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[发明专利]硫属化物玻璃的制造方法-CN202080022307.5在审
发明人： 长嶋达雄;宫泽宏泰;伊藤和弘;东诚二;井口义规;宫下纯一;西沢学;北冈贤治 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C03B3/02 文献下载
摘要：本发明涉及包括下述工序的含有硫的硫属化物玻璃的制造方法。机械化学处理工序：对包含硫与除硫以外的其他原料的混合物进行机械化学处理，使硫的至少一部分非晶化的工序；和熔融工序：将机械化学处理后的混合反应物搅拌熔融后冷却，得到硫属化物玻璃的工序，或者在机械化学处理后的混合反应物中加入除硫以外的其他原料而得到混合反应物，将该混合反应物搅拌熔融后冷却，得到硫属化物玻璃的工序。
硫属化物玻璃制造方法

[发明专利]光学玻璃和光学部件-CN201980011092.4在审
发明人：安间伸一;长嶋达雄 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C03C3/097 文献下载
摘要：本发明提供一种高折射率、低密度且制造特性良好的光学玻璃。一种光学玻璃，特征在于，折射率(nd)为1.71～2.00，密度为5.0g/cm3以下，并且玻璃的粘度成为logη＝2的温度为750～1200℃，失透温度为1300℃以下，并且以氧化物基准的摩尔％表示，含有0％～21.5％TiO2。该光学玻璃是高折射率且低密度，并且制造特性良好，适合作为穿戴式设备、车载用、机器人搭载用等的光学部件。
光学玻璃光学部件

[发明专利]光学玻璃、光学部件和光学设备-CN201880075472.X在审
发明人：安间伸一;长嶋达雄 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明提供光学玻璃、使用该光学玻璃的光学部件和光学设备，该光学玻璃是高折射率的玻璃，在与调光部件组合时改善其色调，适合用作穿戴式设备的部件。折射率为1.55以上、CIELab表示的A光源下的色度b*满足b*＞4.8的光学玻璃(11)，具有将该光学玻璃(11)和调光部件(12)重叠的构成的光学部件(10)，以及使用该光学部件(10)的光学设备。
光学玻璃光学部件设备

[发明专利]光学玻璃、光学部件和可穿戴设备-CN201880069074.7在审
发明人：安间伸一;长嶋达雄 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2018-10-03 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C03C3/097 文献下载
摘要：本发明提供一种产品特性良好的光学玻璃，是高折射率的玻璃，其强度与以往相比进一步提高。一种折射率(nd)为1.55以上的光学玻璃，上述光学玻璃的虚拟温度(Tf)与玻璃化转变温度(Tg)之差(Tf‑Tg)为0℃以上，以及使用该光学玻璃的光学部件及可穿戴设备。该光学玻璃的裂纹产生负荷L优选为350mN以上。
光学玻璃光学部件穿戴设备

[发明专利]光学玻璃和光学部件-CN201880041929.5在审
发明人：安间伸一;长嶋达雄 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C03C3/064 文献下载
摘要：本发明提供一种高折射率且透光率良好、并且连续熔解的熔解性也高、制造特性良好的光学玻璃。所述光学玻璃是折射率(nd)为1.64以上的光学玻璃，下述式(1)所示的P值为7.0＜P值＜10.0的范围，波长450nm、550nm、650nm和750nm处的10mm厚度换算的内部透射率全部为91％以上(式中，A450、A550、A650、A750分别表示波长450nm、550nm、650nm、750nm处的厚度10mm的光学玻璃的吸光度，P450、P550、P650、P750分别表示普朗克辐射定律的波长450nm、550nm、650nm、750nm的光的辐射亮度)。P值＝log(A450×P450+A550×P550+A650×P650+A750×P750)…(1)。
光学玻璃光学部件

[发明专利]光学玻璃和光学部件-CN201780045476.9在审
发明人：安间伸一;长嶋达雄;秋叶周作 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： C03C3/097 文献下载
摘要：本发明提供一种高折射率且低密度并且制造特性良好的光学玻璃。本发明提供一种光学玻璃和使用该光学玻璃的光学部件，所述光学玻璃的折射率(n_d)为1.68～1.85，密度为4.0g/cm³以下且玻璃的粘性成为logη＝2的温度为950～1200℃。该光学玻璃为高折射率且低密度，并且制造特性良好，适合作为可佩戴设备、车载用、机器人搭载用等的光学玻璃。
光学玻璃高折射率光学部件可佩戴设备折射率机器人制造玻璃

[发明专利]信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘-CN201510415671.9在审
发明人：远藤淳;长嶋达雄;中岛哲也;M·D·雷耶斯 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，所述玻璃包含：61～72％的SiO₂、3～12％的Al₂O₃、0～14.3％的Li₂O、0～22％的Na₂O、0～22％的K₂O、4～13％的MgO、0～6％的TiO₂和0～5％的ZrO₂；限制条件是：Li₂O、Na₂O和K₂O的总含量、即R₂O的含量为8～22％，并且(a)Li₂O的含量和R₂O的含量之比Li₂O/R₂O至多为0.52，(b)Na₂O的含量和R₂O的含量之比Na₂O/R₂O至少为0.35，或者(c)K₂O的含量和R₂O的含量之比K₂O/R₂O至少为0.45。
信息记录介质基板用玻璃磁盘

[发明专利]信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘-CN201410452720.1无效
发明人：远藤淳;长嶋达雄;中岛哲也;M·D·雷耶斯 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，所述玻璃包含：61～72％的SiO₂、3～12％的Al₂O₃、0.1～14.3％的Li₂O、0～22％的Na₂O、0～22％的K₂O、4～13％的MgO、0～6％的TiO₂和0～5％的ZrO₂；限制条件是：Li₂O、Na₂O和K₂O的总含量、即R₂O的含量为8～15％，并且(a)Li₂O的含量和R₂O的含量之比Li₂O/R₂O至多为0.52，(b)Na₂O的含量和R₂O的含量之比Na₂O/R₂O至少为0.35，或者(c)K₂O的含量和R₂O的含量之比K₂O/R₂O至少为0.45。
信息记录介质基板用玻璃磁盘

[发明专利]数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板及磁盘-CN201110462715.5无效
发明人： 长嶋达雄;永井研辅;中岛哲也;前田敬 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2008-12-22 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： C03C3/095 文献下载
摘要：本发明提供可获得高耐热性的数据存储介质基板用玻璃，其特征在于，以基于下述氧化物的摩尔百分率表示含有55～70％的SiO2、2.5～9％的Al2O3、0～10％的MgO、0～7％的CaO、0.5～10％的SrO、0～12.5％的BaO、0～2.5％的TiO2、0.5～3.7％的ZrO2、0～2.5％的Li2O、0～8％的Na2O、2～8％的K2O、0.5～5％的La2O3，Al2O3和ZrO2的合计含量(Al2O3+ZrO2)为12％以下，Li2O、Na2O和K2O的合计含量R2O为12％以下。
数据存储介质基板用玻璃磁盘

[发明专利]数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板-CN201110254222.2无效
发明人：永井研辅;中岛哲也;前田敬;长嶋达雄 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2008-03-21 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： C03C3/085 文献下载
摘要：本发明的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在685℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。本发明的数据存储介质用基板玻璃的特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～6％的CaO、1～18％的SrO、3.7～13％的BaO、1～6％的TiO2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，玻璃化温度在685℃以上。
数据存储介质用基板玻璃

[发明专利]数据存储介质用基板玻璃及玻璃基板-CN201110254243.4无效
发明人：永井研辅;中岛哲也;前田敬;长嶋达雄 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2008-03-21 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： C03C3/087 文献下载
摘要：本发明的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在685℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。本发明的数据存储介质用基板玻璃的特征在于，以质量％表示含有47～60％的SiO2、8～20％的Al2O3、0～8％的MgO、0～2.4％的CaO、1～18％的SrO、0～13％的BaO、1～6％的TiO2、1～5％的ZrO2、2～8％的Na2O、1～15％的K2O，K2O/Na2O：2.2～40，玻璃化温度在685℃以上。
数据存储介质用基板玻璃

[发明专利]信息记录介质基板用玻璃、信息记录介质用玻璃基板和磁盘-CN201010159823.0无效
发明人：远藤淳;长嶋达雄;中岛哲也;M·D·雷耶斯 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2010-10-13 - 主分类号： C03C3/083 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种耐酸性和耐候性良好的信息记录介质基板用玻璃。一种信息记录介质基板用玻璃，其特征在于，基于下述氧化物以摩尔％表示时，所述玻璃包含：61～72％的SiO2、3～12％的Al2O3、0～14.3％的Li2O、0～22％的Na2O、0～22％的K2O、4～13％的MgO、0～6％的TiO2和0～5％的ZrO2；限制条件是：Li2O、Na2O和K2O的总含量、即R2O的含量为8～22％，Li2O的含量和R2O的含量之比Li2O/R2O至多为0.52，Na2O的含量和R2O的含量之比Na2O/R2O至少为0.35，K2O的含量和R2O的含量之比K2O/R2O至少为0.45。
信息记录介质基板用玻璃磁盘

[发明专利]数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板及磁盘-CN200880001546.1有效
发明人： 长嶋达雄;永井研辅;中岛哲也;前田敬 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2008-12-22 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： C03C3/095 文献下载
摘要：本发明提供可获得高耐热性的数据存储介质基板用玻璃，其特征在于，以基于下述氧化物的摩尔百分率表示含有55～70％的SiO₂、2.5～9％的Al₂O₃、0～10％的MgO、0～7％的CaO、0.5～10％的SrO、0～12.5％的BaO、0～2.5％的TiO₂、0.5～3.7％的ZrO₂、0～2.5％的Li₂O、0～8％的Na₂O、2～8％的K₂O、0.5～5％的La₂O₃，Al₂O₃和ZrO₂的合计含量(Al₂O₃+ZrO₂)为12％以下，Li₂O、Na₂O和K₂O的合计含量R₂O为12％以下。
数据存储介质基板用玻璃磁盘

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