专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]标记装置及方法-CN201380012855.X有效
  • 滨川直良;谷川央树 - 东丽工程株式会社
  • 2013-02-13 - 2014-11-19 - B23K26/00
  • 提供标记装置及方法,即使是被连续地输送的标记对象物(10)也能够在无偏移的状态下连续地标记规定的描绘图案,能够提高生产性,为此,在对标记对象物(10)标记描绘图案的标记装置(1)中,其特征在于,所述标记装置(1)具备:输送部(2),其沿着第一方向连续地输送标记对象物(10);沿着第一方向移动标记单元(4)的标记单元第一移动部(5)和沿着第二方向移动标记单元(4)的标记单元第二移动部(6);以及标记位置修正部(45),所述标记装置(1)具备总控制部(95),所述总控制部(95)对标记位置重合控制部(91)和同步移动控制部(93)进行控制,在沿着第一方向连续地输送标记对象物(10)的期间,将标记用光线(47)向标记对象物上的第一方向和第二方向的相同位置照射规定的时间。
  • 标记装置方法
  • [发明专利]标记装置及其方法-CN201080032097.4有效
  • 谷川央树;森英治 - 东丽工程株式会社
  • 2010-03-01 - 2012-05-23 - B23K26/00
  • 本发明提供一种标记装置及其方法,将标记光线照射在以规定速度进行移动的对象物上以进行标记,该装置包括:工作台(22)、位置检测器(4)、标记头部(3)和控制用计算机(90),工作台(22)使对象物以规定的速度进行移动,位置检测器(4)与工作台(22)同步移动,标记头部(3)是将照准光线照射在位置检测器(4)上的装置,其包括用来跟踪位置检测器(4)的移动使照准光线发生偏向的电流扫描器(308S),控制用计算机(90)用来检测照射在位置检测器(4)的照准光线的照射位置变化。
  • 标记装置及其方法
  • [发明专利]板状部件的输送装置及板状部件的输送方法-CN200810144454.0有效
  • 谷川央树;尾崎充佳;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2008-07-31 - 2009-10-21 - H01L21/00
  • 本发明提供一种板状部件的输送装置及板状部件的输送方法,其在输送路径的中途,可以高精度地对板状部件进行要求表面平坦度的处理。输送装置(10)具有:飘浮单元(20),其沿玻璃基板(11)的输送方向排列多个使玻璃基板(11)飘浮的飘浮部件(21);输送单元(30),其在玻璃基板(11)利用飘浮单元(20)从飘浮部件(21)飘浮的状态下,保持玻璃基板(11),同时沿输送方向向下游侧输送玻璃基板(11);以及处理部(40),其在输送单元(30)中的输送路径的中途,对玻璃基板(11)进行曝光处理。在与处理部(40)相对应的区域内,设置作为表面平坦度提高单元的横置飘浮部件(43)。
  • 部件输送装置方法
  • [发明专利]外围曝光装置-CN200610066097.1有效
  • 田尾正则;谷川央树;常吉豪 - 东丽工程株式会社
  • 2006-03-28 - 2006-10-04 - G03F7/20
  • 本发明的外围曝光装置具有下列部件:XY支承台(2),支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1);支承XY支承台(2)的旋转工作台(3);对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4);保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5);检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6);向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7);以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时,能大幅度减小对曝光对象的不良影响,而且不会无谓地消耗电力,并且对曝光对象的外围区域进行曝光。
  • 外围曝光装置
  • [发明专利]曝光装置和曝光方法-CN200610065501.3有效
  • 谷川央树;常吉豪;田尾正则;伊藤徹;泉田信也 - 东丽工程株式会社
  • 2006-03-20 - 2006-09-20 - G03F7/20
  • 本发明提供一种曝光装置和曝光方法,通过设置:光源装置(5);放置基板K的平台(3);可对平台以匀速度进行相对移动来设置,且在平台的上部,被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列,被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7);以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1),按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序,转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75),以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
  • 曝光装置方法

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