专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]保护膜形成用薄膜-CN201480079216.X在审
  • 稻男洋一;野村秀一 - 琳得科株式会社
  • 2014-07-04 - 2017-02-15 - H01L21/301
  • 本发明提供一种保护膜形成用薄膜,其可以得到保护膜的强度高、有助于带有保护膜的晶片的生产率的提高、且高可靠度的带有保护膜的晶片。本发明的保护膜形成用薄膜,其用于形成保护半导体晶片的保护膜,保护膜形成用薄膜包括环氧类热固化性成分,环氧类热固化性成分包含固化物的玻璃化转移温度为220℃以上的环氧化合物。
  • 保护膜形成薄膜

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