专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种锆钛系自润滑耐磨涂层及其制备方法-CN202310206284.9在审
  • 刘刚;邱龙时;胡小刚;何进;高志文 - 西安稀有金属材料研究院有限公司
  • 2023-03-07 - 2023-05-30 - C23C14/16
  • 本发明公开了一种锆钛系自润滑耐磨涂层,包括依次沉积在衬底上的Zr‑Ti合金打底层、Zr‑Ti‑N缓冲层和Zr‑Ti‑Cu‑C‑N功能层;本发明还公开了该涂层的制备方法:一、预清洗得到洁净衬底;二、将洁净衬底与靶材装入多弧离子镀设备中抽真空和加热;三、预蒸发处理;四、轰击清洗;五、制备Zr‑Ti合金打底层;六、制备Zr‑Ti‑N缓冲层;七、制备Zr‑Ti‑Cu‑C‑N功能层;八、随炉保温和冷却处理。本发明通过衬底与涂层之间的成分和结构过渡,提高了结合力,具备高硬、耐磨、自润滑、抗辐照以及抗冲蚀等特性,适用于空间飞行器构件;本发明采用物理气相沉积法,通过对沉积参数的调控实现涂层成分的精确控制。
  • 一种锆钛系润滑耐磨涂层及其制备方法
  • [发明专利]一种硅基中子光栅镀钆的制备工艺-CN202310407950.5在审
  • 胡小刚;高志文;邱龙时;陈俐蔓 - 西安稀有金属材料研究院有限公司
  • 2023-04-17 - 2023-05-23 - C23C14/16
  • 本发明公开了一种硅基中子光栅镀钆的制备工艺,该工艺包括:一、将经刻蚀后形成光栅槽的待镀硅基基片清洗后置于磁控溅射设备真空镀膜机中,调整角度并抽至高真空;二、对待镀硅基基片进行高偏压辉光溅射清洗;三、开启钆靶的预溅射;四、开启钆靶的溅射在待镀硅基基片上沉积形成钆膜,得到镀钆硅基中子光栅。本发明采用磁控溅射在具有光栅槽的待镀硅基基片表面进行镀钆,利用磁控溅射低温的特性,避免了对包含不耐高温物质的基体材料的不良影响,通过对磁控溅射过程及工艺参数的控制,有效调节沉积速度,实现了对钆膜厚度的精准控制,获得高纯度的Gd膜层,保证了Gd膜层的致密性和光洁度,有利于实现中子光栅高效吸收中子的性能要求。
  • 一种中子光栅制备工艺
  • [发明专利]具有耐磨蚀膜层的钛钽合金-CN202211496406.4在审
  • 江海霞;胡小刚;邱龙时;周波;潘晓龙;张于胜 - 西安稀有金属材料研究院有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-04-11 - C25D11/26
  • 本发明公开了一种具有耐磨蚀膜层的钛钽合金,包括钛钽合金基体以及设置在钛钽合金基体表面的耐磨蚀膜层,由包括以下步骤的方法制备得到:一、将钛钽合金依次进行打磨、脱脂、浸渍和出光、超声清洗;二、通过微弧氧化、阳极氧化或硬质阳极氧化处理在钛钽合金表面形成氧化膜层;三、封孔处理后清洗干燥。本发明的钛钽合金通过微弧氧化、阳极氧化或硬质阳极氧化的方法在经处理后具有平整清洁表面的钛钽合金的表面原位形成氧化膜层,该氧化膜层与钛钽合金基体的结合更加紧密,大幅提高了钛钽合金表面硬度,改善了钛钽合金的耐磨性能,进而提高其使用寿命,在化工、核电和生物医用材料领域具有良好的应用前景。
  • 具有耐磨蚀膜层合金
  • [发明专利]一种高性能锆钆合金的制备方法-CN202210900588.0有效
  • 胡小刚;邱龙时;江海霞;刘承泽;辛超 - 西安稀有金属材料研究院有限公司;中国原子能科学研究院
  • 2022-07-28 - 2022-12-27 - C22C1/02
  • 本发明公开了一种高性能锆钆合金的制备方法,包括以下步骤:一、将锆原料和钆原料混合后进行熔炼,得到铸锭;二、将铸锭固溶处理和水淬,得到水淬铸锭;三、将水淬铸锭表面刷涂抗氧化防护涂料,得到表面具有涂料的铸锭;四、将铸锭进行加热处理,然后趁热进行机械加工,得到机械加工后的铸锭;五、将铸锭依次进行退火处理和表面修整,得到锆钆合金。本发明将锆原料和钆原料混合后熔炼为铸锭,然后进行β相固溶处理后水淬,再在表面进行抗氧化防护涂料处理后进行加热机械加工,得到α相和β相共存的锆钆合金,提出了一种锆钆合金的制备工艺和热处理制度,得到的锆钆合金不仅具有极强的耐腐蚀能力,也具有极高的中子屏蔽效果。
  • 一种性能合金制备方法
  • [发明专利]膜基界面残余应力的表征方法-CN202011483209.X有效
  • 邱龙时;潘晓龙;赵婧;胡小刚;刘璐;孙国栋;张思雨;张于胜 - 西安稀有金属材料研究院有限公司
  • 2020-12-15 - 2022-07-22 - G01L5/00
  • 本公开提供了一种膜基界面残余应力的表征方法,属于表面工程技术领域。该方法包括在基体表面形成薄膜,获取基体表面形成薄膜后的实际形变参数;根据基体表面形成薄膜后的实际几何尺寸和材料性能参数,建立有限元分析模型;施加热载荷,获取所述有限元分析模型中膜基几何模型的模拟形变参数;当所述模拟形变参数与所述实际形变参数的差值在阈值范围内时,获取所述膜基几何模型的膜基界面处的剪切应力或最大主应力,采用所述剪切应力或最大主应力表征膜基界面残余应力。本公开提供的膜基界面残余应力的表征方法,其获得的膜基界面的残余应力的准确性高,可进一步用于表征膜基结合性能,预判残余应力所致的薄膜界面失效行为。
  • 界面残余应力表征方法
  • [发明专利]一种Mo-V-C-N复合涂层的制备方法-CN202010547803.4有效
  • 邱龙时;赵婧;潘晓龙;田丰;张思雨;张于胜 - 西安稀有金属材料研究院有限公司
  • 2020-06-16 - 2022-06-03 - C23C14/35
  • 本发明公开了一种Mo‑V‑C‑N复合涂层的制备方法,该方法包括:一、基片处理;二、安置Mo靶、V弧靶及基片,对真空室抽真空并加热;三、基片刻蚀;四、沉积形成Mo打底层;五、沉积形成Mo‑V缓冲层;六、沉积形成Mo‑V‑N过渡层;七、沉积形成Mo‑V‑C‑N本体层;八、真空退火处理;九、冷却得到表面具有Mo‑V‑C‑N复合涂层的基片。本发明通过对Mo‑V‑C‑N复合涂层的分层设置,形成了良好的成分过渡,确保与基片结合良好且避免了Mo‑V‑C‑N复合涂层开裂和剥落,制备的Mo‑V‑C‑N复合涂层组织均匀致密,硬度高,韧性好,摩擦系数低,耐磨性佳,在高温和低温下均具有润滑效果,适宜作为空间自润滑层。
  • 一种mo复合涂层制备方法

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