专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]垂直存储器装置-CN201710316294.2有效
  • 金敬勋;金泓秀 - 三星电子株式会社
  • 2017-05-08 - 2023-08-29 - H10B41/27
  • 提供一种垂直存储器装置,所述垂直存储器装置包括:基底,具有单元阵列区、字线接触区和外围电路区;栅电极,在单元阵列区和字线接触区中与基底平行,所述栅电极堆叠在垂直于基底的方向上并在所述垂直于基底的方向上间隔开;沟道结构,穿过单元阵列区中的栅电极,所述沟道结构电连接到基底;虚设沟道结构,穿过字线接触区中的栅电极,所述虚设沟道结构与基底间隔开;导线,平行于基底并电连接到第一栅电极,所述导线与虚设沟道结构的在竖直方向上的延伸部的至少一部分交叉。
  • 垂直存储器装置
  • [发明专利]竖直存储器件-CN201810466878.2有效
  • 金敬勋;金泓秀;李太熙 - 三星电子株式会社
  • 2018-05-16 - 2023-08-29 - H10B43/35
  • 本公开提供了竖直存储器件。一种竖直存储器件包括在基板的第一区域上的导电图案结构,该导电图案结构包括交错的导电图案和绝缘层的堆叠。焊盘结构设置在基板的第二区域上,基板的第二区域与基板的第一区域相邻,其中导电图案的边缘设置在沿着第一方向间隔开的点处以提供布置为阶梯布置中的各台阶的导电焊盘。多个沟道结构延伸穿过导电图案结构,并且多个虚设沟道结构延伸穿过焊盘结构。各接触插塞设置在导电焊盘上。穿过导电焊盘的虚设沟道结构的每单位面积的数量是变化的。穿过导电焊盘的虚设沟道结构的宽度也可以变化。
  • 竖直存储器件
  • [发明专利]半导体装置-CN201910071885.7有效
  • 洪基汶;金敬勋 - 爱思开海力士有限公司
  • 2019-01-25 - 2023-08-08 - H03K19/0185
  • 本申请公开了一种半导体装置。一种半导体装置包括输入选择电路,其响应于控制信号来选择第一输入信号与第二输入信号中的一个,并将所选择的输入信号输出为选择信号,其中第一输入信号与第二输入信号的摆动电平彼此不同。该半导体装置还包括转换电路,该转换电路响应于选择信号来产生输出信号,该输出信号摆动到与第二输入信号的电平实质相同的电平。
  • 半导体装置
  • [发明专利]包括连接器的电子装置-CN202180079721.4在审
  • 李宇光;具官会;金敬勋;金淑景;申东洛 - 三星电子株式会社
  • 2021-11-26 - 2023-07-28 - G06F1/16
  • 根据本文件中公开的一个实施例,一种电子装置包括壳体、电池、电力管理模块、连接器、装置识别电路、存储器和处理器,其中,连接器包括第一子引脚行和第二子引脚行。处理器或装置识别电路可以:当外部配件装置连接到连接器并且在第一识别引脚中检测到指定电阻值时,控制电力管理模块,以便向第一电力引脚供给第一电力信号并且向第二识别引脚供给第二电力信号;通过第一识别引脚或第一数据引脚接收配件装置的第一标识信息;以及当第一标识信息是指定值或者与在存储器中所存储的第二标识信息匹配时,控制电力管理模块,以便阻止第一电力信号并且维持第二电力信号。
  • 包括连接器电子装置
  • [发明专利]离型膜-CN202211562540.X在审
  • 金宪泰;金敬勋;裵锦瞳 - 三星显示有限公司
  • 2022-12-07 - 2023-07-18 - H05K1/02
  • 可以是,离型膜包括:第一离型膜,配置在印刷电路基板以及连接到所述印刷电路基板的连接器上;以及第二离型膜,配置在所述印刷电路基板之下,所述第一离型膜包括切开与所述印刷电路基板以及所述连接器不重叠的所述第一离型膜的部分而界定为具有在一方向上延伸的形状的固定部,所述固定部插入到界定在所述第二离型膜中的切开部。
  • 离型膜
  • [发明专利]垂直存储器件-CN201710561061.9有效
  • 金敬勋;金泓秀;李朱嬿 - 三星电子株式会社
  • 2017-07-11 - 2023-07-18 - H10B41/41
  • 一种垂直存储器件包括:包括单元区和外围电路区的衬底,在基本上垂直于衬底的上表面的垂直方向上顺序地堆叠在衬底的单元区上的栅电极,在单元区上并在垂直方向上延伸穿过栅电极的沟道,在外围电路区上并在垂直方向上延伸的第一下接触插塞,在外围电路区上与第一下接触插塞相邻并在垂直方向上延伸的第二下接触插塞,以及电连接到第一下接触插塞的第一上布线。第一上布线被配置为将电信号施加到第一下接触插塞。第二下接触插塞不被电连接到配置为施加电信号的上布线。
  • 垂直存储器件

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