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[发明专利]一种有机光伏器件性能分析优化方法和系统-CN202110248535.0有效
发明人：谷洪刚;赵雪楠;刘世元;陈林雅;江浩 -专利权人：武汉宇微光学软件有限公司
申请日： 2021-03-08 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种有机光伏器件性能分析优化方法和系统，属于有机光伏器件领域。本发明针对OPV器件内可能出现的多种膜层特征(各向同性膜层、各向异性膜层、表面粗糙度层、界面层、纳米结构)建立全面的光学模拟方法，通过优化器件产生的短路电流密度得到器件最优结构尺寸，适用于对包含不均匀膜层、各向异性膜层、周期性纳米结构等复杂特征的OPV器件进行结构尺寸优化以提高OPV的光电转化效率，原理简单、易于操作，在OPV结构优化设计领域有广泛的应用前景。
一种有机器件性能分析优化方法系统

[发明专利]一种跨尺度光电器件快速光学仿真方法和系统-CN202211159829.7在审
发明人：谷洪刚;陈林雅;刘世元 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明属于光电器件技术领域，并具体公开了一种跨尺度光电器件快速光学仿真方法和系统，其包括：S1、根据光电器件各膜层区域的尺寸划分功能层和非功能层；S2、对功能层，判断其复杂特征类型，采用相应的物理光学仿真方法处理复杂特征，得到界面处的光学特性；S3、根据光电器件的功能判断该光电器件是有源器件还是无源器件，进而确定光源特性；S4、根据光源特性以及界面处的光学特性，并对非功能层采用几何光学仿真方法，计算整个光电器件的光学特性参数，完成对光电器件的快速光学仿真。本发明针对实际三维跨尺度光电器件中可能存在的复杂特征建立了快速光学模拟方法，能够反映器件光学性能的变化规律及趋势。
一种尺度光电器件快速光学仿真方法系统

[发明专利]一种OLED器件多个目标的协同优化方法-CN202011321669.2有效
发明人：谷洪刚;刘世元;陈林雅;柯贤华;赵雪楠;江浩 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明属于OLED器件相关技术领域，其公开了一种OLED器件多个目标协同优化方法，该方法首先分别获取多个目标与OLED器件膜层的厚度矩阵的关系式；然后分别获取多个关系式与其对应的预设目标期望值的偏差，并建立多个偏差的联合函数以获取联合优化函数；接着改变联合优化函数中膜层厚度矩阵中的第k个膜层的厚度，分别获取多个膜层厚度的全局灵敏度函数；最后改变全局灵敏度函数中的膜层厚度计算对应的灵敏度函数值，将灵敏度函数值大于预设值的膜层作为待优化层，联合调节待优化层的膜层厚度使得联合优化函数达到极值或常数最大值，即可获得膜层厚度优化后的OLED器件。本申请从多维度对OLED器件的厚度进行优化，获得各方面性能均较优的器件。
一种 oled 器件目标协同优化方法

[发明专利]一种发光器件激子特性参数反演方法及装置-CN202110705702.X有效
发明人：谷洪刚;陈林雅;刘世元;柯贤华;江浩 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2021-06-24 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种发光器件激子特性参数反演方法及装置，属于发光器件领域，方法包括：构建基于发光器件TM/TE偏振态远场视角光谱、激子特性参数以及ETL膜层厚度的正向模型；调整正向模型中ETL膜层厚度，筛选出对激子分布函数敏感的第一ETL膜层厚度集；基于实际测量的TE偏振态远场视角光谱与基于最终ETL膜层厚度获取的理论TE偏振态远场视角光谱，结合线性拟合方法与非线性拟合方法，获取发光器件最终的激子分布函数；基于最终的激子分布函数和实际测量的TE偏振态远场视角光谱，采用最小二乘法反演得到激子取向参数。本发明无需提前获取激子分布初始形貌，实现了发光器件特性参数的准确、鲁棒性良好地反演。
一种发光器件激子特性参数反演方法装置

[发明专利]一种多功能全息干涉测量系统-CN201910654549.5有效
发明人：马树军;陈林雅;朱建忠;周旭;杨康;方锐 -专利权人：东北大学
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明的一种多功能全息干涉测量系统，包括：减振平台、调焦装置、载物平台、测量光路模块、下壳体和上壳体，调焦装置和载物平台设置于下壳体内，测量光路模块设置于上壳体内，下壳体固定在减振平台上。减振平台采用弹簧阻尼减振结构，用于实现被动减振的目的。调焦装置采用蜗轮螺杆升降结构，用于实现上壳体内的测量光路模块的上下移动。载物平台用于放置待测样品并实现样品的水平移动，包括：从下至上依次设置的底部粗调部分、纳米压电精调部分和调平部分。测量光路模块用于实现反射式测量和透射式测量。该系统能同时进行反射式测量和透射式测量，整个光路结构紧凑，方便高效。
一种多功能全息干涉测量系统