垫修整过程中始终与抛光台面保持水平接触。
应用化学机械平坦设备中的抛光修整装置

[发明专利]一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器-CN201310443621.2有效
发明人：柳滨;高文泉;陈威;郭强生 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2013-09-26 - 公布日： 2014-01-15 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器，主要由机架、电机、减速器、气囊、同步带和带轮、摆动臂、支撑轴、支撑底板、球头万向结构、检测传感器等部件组成。本装置主要是通过杠杆机构对气囊充气以带动摆动臂抬升、下降及对抛光台施加修整力的。采用皮带轮传动方式将电机和减速器远离抛光区域放置，同时整个修整器外部安装有不锈钢防护罩以避免内部电子元器件的腐蚀。为了解决修整轮与抛光台面的接触问题，在修整端设计有球头万向结构。本发明的抛光垫修整器可以实现结构和控制方式简单，无交叉污染，修整效果好，同时显著延长抛光垫的使用寿命。
一种用于化学机械平坦设备中的抛光修整

[发明专利]应用于化学机械抛光设备中的硅片定位装载装置-CN201010249958.6有效
发明人： 高文泉;陈波;王伟;李久芳 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2010-08-11 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： B24B37/27 文献下载
摘要：本发明提供了一种应用于化学机械抛光设备中的硅片定位装载装置，涉及硅片化学机械抛光设备技术领域。其基板通过支杆与上面的装载导向环连接；升降驱动机构上面的伸缩部与上面的晶片夹固定连接；晶片夹和其外面的晶片引导环连接；装载导向环上设有硅片承载装置对接导向机构，以及硅片顶接导向机构；基板或升降驱动机构的下部设有自动位移调整机构及其自动复位机构。本发明能实现硅片的准确定位并将其运送到承载器内以便加工；结构简单、定位准确、装载安全、性能可靠、操作方便，有利于实现硅片的自动化装载，提高硅片的定位装载和加工效率。特别适用于化学机械抛光设备中的硅片装载，也可用于晶体管和集成电路生产各工序中晶圆的装载。
应用于化学机械抛光设备中的硅片定位装载装置

[实用新型]应用于硅片化学机械抛光设备中的抛光头磁性夹紧装置-CN200920255030.1无效
发明人： 高文泉;陈威;廖垂鑫;陈波;柳滨 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于硅晶片化学机械抛光(CMP)设备中的抛光头与心轴的磁性夹紧装置，所述磁性夹紧装置包括磁铁、基座以及能够调整磁铁旋转角度的开关旋钮。使用的过程中，通过转动开关旋钮来调节磁性的开与关，从而实现抛光头与心轴的夹紧与松脱。当柱形磁铁的两极都处在同一块钢锭时，磁力线直接从这块钢锭内通过，基座因磁短路而对外不表现磁性；当柱形磁铁被旋转到另一角度后，该磁铁的两极分别处于基座两块钢锭上，磁力线就从整个基座导出来吸住心轴，该磁性夹紧装置就是通过这样的方式与实现抛光头与心轴定位、夹紧的，而且结构简单，安装和操作都很方便。
应用于硅片化学机械抛光设备中的抛光磁性夹紧装置

[实用新型]应用于硅片化学机械抛光设备中的机械手终端夹持执行器-CN200920255029.9无效
发明人： 高文泉;李伟;王伟;王东辉;郭强生 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：提供了一种应用于硅片化学机械抛光设备中的机械手终端夹持执行器，所述终端夹持执行器主要采用真空夹持技术，包括吸附口、真空通道、夹持主体和转动连接头等部件。利用真空发生器，通过夹持主体中的真空通道是否处于真空状态，来实现该终端夹持执行器对硅晶片的吸附夹持与松脱。真空夹持技术具有高效率、无污染、定位精度高等优点，且执行器结构简单，操作方便，维修便利，对硅片的损伤小，所以将此项技术应用在硅晶片化学机械抛光设备中是很合适的。
应用于硅片化学机械抛光设备中的机械手终端夹持执行

[发明专利]化学机械抛光设备硅片清洗装置-CN200910175353.4有效
发明人： 高文泉;王东辉;陈波;廖垂鑫;陈威;柳滨 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-12-14 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学机械抛光设备硅片清洗装置，涉及化学机械抛光设备技术领域。具有硅片定位托，硅片定位托固定在中心板上，中心板上设有硅片定位托起及复位装置，并设有硅片旋转装置。本发明很好解决了现有技术中长期存在且一直未解决的问题，采用此装置可以实现硅片的准确定位、可靠清洗及复位，使硅片得到高洁净度和高效的清洗效果，少报废，降低成本；用途广，适用于晶体管和集成电路生产的各工序中硅片的清洗，尤其适用于化学机械抛光后的硅片清洗，不仅可以大大提高硅片抛光片表面的洁净度，而且可以更好地服务于抛光后的终点检测。
化学机械抛光设备硅片清洗装置

[发明专利]应用于硅片化学机械抛光设备中的定位转换装置-CN200910227835.X有效
发明人： 高文泉;王伟;李伟;王东辉;郭强生 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： B24B7/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种定位装置。装置主要包括基板、驱动装置和定位在基板上的由驱动装置驱动的同步定位装置。采用硅片托来放置机械手干末端执行器运送过来的待抛光硅片，伺服电机驱动齿轮转动，齿轮和转盘啮合，进而带动与转盘相连接的各拉钩件转动，从而拉动各定位杆在基板的限位条孔中同时定向移动，当定位杆接触到硅片边缘时即实现定位功能，此时安装在固定板上的光电传感器感测到转盘上限位板的存在，控制中心随即发出指令使伺服电机反转以使定位杆恢复到最初位置。定位前后，分别是机械手的干、湿末端执行器捉取硅片，可以避免末端执行器对已抛光或未抛光硅片的交叉污染。同时该定位过程也为机械手及时更换干/湿末端执行器赢取了时间，有利于硅片装载、抛光过程的顺利进行。
应用于硅片化学机械抛光设备中的定位转换装置

[发明专利]化学机械抛光设备硅片定位装片装置-CN200910175352.X无效
发明人： 高文泉;廖垂鑫;陈威;李伟;王伟;柳滨 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十五研究所
申请日： 2009-12-14 - 公布日： 2010-05-12 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学机械抛光设备硅片定位装片装置，涉及化学机械抛光设备技术领域。具有装载底盘，装载底盘上固定有装载引导环，装载引导环内设有第1斜倒角和第2斜倒角；装载底盘上设有水压喷嘴，水压喷嘴与可装在第2斜倒角上的硅片间具有间隙。采用此装置可以实现硅片精确定位、顺利装片和卸片以便抛光过程的正常进行，并且整个过程对硅片不会产生划痕，有利于提高硅片的加工质量和效率。
化学机械抛光设备硅片定位装置

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