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[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法-CN202110161152.X在审
发明人： 金原淳一;H·巴特勒;P·C·H·德威特;E·A·F·范德帕斯奇 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第―衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
光刻设备操作方法

[发明专利]光刻设备和操作光刻设备的方法-CN201680079692.0有效
发明人： 金原淳一;H·巴特勒;P·C·H·德威特;E·A·F·范德帕斯奇 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第一衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
光刻设备操作方法

[发明专利]量测设备和衬底平台输送装置系统-CN201880046374.3在审
发明人： F·G·C·比基恩;金原淳一;S·C·J·A·凯吉;T·A·马塔尔;P·F·范吉尔斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
设备衬底平台输送装置系统

[发明专利]曝光设备-CN201880010064.6在审
发明人： 金原淳一 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-01-30 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：提供一种曝光设备，包括第一衬底保持器、第二衬底保持器、传感器保持器、投影系统、测量装置和还一测量装置。所述第一衬底保持器被配置成保持衬底。所述第二衬底保持器被配置成保持所述衬底。所述传感器保持器被配置成保持传感器。投影系统被配置成利用曝光束曝光所述衬底。所述测量装置被配置成提供衬底的测量信息。所述还一测量装置被配置成提供该衬底的还一测量信息。所述传感器被配置成测量曝光束和/或投影系统的性质。所述投影系统被配置成利用曝光束使传感器曝光。
衬底配置衬底保持器测量装置投影系统曝光传感器传感器保持器曝光设备测量