“邱国扬”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果9个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]耐腐蚀结构-CN202320177833.X有效
发明人：吴宗丰;廖俊智;曾涵芸;游辉桓;江皓宇;邱国扬;郭昱成 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：本实用新型之耐腐蚀结构包括一基材及一镍磷合金镀层，镍磷合金镀层是设置于基材上。其中，该镍磷合金镀层的表面粗糙度小于2μm。耐腐蚀结构能降低钢瓶内壁结构的粗糙度，且长时间提升钢瓶内壁结构的耐腐蚀性。
腐蚀结构

[发明专利]抗电浆腐蚀薄膜结构与其制造方法-CN202210206337.2在审
发明人：吴宗丰;李文亮;林佳德;蔡宇砚;苏修贤;邱国扬;陈柏翰 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C28/04 文献下载
摘要：一种抗电浆腐蚀薄膜结构，包括一基材、一第一抗腐蚀层、一第二抗腐蚀层与第三抗腐蚀层。第一抗腐蚀层设置于该基材上，并与该基材接触。第二抗腐蚀层设置于该第一抗腐蚀层上。第三抗腐蚀层设置于该第二抗腐蚀层上。其中，该第一抗腐蚀层与该第三抗腐蚀层是经由气相沉积方法形成。其中，该第二抗腐蚀层是经由电浆喷涂形成。本发明的有益效果是利用致密、松散、致密多层次的抗腐蚀层形成抗腐蚀结构，可用较少的时间与成本形成，并保持与习知完全致密抗腐蚀层相当的抗腐蚀特性。
抗电浆腐蚀薄膜结构与其制造方法

[发明专利]耐电浆侵蚀的光学结构-CN202310095335.5在审
发明人：吴宗丰;廖俊智;林佳德;邱国扬;陈柏翰;曾涵芸 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本发明之耐电浆侵蚀的光学结构包括一透光基材及一耐电浆光学膜层，耐电浆光学膜层是设置于透光基材的一表面上。此外，耐电浆光学膜层包括至少一第一光学薄膜及至少一第二光学薄膜，第二光学薄膜是迭合在第一光学薄膜上。其中，第一光学薄膜的密度不小于4.5。耐电浆侵蚀的光学结构对于电浆具有较佳的抗侵蚀性。
耐电浆侵蚀光学结构

[发明专利]耐腐蚀结构及其制造方法-CN202310095337.4在审
发明人：吴宗丰;廖俊智;曾涵芸;游辉桓;江皓宇;邱国扬;郭昱成 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C23C18/48 文献下载
摘要：本发明之耐腐蚀结构包括一基材及一镍磷合金镀层，镍磷合金镀层是设置于基材上。其中，该镍磷合金镀层的表面粗糙度小于2μm。耐腐蚀结构能降低钢瓶内壁结构的粗糙度，且长时间提升钢瓶内壁结构的耐腐蚀性。
腐蚀结构及其制造方法

[实用新型]石墨组件-CN202220599252.0有效
发明人：吴宗丰;李文亮;周冠廷;蔡宇砚;苏修贤;赖泱蓉;邱国扬;曾涵芸;游辉桓;张家文;吕椬境 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C04B41/85 文献下载
摘要：一种石墨组件，包括一石墨基材及至少一石墨薄膜。石墨薄膜设置于该石墨基材上。其中，石墨薄膜的硬度为该石墨基材的硬度的两倍以上。大幅改善零组件的表面特性，其具有优秀的附着性，具有低电阻、导热和散热性强等优点，本实用新型的有益效果是，能改善基材或镀层上的缺陷，抑制微粒的发生，用于提升制程的良率。
石墨组件

[发明专利]石墨组件与其制造方法-CN202210271271.5在审
发明人：吴宗丰;李文亮;周冠廷;蔡宇砚;苏修贤;赖泱蓉;邱国扬;曾涵芸;游辉桓;张家文;吕椬境 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C04B41/85 文献下载
摘要：一种石墨组件，包括一石墨基材及至少一石墨薄膜。石墨薄膜设置于该石墨基材上。其中，石墨薄膜的硬度为该石墨基材的硬度的两倍以上。大幅改善零组件的表面特性，其具有优秀的附着性，具有低电阻、导热和散热性强等优点，本发明的有益效果是，能改善基材或镀层上的缺陷，抑制微粒的发生，用于提升制程的良率。
石墨组件与其制造方法

[实用新型]抗电浆腐蚀薄膜结构-CN202220435547.4有效
发明人：吴宗丰;李文亮;林佳德;蔡宇砚;苏修贤;邱国扬;陈柏翰 -专利权人：翔名科技股份有限公司
申请日： 2022-03-02 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：一种抗电浆腐蚀薄膜结构，包括一基材、一第一抗腐蚀层、一第二抗腐蚀层与第三抗腐蚀层。第一抗腐蚀层设置于该基材上，并与该基材接触。第二抗腐蚀层设置于该第一抗腐蚀层上。第三抗腐蚀层设置于该第二抗腐蚀层上。其中，该第一抗腐蚀层与该第三抗腐蚀层是经由气相沉积方法形成。其中，该第二抗腐蚀层是经由电浆喷涂形成。本实用新型的有益效果是利用致密、松散、致密多层次的抗腐蚀层形成抗腐蚀结构，可用较少的时间与成本形成，并保持与习知完全致密抗腐蚀层相当的抗腐蚀特性。
抗电浆腐蚀薄膜结构

[发明专利]头戴式虚拟现实显示装置及其光学系统-CN202010631634.2有效
发明人： 邱国扬;陈芸霈 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：在此揭示一种头戴式虚拟现实显示装置及其光学系统，其包括：一出射光瞳；一线偏振器；一反射偏光器，其设置于该出射光瞳与该线偏振器之间；一相位延迟器，其设置于该线偏振器以及该反射偏光器之间，其中该相位延迟器之快轴与该线偏振器之穿透轴之间夹角为15度，并且该相位延迟器之快轴与该反射偏光器穿透轴之夹角为‑15度；该光学系统尚包括一部分反射器，其设置于该相位延迟器以及该反射偏光器之间，并且与该相位延迟器耦合。
头戴式虚拟现实显示装置及其光学系统

[发明专利]校正系统和校正方法-CN202010712364.8在审
发明人： 邱国扬;陈圣哲;姜如芸;刘怡珍 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H04N21/414 文献下载
摘要：一种校正系统，包含一耳戴式装置和一待校正装置。耳戴式装置具有一加速度感测器，加速度感测器用以感测耳戴式装置的一加速度资讯。待校正装置具有一讯号处理器，讯号处理器用以根据加速度资讯提供一调整讯号以调整待校正装置所具有的影像或架设位置，以使加速度感测器具有的一第一位移资讯与待校正装置的影像或架设位置具有的一第二位移资讯实质上相等。校正系统可达成让配戴耳戴式装置的使用者接收到稳定而不晃动的影像，以解决晕眩问题。
校正系统方法

1
共 9 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top