专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]液晶显示母板-CN202010183458.0有效
  • 雍玮娜;黎蔚 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2020-03-16 - 2022-11-25 - G02F1/1333
  • 本发明提供一种液晶显示母板,本发明中液晶显示母板包括基板以及阵列分布在基板上多个显示单元,每一个显示单元包括显示区以及围绕显示区且表面设置的功能信号线;相邻的显示单元的同一功能信号线通过拼接线电性接触,其中,拼接线包括相重叠设置的第一部分和第二部分,在重叠区的边缘上形成有多个平滑结构,该平滑结构为钝角或圆弧,不易积累电荷,避免形成尖端放电情况发生,提升液晶显示母板的生产良率,降低生产成本。
  • 液晶显示母板
  • [发明专利]显示面板及显示装置-CN202210889140.3在审
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-07-27 - 2022-10-25 - G02F1/1335
  • 本申请公开一种显示面板及显示装置。显示面板包括基板和阵列设置于基板上的显示单元,显示单元包括:像素区域,至少包括依次间隔设置在基板上的第一子像素、第二子像素及第三子像素,且第一子像素、第二子像素和第三子像素由第一色阻材料、第二色阻材料和第三色阻材料形成;遮光区域,围绕像素区域中的第一子像素、第二子像素及第三子像素,遮光区域包括第一遮光层和第二遮光层,第一遮光层包括第一下遮光区,第二遮光层包括第一上遮光区,第一下遮光区与第一上遮光区由不同的色阻材料形成。本申请直接将像素区域各子像素的色阻材料组合制备遮光区域,不需要额外为遮光区域增加不同颜色的色阻材料,降低产品成本。
  • 显示面板显示装置
  • [发明专利]显示面板及其制备方法、显示模组-CN202110367369.6有效
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2021-04-06 - 2022-07-12 - G02F1/1333
  • 本申请提出了一种显示面板及其制备方法、显示模组,该显示面板包括玻璃基板,位于玻璃基板之上的光阻层,其中,玻璃基板与光阻层之间设有一粘结层,粘结层用于粘结玻璃基板与光阻层,粘结层由一混合改性剂分别与玻璃基板、光阻层反应形成。本申请通过在玻璃基板与光阻层之间设有一粘结层,该粘结层由一混合改性剂与玻璃基板、光阻层共同反应形成,增强了粘结层与玻璃基板之间的结合力,粘结层与光阻层之间的结合力,从而增强了玻璃基板与光阻层之间的粘结强度,提高了显示面板的可靠性。
  • 显示面板及其制备方法模组
  • [发明专利]显示面板及移动终端-CN202111527342.5在审
  • 杨柳;雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2021-12-14 - 2022-03-25 - G02F1/1362
  • 本申请实施例提供一种显示面板及移动终端;该显示面板包括多个子像素,每一个子像素包括薄膜晶体管及存储电容,存储电容包括第一电极板及第二电极板,其中,子像素还包括至少一扩展电容,扩展电容包括第一子电极板及第二子电极板,第一子电极板与第一电极板电连接,第二子电极板与第二电极板电连接;上述显示面板通过在每个子像素中的至少一个存储电容上电连接一个扩展电容,且扩展电容设置于子像素对应的像素电极区,增设的扩展电容能够在不影响子像素的开口率的同时,增大与其电连接的存储电容的最大存储电容量,有效防止了显示面板在切换刷新频率过程中因场消隐阶段的时长不同而导致像素电位下降的现象。
  • 显示面板移动终端
  • [发明专利]一种薄膜晶体管的制备方法、薄膜晶体管及显示面板-CN202110881972.6在审
  • 雍玮娜 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2021-08-02 - 2021-11-26 - H01L21/34
  • 本发明涉及一种薄膜晶体管的制备方法、薄膜晶体管及显示面板。本发明先在有源层远离栅极绝缘层的一侧的表面上依次制备第一金属层和第二金属层,然后对第一金属层和第二金属层进行图案化处理,然后采用电镀工艺在图案化处理后的第二金属层远离第一金属层的一侧的表面上制备第三金属层,第三金属层还覆盖于第二金属层的侧壁和第一金属层的侧壁上。采用电镀工艺制备第三金属层,第三金属层可以按照第二金属层的图案进行生长,避免对第三金属层进行图案化处理,进而避免现有技术中存在的源漏极层的蚀刻异常现象。利用第三金属层保护第二金属层,防止退火处理时第二金属层发生氧化,进而提升薄膜晶体管的电性性能,最终提升显示面板的显示效果。
  • 一种薄膜晶体管制备方法显示面板
  • [发明专利]液晶面板的外围电路结构以及液晶显示母板-CN201811258712.8有效
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2018-10-26 - 2021-10-29 - G02F1/133
  • 本发明公开了一种液晶面板的外围电路结构,设置在面板单元中,所述面板单元包括尺寸互不相同的第一液晶面板和第二液晶面板,其中,所述外围电路结构包括:与第一液晶面板的信号输入端子电性连接的第一组信号线、与第二液晶面板的信号输入端子电性连接的第二组信号线、分别与第一组信号线电性连接的第一组HVA配向垫和第一组阵列测试垫、分别与第二组信号线电性连接的第二组HVA配向垫和第二组阵列测试垫;其中,所述第一组信号线从面板单元的第一边缘区域经由第二边缘区域延伸至第三边缘区域,所述第二组信号线从面板单元的第一边缘区域经由第四边缘区域延伸至第三边缘区域。本发明还公开了一种液晶显示母板,其包括如上所述的外围电路结构。
  • 液晶面板外围电路结构以及液晶显示母板
  • [发明专利]阵列基板及其制备方法、液晶显示面板-CN202010170962.7在审
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2020-03-12 - 2020-07-17 - G02F1/1362
  • 本申请提供一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板,阵列基板包括衬底、驱动电路层、像素电极层和散光层,驱动电路层形成在衬底一侧;像素电极层形成在驱动电路层远离衬底的一侧,包括阵列分布且相互独立的多个像素电极,像素电极包括远离衬底的一侧的电极表面;散光层形成在像素电极层远离驱动电路层的一侧,包括阵列分布且相互连接的多个散光构件,散光构件与像素电极对应,散光构件包括远离像素电极一侧的出光面,出光面的面积大于电极表面的面积。通过在像素电极上形成散光层,且散光层的出光面面积大于像素电极的电极表面面积,后续形成液晶显示面板后背光模组发出的光线进入散光层,在出光面上发生折射,因此增大了出光角度,增大了视角。
  • 阵列及其制备方法液晶显示面板
  • [发明专利]显示模组及显示装置-CN202010275699.8在审
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2020-04-09 - 2020-06-26 - G02F1/13357
  • 本发明公开了一种显示模组及显示装置,该显示模组包括:液晶显示面板;Micro LED显示面板,设置于液晶显示面板的下方,与液晶显示面板相贴合,Micro LED显示面板仅显示白色;第一驱动芯片,与液晶显示面板相连,用于驱动液晶显示面板发光显示;第二驱动芯片,与Micro LED显示面板相连,用于驱动Micro LED显示面板发光显示。通过采用液晶显示面板和Micro LED显示面板贴合的双层面板设计,去掉背光模组,Micro LED显示面板同时起到背光模组的作用,减少了显示模组的能耗;Micro LED显示面板仅显示白色,通过控制Micro LED显示面板内子像素的发光显示,可以精细地调整液晶显示面板内每一颗像素所需的背光亮度,达到亮度的精准区分,从而显著提高双层显示面板的对比度。
  • 显示模组显示装置
  • [发明专利]液晶显示面板和液晶显示装置-CN202010164458.6在审
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2020-03-11 - 2020-06-05 - G02F1/1347
  • 本发明提供一种液晶显示面板和液晶显示装置,该液晶显示面板通过将第二液晶显示面板的透光区的面积设定为比第一液晶显示面板的显示区大,且显示区位于透光区内,使得在第一液晶显示面板和第二液晶显示面板贴合出现错位时,由于透光区大于显示区,使得光线仍然能够透过显示区,从而使得显示面板的边缘正常显示,解决了现有双层显示面板存在由于两层显示面板的显示区错位,导致双层显示面板的边缘显示异常的技术问题。
  • 液晶显示面板液晶显示装置
  • [发明专利]阵列基板及其制作方法-CN202010018793.5在审
  • 雍玮娜 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2020-01-08 - 2020-05-05 - H01L21/77
  • 本发明提供一种阵列基板及其制作方法,阵列基板的制作方法通过采用多段式掩膜板对位于源漏极金属层上的光刻胶层进行曝光显影,以使对应显示区的第一薄膜晶体管沟道区域的剩余光刻胶层的厚度等于对应GOA区的第二薄膜晶体管沟道区域的剩余光刻胶层的厚度,从而经过灰化处理后完全去除光刻胶层,使得后续第一薄膜晶体管沟道区域和第二薄膜晶体管沟道区域能够刻蚀完全,避免第一薄膜晶体管的源漏极、以及第二薄膜晶体管源漏极之间出现短路情况发生,从而弥补因显示区和GOA区薄膜晶体管密度差异等原因造成的显影液作用效率不同的缺陷。
  • 阵列及其制作方法
  • [发明专利]改善拼接曝光姆拉现象的方法-CN201710739084.4有效
  • 雍玮娜;徐向阳 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2017-08-25 - 2020-03-10 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种改善拼接曝光姆拉现象的方法,涉及显示面板的制造领域,用于解决现有技术中存在的获得的拼接处的亮度不均,出现拼接姆拉的技术问题。本发明的改善拼接曝光姆拉现象的方法,包括第一掩膜版获得具有黑色矩阵的基板的步骤、用第二掩膜版获得具有色组单元的基板的步骤以及用第三掩膜版获得具有隔垫物的基板的步骤,通过对不同的制程采用不同的掩膜版,并且由于第一掩膜版、第二掩膜版以及第三掩膜版上曝光区的面积均不相同,因此在不同的制程中,基板上拼接处的位置均不相同,因此能够来弱化拼接位置处的异常曝光量,减弱因制程因素对拼接姆拉的恶化作用,从而改善面板在拼接处的质量。
  • 改善拼接曝光现象方法

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