|
钻瓜专利网为您找到相关结果 918个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]离子束刻蚀电极装置-CN202321221025.5有效
-
韩华;马宏图;汪明刚;李琳琳
-
中国科学院自动化研究所
-
2023-05-19
-
2023-09-12
-
H01J37/32
- 本实用新型涉及脑科学设备技术领域,尤其涉及一种离子束刻蚀电极装置,旨在解决基片取放不便的问题。本实用新型包括转动挡板、升降压板、载片台和电极;载片台放置于电极上,用于承载基片;升降压板可在竖直方向移动以向下压紧载片台;转动挡板设置于载片台上方并可在水平面内转动以远离载片台。本实用新型将基片放置于载片台,并通过升降压板在竖直方向的移动将载片台压紧在电极上,防止载片台因电极的角度调整以及旋转导致偏移滑动甚至脱落,影响正常工作。通过升降压板的竖直运动实现对载片台的松开和锁紧来代替粘接或螺丝紧固的方式,可极大提高载片台的拆装效率,节约了取送片的时间。
- 离子束刻蚀电极装置
- [实用新型]离子源结构装置-CN202321223270.X有效
-
马宏图;韩华;汪明刚;李琳琳
-
中国科学院自动化研究所
-
2023-05-19
-
2023-09-12
-
H01J37/08
- 本实用新型涉及脑科学设备技术领域,尤其涉及一种离子源结构装置,旨在解决离子源结构维护周期短,影响机台工艺效率的问题。本实用新型提供的离子源结构装置包括介质耦合窗、等离子体限制桶、内衬和多孔栅板;介质耦合窗与等离子体限制桶的上端连接,多孔栅板与等离子体限制桶的下端连接;内衬设置于等离子体限制桶内并与多孔栅板连接以形成容纳空间;内衬上开设有通孔。本实用新型通过在等离子体限制桶内设置内衬,内衬上开孔,多孔栅板和基片上的材料溅射出来生长到介质耦合窗和内衬的内表面,由于内衬的阻挡和分割,在内衬和介质耦合窗上形成不连续的金属薄膜,避免形成法拉第屏蔽,保证了离子源的稳定性,延长了维护时间。
- 离子源结构装置
- [实用新型]离子栅结构装置-CN202321224357.9有效
-
马宏图;韩华;汪明刚;李琳琳
-
中国科学院自动化研究所
-
2023-05-19
-
2023-09-12
-
H01J37/32
- 本实用新型涉及脑科学设备技术领域,尤其涉及一种离子栅结构装置,旨在解决离子轰击对生物组织样片的压实问题。本实用新型包括等离子体限制桶、栅网、样片台、栅网偏置电源和样片偏置电源;等离子体限制桶内设置有等离子体区,等离子体从等离子体区经栅网出射到样片台;栅网偏置电源一端接地,另一端与栅网连接;样片偏置电源一端与栅网偏置电源连接,另一端与样片台连接。本实用新型通过设置栅网偏置电源和样片偏置电源对离子出射速度进行调节,以降低离子能量,进而消除生物组织样片处理过程的表面压实效应。
- 离子结构装置
- [发明专利]离子源结构装置-CN202310570106.4在审
-
马宏图;韩华;汪明刚;李琳琳
-
中国科学院自动化研究所
-
2023-05-19
-
2023-08-15
-
H01J37/08
- 本发明涉及脑科学设备技术领域,尤其涉及一种离子源结构装置,旨在解决离子源结构维护周期短,影响机台工艺效率的问题。本发明提供的离子源结构装置包括介质耦合窗、等离子体限制桶、内衬和多孔栅板;介质耦合窗与等离子体限制桶的上端连接,多孔栅板与等离子体限制桶的下端连接;内衬设置于等离子体限制桶内并与多孔栅板连接以形成容纳空间;内衬上开设有通孔。本发明通过在等离子体限制桶内设置内衬,内衬上开孔,多孔栅板和基片上的材料溅射出来生长到介质耦合窗和内衬的内表面,由于内衬的阻挡和分割,在内衬和介质耦合窗上形成不连续的金属薄膜,避免形成法拉第屏蔽,保证了离子源的稳定性,延长了维护时间。
- 离子源结构装置
|