“藤原尚”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN200610066499.1有效
发明人：松本直树;田中秀朗;藤原尚;舆水地盐;小岩史明;小林俊之;仲山阳一;中村博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-03-31 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明提供除高频电力之外，以施加直流电压的电容结合型等离子体处理装置为前提，可以得到良好的等离子体的等离子体处理装置和等离子体处理方法。在腔室(10)内相对配置的上部电极(34)和下部电极(16)之间形成处理气体的等离子体，在晶片(W)上进行等离子体蚀刻的等离子体蚀刻装置中，具有将高频电力供给到上部电极(34)，用于形成等离子体的高频电源(48)；将直流电压施加到上部电极(34)的直流电源(50)和控制高频电源(48)与可变直流电源(50)的控制部(95)。控制部(95)进行控制，使得在开始从高频电源(18)供电的时刻或其后，使从可变直流电源(50)施加的电压成设定值。
等离子体处理装置方法

[发明专利]处理装置-CN200410038016.8有效
发明人：西本伸也;樋熊政一;武藤慎司;藤原尚;中山博之;岛贯义纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-05-12 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置，通过提高使静电夹头层和支承部粘接的接合层的热传导率，缩短基板稳定至规定温度所需的时间，还可抑制由等离子体产生的活性种引起的所述接合层的劣化。在利用由氧化铝制成的绝缘层覆盖钨制的夹头电极构成的烧结体形成的静电夹头层和用于支承所述静电夹头层的铝制支承部之间，设置用于使所述支承部和静电夹头层接合的接合层。通过将硅系粘接性树脂浸含至多孔陶瓷中，构成该接合层。另外，设置柔软的覆盖部件例如由PFA等氟树脂制成的热收缩管或橡胶等，以覆盖所述接合层的侧周面，使静电夹头层和支承部的侧周面与该覆盖部件密接。
处理装置