专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种晶圆处理装置-CN202222623620.3有效
  • 廖周芳;蒋超伟;李莹莹 - 江苏芯梦半导体设备有限公司
  • 2022-09-30 - 2023-01-24 - F17D3/01
  • 本实用新型公开一种晶圆处理装置,其包括晶圆操作腔体、排液管路及第一阀门,还包括用于监测通过排液管路的第一处的液体流量L1的第一流量监测器和用于监测通过排液管路的第二处的液体流量L2的第二流量监测器,第一处位于第二处的上游,第一阀门设置在第一处和第二处之间,设置在排液管路的第三处的单向阀,第三处位于晶圆操作腔体和第一处之间,以及用于实时接收L1和L2的分析模块,并当L1L2时其会发出执行信号,以及与分析模块电连接的执行模块,其接收执行信号,并执行防逆流操作,以防止排液管路中的液体逆流回晶圆操作腔体。本实用新型的晶圆处理装置可以避免排液管路上的液体逆流回晶圆操作腔体,避免了工艺液体逆流带来的损失。
  • 一种处理装置
  • [实用新型]一种基板支撑装置-CN202222688653.6有效
  • 邵树宝;蒋超伟;王泳彬 - 江苏芯梦半导体设备有限公司
  • 2022-10-12 - 2023-01-10 - B08B3/02
  • 本实用新型公开了一种基板支撑装置,包括工作台及旋转台,旋转台能够绕转动中心线相对旋转地设置在工作台上,转动中心线沿上下方向延伸,基板支撑装置还包括导液座,导液座设于旋转台的上方,导液座与工作台相对固定地设置,导液座的周向外表面位于一虚拟圆锥面内,虚拟圆锥面的顶点朝上,虚拟圆锥面的中心线与转动中心线相重合。本实用新型提供的基板支撑装置,基板背面清洗后中心滴落的清洗液能够沿着导液座的周向外表面导流至旋转台上,并在离心力的作用下甩出旋转台,使得旋转台及导液座的表面均能够干燥清洁,从而有助于维持基板清洗效果,并有效避免后续抓取基板的机械手被污染。
  • 一种支撑装置
  • [发明专利]多频率兆声波耦合晶圆清洗设备及多频喷射装置-CN202210811801.0有效
  • 廖周芳;蒋超伟;王泳彬 - 江苏芯梦半导体设备有限公司
  • 2022-07-12 - 2022-11-08 - B08B3/12
  • 本发明公开了一种多频率兆声波耦合晶圆清洗设备及其具有的多频喷射装置。其中清洗设备包括清洗模块,清洗模块包括多频喷射装置,多频喷射装置包括第一支架与多频喷射主体,第一支架设于工作台上,多频喷射主体固设于第一支架上。多频喷射主体具有至少两个喷射部,每个喷射部均具有中空的流体腔,不同的流体腔相互独立,每个喷射部还具有喷嘴及兆声波组件,每个喷嘴均与对应的流体腔相连通,且每个喷嘴均沿上下方向延伸并位于对应的流体腔的下方,多个喷嘴的轴心线自上而下逐渐汇聚,不同的兆声波组件用于产生不同频率的兆声流体。本发明能够实现多种频率兆声流体的耦合,在一个工艺过程中去除晶圆表面不同粒径尺寸的颗粒,提高晶圆加工的良率。
  • 频率声波耦合清洗设备喷射装置
  • [实用新型]一种晶圆刷洗装置-CN202222586596.0有效
  • 邵树宝;蒋超伟;张海珠;王泳彬 - 江苏芯梦半导体设备有限公司
  • 2022-09-29 - 2022-11-04 - B08B3/02
  • 本实用新型公开一种晶圆刷洗装置,包括支撑臂、刷盘组件和与支撑臂连接的液压旋转器,刷盘组件包括含有出口的流出通道,液压旋转器包括流体腔室、上连接部和旋转组件,流体腔室与上连接部固定连接或一体成型,旋转组件设置在流体腔室内,流体腔室的内部设有容纳腔;支撑臂的内部设置有第一流体通道,上连接部的内部设置有连接通道,上连接部开设有多个通液孔,流体可依次流经第一流体通道及连接通道后进入容纳腔,再从流出通道并经出口喷出,旋转组件用于在流体从连接通道进入容纳腔时旋转并带动刷盘组件旋转。本实用新型无需额外设置固定喷嘴、带动刷盘部分旋转的旋转电机,整体结构简单。
  • 一种刷洗装置
  • [发明专利]一种用于晶圆清洗的设备及方法-CN202210737933.3有效
  • 廖周芳;蒋超伟;邵树宝 - 江苏芯梦半导体设备有限公司
  • 2022-06-28 - 2022-10-18 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种用于晶圆清洗的设备及方法,设备包括工作台、设置在工作台上的载台及清洗喷射装置,清洗喷射装置包括喷嘴架、固设于喷嘴架上的喷嘴主体,以及分别与喷嘴主体相连通的第一流体管、第二流体管第三流体管。其中,喷嘴主体具有分别沿上下方向延伸的第一流体通道与第二流体通道,第二流体通道环设于第一流体通道的周部,第一流体通道下端部具有第一出口,第二流体通道下端部具有第二出口。方法依次包括如下步骤:S1、第一出口和/或第二出口喷射水;S2、第一出口喷射氮气与水的混合流体,第二出口喷射氮气或水;S3、第一出口喷射氮气。本发明优化了清洗喷射装置的结构及设备整体的空间布局,结构简单、控制方便、清洗效率高。
  • 一种用于清洗设备方法

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