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[实用新型]一种非接触式抛光装置-CN202020831684.0有效
发明人：沈思源;文东辉;许鑫祺;王辉;章益栋 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种非接触式抛光装置，包括机座；还包括电机、抛光辊子、用于调节工件进给的直线往复进给机构、用于调节流体的抛光间隙的纵向微调机构、确保工件处于抛光辊子高度以内的竖直升降机构及主轴系统；机座上安装有电机板，电机安装于电机板；主轴系统安装于机座并由电机传动驱动，主轴系统包括辊子托座，抛光辊子安装于辊子托座。该抛光装置通过设置直线往复进给机构、纵向微调机构及竖直升降机构，直线往复进给机构精确、匀速、稳定，有利于减小加工件表面波纹的产生，纵向微调机构精度高，可以在较大范围内调节抛光间隙，满足不同需求下的加工条件。
一种接触抛光装置

[实用新型]一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台-CN202021913545.9有效
发明人： 许鑫祺;文东辉;沈思源;章益栋;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G09B25/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台，包括机床、抛光辊子、进给单元、传感器。抛光辊子安装在机床上，进给单元包括往复进给机构、第一微进给机构、第二微进给机构；往复进给机构驱动工件往复运动均匀抛光，第一和第二微进给机构的位移可精确调整被夹持工件与抛光辊子的高度差及间距，形成微小间隙；传感器包括电涡流位移传感器和压力传感器，电涡流位移传感器用于检测工件与抛光辊子的间距，压力传感器用于实时监测抛光加工流体动压力。该实验平台各机构设计完善，辅以位移、压力测控系统，各工艺参数柔性可调，可实现流体动压抛光波纹度机理与控制的深入研究。
一种用于新型流体抛光研究实验平台

[实用新型]一种电气机械加载的平面研磨装置-CN202021033553.4有效
发明人：沈思源;文东辉;章益栋;许鑫祺;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电气机械加载的平面研磨装置。包括机座、主轴系统、修面装置和压力加载装置，主轴系统设于机座内，主轴系统的顶部设有研磨盘，主轴系统带动研磨盘转动，修面装置设于研磨盘一侧，用于修整研磨盘，压力加载装置设于研磨盘上方，研磨盘表面设有工件，压力加载装置将压力施加于工件；压力加载装置包括第一电机、第一驱动杆、压力传感器和压力加载盘，压力传感器安装于压力加载盘顶部，第一电机带动第一驱动杆下压所述压力加载盘，施加指定压力于工件上。实现了压力的准确、稳定、连续加载，并且实现了研磨过程中工件去除量的在线监测，另外主轴和修面装置的传动方式选用了带传动，可以更加平稳的修整研磨盘和研磨工件。
一种电气机械加载平面研磨装置

[发明专利]一种线性液动压抛光波纹度预测优化方法-CN202010944467.7在审
发明人：文东辉;许鑫祺;淦作昆;胡振扬;陈嘉琦 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-09-10 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G06F30/27 文献下载
摘要：本发明涉及一种线性液动压抛光波纹度预测优化方法，包括以下步骤：S1、分析与线性液动压抛光波纹度相关的各参数，分别进行单因素实验，探究各参数影响规律及响应灵敏度；S2、筛选显著参数为试验因子，波纹度为试验输出，利用响应曲面法分析参数间交互作用；S3、以响应曲面设计试验组为样本训练集，建立基于支持向量回归机SVR的线性液动压抛光波纹度预测模型，能准确预测未知样本下的波纹度；S4、以建立的最佳SVR预测模型为适应度函数，以遗传算法GA为全局寻优工具的优化模型，得到控制线性液动压抛光波纹度的最佳参数组合。本发明的线性液动压抛光波纹度预测优化方法进一步提升线性液动压抛光的加工能力。
一种线性液动压抛光波纹预测优化方法

[发明专利]一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台-CN202010921104.1在审
发明人：文东辉;许鑫祺;章益栋;沈思源;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G09B25/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台，包括机床、抛光辊子、进给单元、传感器。抛光辊子安装在机床上，进给单元包括往复进给机构、第一微进给机构、第二微进给机构；往复进给机构驱动工件往复运动均匀抛光，第一和第二微进给机构的位移可精确调整被夹持工件与抛光辊子的高度差及间距，形成微小间隙；传感器包括电涡流位移传感器和压力传感器，电涡流位移传感器用于检测工件与抛光辊子的间距，压力传感器用于实时监测抛光加工流体动压力。该实验平台各机构设计完善，辅以位移、压力测控系统，各工艺参数柔性可调，可实现流体动压抛光波纹度机理与控制的深入研究。
一种用于新型流体抛光研究实验平台

[实用新型]一种立式线性液动压抛光装置-CN201921856183.1有效
发明人： 许鑫祺;文东辉;王辉;章益栋;沈思源 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：一种立式线性液动压抛光装置，所述装置包括箱体、工作台面、地脚支撑、电机、电机带轮、主轴带轮、主轴系统、抛光盘和微进给模块；所述电机固定在箱体内，电机带轮通过键与电机轴相连接，并通过带传动将动力传输至主轴系统输入端；主轴系统固定在箱体的阶梯层中，抛光盘固定在主轴系统输出端；工作台连接在箱体上端；微进给模块固定在工作台下方。本实用新型提供了一种立式线性液动压抛光装置，能在工件表面产生线性均匀动压力场，提升工件各部位抛光效果，设计了微进给模块，能以微米级调节抛光间隙，提升工件抛光效率。
一种立式线性液动压抛光装置

[实用新型]一种用于立式液动压抛光装置的进给机构-CN201921858115.9有效
发明人： 许鑫祺;文东辉;章益栋;沈思源;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：一种用于立式液动压抛光装置的进给机构，粗进给机构包括步进电机、联轴器、滚珠丝杠底座、丝杠、丝杠单螺母、丝杠螺母座、丝杠固定端支座、丝杠自由端支座、直线导轨、滑块和载物板；微进给机构中，微进给壳体通过L型连接板固定在粗进给机构载物板的中心；电致伸缩棒位于微进给壳体内部圆槽中，移动盖板一端与电致伸缩棒紧贴；碟簧一端固定于移动盖板一侧沉孔中，另一端置于固定盖板一侧沉孔内，固定盖板固定在微进给壳体中；连接柱一端螺纹连接于移动盖板上，另一端穿过固定盖板圆孔，螺纹连接于工件架一侧螺纹孔内，工件预先用石蜡在工件架另一侧方形槽内。本实用新型能快速完成工件的装卸与准确实现所需的抛光间隙，获得最佳的抛光效果。
一种用于立式液动压抛光装置进给机构

[发明专利]一种电气机械加载的平面研磨装置-CN202010513434.7在审
发明人：文东辉;沈思源;王辉;章益栋;许鑫祺 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明公开了一种电气机械加载的平面研磨装置。包括机座、主轴系统、修面装置和压力加载装置，主轴系统设于机座内，主轴系统的顶部设有研磨盘，主轴系统带动研磨盘转动，修面装置设于研磨盘一侧，用于修整研磨盘，压力加载装置设于研磨盘上方，研磨盘表面设有工件，压力加载装置将压力施加于工件；压力加载装置包括第一电机、第一驱动杆、压力传感器和压力加载盘，压力传感器安装于压力加载盘顶部，第一电机带动第一驱动杆下压所述压力加载盘，施加指定压力于工件上。实现了压力的准确、稳定、连续加载，并且实现了研磨过程中工件去除量的在线监测，另外主轴和修面装置的传动方式选用了带传动，可以更加平稳的修整研磨盘和研磨工件。
一种电气机械加载平面研磨装置

[实用新型]一种新型直线运动平面研磨装置-CN201921051743.6有效
发明人：文东辉;肖燏婷;许鑫祺;王辉;邹磊 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种新型直线运动平面研磨装置，包括插杆、万向节、锥齿轮Ⅱ、丝杠滑台、滑台背板、锥齿轮Ⅰ、直线导轨、轴Ⅱ、滑块、电机板、圆柱齿轮Ⅱ、圆柱齿轮Ⅰ、电机Ⅱ、电机Ⅰ、弯轴、固定竖板、轴Ⅳ、固定横板、卡盘、工件盘、研磨盘、联轴器Ⅰ、轴Ⅰ、牛眼轮、轴Ⅲ和联轴器Ⅱ，通过机械机构，通过一个电机带动工件盘的形成无理数的自转，同时另一个电机带动工件盘做可变范围的直线运动，使得工件盘在研磨过程中实现自转和直线两个运动，实现研磨轨迹线的不闭合，增加轨迹线在研磨盘的分布范围。本实用新型提高了研磨精度和效率。
一种新型直线运动平面研磨装置

[实用新型]一种新型摇摆式平面研磨装置-CN201921550024.9有效
发明人：文东辉;王辉;肖燏婷;章益栋;沈思源;许鑫祺 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-09-18 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： B24B47/12 文献下载
摘要：一种新型摇摆式平面研磨装置，包括固定竖板、工件盘，配重盘，插杆，卡盘，卡盘通过键连接固定连接轴Ⅴ上，并通过轴端挡圈和螺栓固定轴Ⅴ的下部；插杆的上部卡在卡盘中，插杆的下部套在工件盘对应的孔中，工件盘和研磨盘相接触。通过一个电机带动工件盘的形成无理数的自转，同时另一个电机带动工件盘做可变摆角的圆弧摇摆运动，使得工件盘在研磨过程中实现自转和摇摆两个运动，实现研磨轨迹线的不闭合，增加轨迹线在研磨盘的分布范围。本实用新型改善平面研磨盘的盘磨损、提高研磨效率和精度。
一种新型摆式平面研磨装置

[发明专利]非接触式抛光装置-CN202010420327.X在审
发明人：文东辉;沈思源;章益栋;王辉;许鑫祺 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明涉及非接触式抛光装置，包括机座；还包括电机、抛光辊子、用于调节工件进给的直线往复进给机构、用于调节流体的抛光间隙的纵向微调机构、确保工件处于抛光辊子高度以内的竖直升降机构及主轴系统；机座上安装有电机板，电机安装于电机板；主轴系统安装于机座并由电机传动驱动，主轴系统包括辊子托座，抛光辊子安装于辊子托座。该抛光装置通过设置直线往复进给机构、纵向微调机构及竖直升降机构，直线往复进给机构精确、匀速、稳定，有利于减小加工件表面波纹的产生，纵向微调机构精度高，可以在较大范围内调节抛光间隙，满足不同需求下的加工条件。
接触抛光装置

[实用新型]一种用于线性液动压抛光的抛光辊子-CN201921954988.X有效
发明人： 许鑫祺;文东辉;章益栋;徐耀耀;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于线性液动压抛光的抛光辊子，为圆柱体结构，其圆周面均匀分布有用于产生动压力的微槽结构，微槽结构包括圆周面的圆弧部及沿圆周面周向延伸的微槽部。本实用新型的优点是，通过特殊设计的微槽结构，使抛光辊子在工作时产生更大、更均匀的线性压力场，从而使工件的抛光效率和表面各个位置的抛光均一性都进一步提升。
一种用于线性液动压抛光辊子

[实用新型]一种用于线性液动压抛光装置的压力检测系统-CN201921990097.X有效
发明人：章益栋;文东辉;徐耀耀;许鑫祺;王辉 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于线性液动压抛光装置的压力检测系统，线性液动压抛光装置包括机架、安装于机架上的横向进给机构、纵向进给机构和回转抛光机构；纵向进给机构用于调节回转抛光机构的高度，回转抛光机构包括抛光辊子；压力检测系统包括压力传感器、变送器和数据采集卡；压力传感器安装于横向进给机构，并与抛光辊子表面间隙配合；横向进给机构用于进给压力传感器；变送器一端电连接压力传感器，另一端电连接数据采集卡。本实用新型通过在微小间隙设置压力传感器，实现了对微小间隙的流体压力进行实时测量。
一种用于线性液动压抛光装置压力检测系统

[实用新型]一种双向进给的线性液动压抛光装置-CN201921956162.7有效
发明人： 许鑫祺;文东辉;章益栋;徐耀耀;沈思源 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双向进给的线性液动压抛光装置，包括机架、横向进给机构、纵向进给机构、回转抛光机构，横向进给机构用于进给工件，回转抛光机构用于抛光工件，纵向进给机构用于调节回转抛光机构的高度。本实用新型具有的优点是，纵向进给机构能够实现粗调和细调功能，可将抛光间隙精确定位至所需距离。横向进给一方面便于工件的装卸正确定位，一方面可在抛光过程实现工件往复移动，有利于消除工件表面的抛光波纹，避免工件横向各点抛光不均匀。
一种双向进给线性液动压抛光装置

[发明专利]一种立式线性液动压抛光装置-CN201911051549.2在审
发明人：文东辉;许鑫祺;沈思源;王辉;章益栋 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：一种立式线性液动压抛光装置，所述装置包括箱体、工作台面、地脚支撑、电机、电机带轮、主轴带轮、主轴系统、抛光盘和微进给模块；所述电机固定在箱体内，电机带轮通过键与电机轴相连接，并通过带传动将动力传输至主轴系统输入端；主轴系统固定在箱体的阶梯层中，抛光盘固定在主轴系统输出端；工作台连接在箱体上端；微进给模块固定在工作台下方。本发明提供了一种立式线性液动压抛光装置，能在工件表面产生线性均匀动压力场，提升工件各部位抛光效果，设计了微进给模块，能以微米级调节抛光间隙，提升工件抛光效率。
一种立式线性液动压抛光装置

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