“陈南曙”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果11个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机-CN202010762680.6有效
发明人：冯建斌;陈南曙 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置和光刻机，所述测量方法包括，利用面形标定方法，离线标定工件台上基准板的参考面形以及在线标定所述基准板的测量面形；根据所述参考面形和所述测量面形，获得基准板漂移量、变形量以及测量传感器漂移量。本发明公开的一种用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置和光刻机，能够实时探测并校准基准板的形变漂移量，减小光刻机系统误差，缩短后续掩模对准时间，提升产率。
用于光刻设备测量组件测量方法装置

[发明专利]工件台位置校准方法、FLS垂向定位工装及工件台测量系统-CN201910678040.4有效
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种工件台位置校准方法、FLS垂向定位工装及工件台测量系统，所述工件台位置校准方法主要通过装设于主基板上的FLS垂向定位工装，对先后装设于工件台上的多面镜工装反射镜与第一基准板进行测量，分别得到第一垂向位置与所述第二垂向位置，进而基于所述第一垂向位置与所述第二垂向位置，校准所述工件台的垂向零位。由于在多面镜工装反射镜完成距物镜像距的位置调整后，多面镜工装反射镜的上表面即与物镜像面位置一致，进而以第一垂向位置为基准，根据第二垂向位置调整工作台的垂向零位，相比现有技术，直接以第一基准板的上表面与物镜像面的关系为基准，校准精度高，故而可提高工件台的定位精度。
工件位置校准方法 fls 定位工装测量系统

[发明专利]一种掩模版及离焦量的方法-CN201811161492.7有效
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版及离焦量的测量方法，掩模版包括掩模版主体，掩模版本体包括至少一个校准视场区，每个所述校准视场区设置有至少一个可透光的参考标记和至少一个可透光的可折光标记结构；其中，校准光线经所述参考标记后沿原传播方向传播，校准光线经所述可折光标记结构后发生折射，掩模版本体包括层叠设置的掩模基底和掩模层，掩模基底为透光膜层，掩模层包括透光区和非透光区，可折光标记结构的部分或全部以及参考标记设置于透光区。本发明的掩模版及离焦量的测量方法能够消除物镜畸变对测量到的离焦量的影响，准确高效地确定当前像平面内多个点的离焦量。
一种模版离焦量方法

[发明专利]一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法-CN201610925991.3有效
发明人：韩春燕;陈南曙 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-10-24 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法，该装置包括掩模版，掩模版上设有用于运动台定位误差测量的测量标记，测量标记包括X向测量标记和Y向测量标记；掩模台，用于承载掩模版；工件台，用于承载涂胶后的基底；投影物镜，将掩模版上的测量标记成像到基底上；对准装置，用于测量测量标记在显影后基底上的成像标记。在掩模版上设置X向测量标记和Y向测量标记，针对工件台和掩模台进行定位误差测试曝光，通过对准装置测量得到工件台和掩模台的定位误差，数据处理得到定位误差补偿表；利用得到的补偿表分别对工件台控制系统和掩模台控制系统进行前馈补偿，本发明可以用于在线补偿和离线校准，不受传感器类型限制，具有更强的适应性。
一种运动定位误差补偿装置方法

[发明专利]一种位移测量系统以及曝光设备-CN201710114465.3有效
发明人： 陈南曙;张金贵 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种位移测量系统以及曝光设备，该位移测量系统包括安装在运动台下表面的位移传感器、设在运动台下方的目标平面光栅以及信号处理单元，目标平面光栅为反射光栅，所述位移传感器发射光束至所述目标平面光栅，并接收经所述目标平面光栅反射的光束，所述信号处理单元接收位移传感器发送的信号后计算所述运动台相对所述目标平面光栅的位移，再结合所述主基板所在的目标物坐标系与所述目标平面光栅所在的运动台坐标系之间的位置关系计算所述运动台相对所述目标物的位移。本发明采用物镜、运动台、目标平面光栅的布局方式，目标平面光栅不会引入由拼接造成的测量误差，且易于制造；物镜与运动台之间的空间未被占用，可安装更多类型的传感器。
一种位移测量系统以及曝光设备

[发明专利]基于衍射光栅的位移测量系统及方法-CN201610072573.4在审
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2016-02-01 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基于光栅的位移测量系统和方法，通过设置光源、棱镜与衍射光栅以及光电探测器，并配置相应的控制系统，由于棱镜固定在能够移动的工作台上，衍射光栅固定在整机框架上，当能够移动的工作台相对于光刻机的整机框架作位移时，光源发出的光通过衍射光栅衍射后产生的干涉条纹则发生变化，因此通过控制系统对干涉条纹的变化计算可得出能够移动的工作台相对于光刻机的整体框架的位移量。这种测量系统结构简单，安装方便，由于放置在密闭包装箱体中进行测量，在测量时受到外界的干扰较小，因此相对于传统的干涉仪测量精度更高。
基于衍射光栅位移测量系统方法

[发明专利]一种光刻机垂向控制参数校准方法-CN201410137059.5有效
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-04-08 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种光刻机垂向控制参数校准方法，其特征在于包括如下步骤步骤1初始化工件台、掩模台、掩模调焦调平传感器、同轴对准分系统；步骤2上载掩模版；步骤3将掩模对准标记运动到同轴对准位置；步骤4设置掩模台以指定步长在指定范围内垂向运动，工件台跟随掩模台运动；步骤5记录每一步测量得到的掩模调焦调平传感器与工件台光栅尺读数；重复步骤4直至掩模台完成所述指定范围内的垂向运动；步骤6计算两组数据的比例系数；步骤7以工件台光栅尺的测量数据为基准更新掩模调焦调平传感器的比例系数。
一种光刻控制参数校准方法

[发明专利]一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置及方法-CN201410632668.8在审
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-11-11 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行的边缘平行；一光电探测器，用于探测若干所述光斑经所述掩模版反射后的垂向度值；一处理器，用于根据若干所述光斑垂向度值计算掩模台的倾斜偏差。
一种测量光刻机掩模台倾斜度装置方法

[发明专利]一种调焦调平光斑位置校准方法-CN201210240355.9有效
发明人： 陈南曙 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-07-12 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种调焦调平光斑位置校准方法，其特征在于，包括：（a）将一光源经狭缝后在基板上形成测量光斑；（b）移动所述基板至所述测量光斑位置处；（c）扫描所述测量光斑的左右两侧边界，探测所述测量光斑经所述基板反射后的信号，获得所述测量光斑的水平位置及放大倍率；（d）使所述测量光斑在所述基板内侧的边缘步进运动；（e）探测所述测量光斑的实际高度值，根据所述实际高度和所述水平位置进行拟合运算，获得所述测量光斑的零位偏差。
一种调焦平光位置校准方法

[发明专利]基板垂向光电检测装置及方法-CN201210189343.8有效
发明人： 陈南曙;李术新 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-06-08 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种基板垂向光电检测装置及方法，所述装置包括：用于产生入射到所述待测基板上的投影光束的激光源，在所述投影光束于待测基板上的反射光方向依次设置有检测光栅、第一透镜、楔形棱镜组、参考光栅及检测模块，所述投影光束的反射光经过检测光栅产生衍射，该各级次的衍射光由第一透镜收集进而由对应设置的楔形棱镜组分离，分离后经过对应设置的所述参考光栅再度产生衍射，再分别由对应设置的检测模块的接收以检测各级次的衍射光的光强。本发明基板垂向光电检测装置及方法提高了检测精度，且结构较简单，成本较低。
基板垂光电检测装置方法

[发明专利]用于光刻设备的调焦测控装置及方法-CN201010572174.7无效
发明人： 陈南曙;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-03 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种用于光刻设备的调焦测控装置及方法，该装置包括光源模块、光学透镜模块、标准平面透镜、执行模块、探测器模块以及处理模块，该光源模块发出的光束经过该光学透镜模块、标准平面透镜及被测对象后形成参考光束及检测光束，该探测器模块通过检测不同焦平面位置处的参考光束和检测光束的干涉条纹光强以获得该被测对象的表面面形数据，该处理模块接收该被测对象的表面面形数据，对该表面面形数据进行拟合以计算出所述被测对象相对于最佳焦平面的变化量，以供所述执行模块依据所述处理模块的计算结果驱动所述被测对象至最佳焦平面。
用于光刻设备调焦测控装置方法

1
共 11 条