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[发明专利]沸石膜复合体和沸石膜复合体的制造方法-CN201880054321.6有效
发明人：野田宪一;三浦绫;吉村辽太郎;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C01B39/54 文献下载
摘要：本发明提供一种新型的沸石膜复合体。沸石膜复合体(1)具备支撑体(11)以及形成在支撑体(11)上的沸石膜(12)。沸石膜(12)是SAT型且取向的新型沸石膜。在对沸石膜(12)照射X射线而得到的X射线衍射图谱中，存在于2θ＝13.9°附近的峰的强度为存在于2θ＝8.5°附近的峰的强度的1.5倍以上。沸石膜(12)以微孔朝向沸石膜(12)的表面开口的方式进行取向。由此，例如，将沸石膜复合体(1)用作气体分离膜时，能够得到较高的气体分离性能。
沸石膜复合体制造方法

[发明专利]AFX结构的沸石结晶及其合成方法-CN201880013019.6有效
发明人： 萩尾健史;野田宪一;宫原诚;清水克哉 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： C01B39/48 文献下载
摘要：AFX结构的沸石结晶(10)被形成为六角板状，俯视观察时的最大费雷特直径(L1)相对于侧视观察时的板厚(W1)的比值为2以上。
afx 结构结晶及其合成方法

[发明专利]分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法-CN201880012747.5有效
发明人：宫原诚;市川真纪子;谷岛健二;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-02-15 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：分离膜组件(10)的检查方法包括：组装工序，将具有多孔质基材(11)和分离膜(12)的分离膜结构体(1)密封于壳体(2)内；检查工序，对充满于分离膜(12)的第1主面侧的检查用液体进行加压。检查用液体具有如下特性：将分离膜结构体(1)在检查用液体中浸渍60分钟后以150℃进行了24小时干燥的情况下，分离膜的He透过速度降低率为10％以下。
分离膜结构检查方法组件制造

[发明专利]分离膜组件的检查方法及分离膜组件的制造方法-CN201880012739.0有效
发明人：清水克哉;市川真纪子;谷岛健二;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-02-26 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：分离膜组件(10)的检查方法具备在沸石膜(12)的一次侧封入检查用气体的封入工序。检查用气体的动态分子直径大于沸石膜(12)的细孔径的1.07倍。检查用气体具有如下特性，即，将分离膜结构体(1)在25℃、0.1MPaG的检查用气体中静置了60分钟的情况下，沸石膜(12)的CO2气体透过速度降低率低于10％。
分离组件检查方法制造

[发明专利]ERI结构的沸石膜及膜结构体-CN201880013010.5有效
发明人： 萩尾健史;野田宪一;宫原诚;清水克哉;三浦绫;吉村辽太郎 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：对ERI膜(20)的膜表面照射X射线得到的X射线衍射图案中，(002)晶面的峰强度为(100)晶面的峰强度的0.5倍以上。
eri 结构沸石膜膜结构

[发明专利]脱水方法、脱水装置以及膜结构体-CN201880037258.5有效
发明人：野田宪一;宫原诚;清水克哉;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：脱水方法用于：从含有水的混合物中选择性地分离出水，其包括：向AFX膜(45)的供给侧空间(4S)供给混合物(11)的工序、及使AFX膜(45)的供给侧空间(4S)和透过侧空间(4T)产生压力差的工序。
脱水方法装置以及膜结构

[发明专利]脱水方法及脱水装置-CN201880037265.5有效
发明人：野田宪一;宫原诚;清水克哉;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：脱水方法包括：向分离膜(45)的供给侧空间(4S)供给混合物(11)的工序、及使分离膜(45)的供给侧空间(4S)和透过侧空间(4T)产生压力差的工序。分离膜(45)具有：第一沸石膜(45a)，其由第一沸石构成，且面对透过侧空间(4T)；以及第二沸石膜(45b)，其与第一沸石膜(45a)邻接，且面对供给侧空间(4S)。第二沸石膜(45b)由第二沸石构成，该第二沸石具有与第一沸石相同的骨架结构，且Si/Al原子比小于第一沸石的Si/Al原子比。
脱水方法装置

[发明专利]AFX结构的沸石膜、膜结构体以及膜结构体的制造方法-CN201880014746.4有效
发明人： 萩尾健史;野田宪一;宫原诚;清水克哉;三浦绫;吉村辽太郎 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(110)晶面的峰强度为(004)晶面的峰强度的2.5倍以上。
afx 结构沸石膜膜结构以及制造方法

[发明专利]AFX结构的沸石膜、膜结构体以及膜结构体的制造方法-CN201880014747.9有效
发明人： 萩尾健史;野田宪一;宫原诚;清水克哉 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(004)晶面的峰强度为(110)晶面的峰强度的3倍以上。
afx 结构沸石膜膜结构以及制造方法

[发明专利]分离膜的修补方法和分离膜结构体的制造方法-CN201680056179.X有效
发明人：山崎慎一郎;萩尾健史;野田宪一 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：分离膜(30)的修补方法包括：将使修补材料粒子分散于水系溶剂而得到的规定pH的胶体溶液附着于在支承体(20)上形成的分离膜(30)的表面的工序。在规定pH下，修补材料粒子具有与支承体(20)相反符号的电荷。
分离修补方法膜结构制造

[发明专利]沸石膜结构体的制造方法-CN201580058430.1有效
发明人：野田宪一;萩尾健史;宫原诚 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B01D71/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制膜缺陷的沸石膜结构体的制造方法。沸石膜结构体(10)的制造方法包括：在多孔质支撑体(20)上形成第一沸石膜(30)的工序、将形成有第一沸石膜(30)的多孔质支撑体(20)在10℃～70℃且pH10以上的第二沸石膜形成用溶液中浸渍5分钟以上的工序、以及在将形成有第一沸石膜(30)的多孔质支撑体(20)浸渍在第二沸石膜形成用溶液中的状态下进行水热合成、由此在第一沸石膜(30)上形成第二沸石膜(40)的工序。第一沸石膜(30)和第二沸石膜(40)共有构成骨架结构的至少1种复合构造单元。
膜结构制造方法

[发明专利]气体分离装置-CN201780090699.7在审
发明人：长谷川裕晃;藤村靖;松山爱子;小黑秀一;西田惠一;福田晃子;谷岛健二;市川真纪子;萩尾健史;高桥直子;宫原诚;清水克哉 -专利权人：日挥环球株式会社;日本碍子株式会社
申请日： 2017-05-12 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： B01D53/22 文献下载
摘要：本发明提供一种气体分离装置，其在使用气体分离膜从含有非烃气体的被处理气体中分离非烃气体时，能够抑制运转率下降，并且经济性好。本发明的解决手段是相对于被处理气体的供给路彼此并联地配置第一分离膜组件1和第二分离膜组件2。设置从分离膜组件1(或2)的透过气体流路13(或23)分支、并与用于向分离膜组件2(或1)供给被处理气体的气体供给路径21(或11)合流的再生用气体流路14和15(或者24和25)。在向分离膜组件1供给被处理气体的状态下，将该分离膜组件1的透过气体作为再生用气体经由再生用气体流路14、15向分离膜组件2供给。此时，将分离膜组件2设为非运转状态，进行该分离膜组件2的再生。
气体分离装置

[发明专利]脱水方法及脱水装置-CN201880037277.8在审
发明人：野田宪一;宫原诚;清水克哉;萩尾健史 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： B01D61/36 文献下载
摘要：脱水方法用于：使用ERI结构的沸石膜，从含有水的混合物中选择性地分离出水，其包括：向ERI膜(45)的供给侧空间(4S)供给混合物(11)的工序、及使ERI膜(45)的供给侧空间(4S)和透过侧空间(4T)产生压力差的工序。
混合物沸石膜压力差出水脱水

[发明专利]八元氧环沸石膜、沸石膜的制造方法、以及八元氧环沸石膜的评价方法-CN201480019436.3有效
发明人：谷岛健二;萩尾健史;宫原诚;内川哲哉;犬饲直子;市川真纪子 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C01B39/48 文献下载
摘要：提供可制造缺陷少的沸石膜的沸石膜制造方法、缺陷少的八元氧环沸石膜、以及可以评价缺陷的八元氧环沸石膜的评价方法。在多孔体的表面附着沸石晶种前，作为前处理，将多孔体在氧存在下进行400℃以上的加热处理，加热处理后在湿度30％以上的环境下保存12小时以上，然后，使沸石晶种附着于多孔体，制造沸石膜。将多孔体加热处理而制造的八元氧环沸石膜，其CF₄的透过速度除以CO₂的透过速度得到的值在0.015以下，缺陷较少。
八元氧环沸石膜沸石膜制造方法以及评价

[发明专利]DDR型沸石晶体的制造方法以及DDR型沸石膜的制造方法-CN201480019484.2有效
发明人： 萩尾健史;谷岛健二;市川真纪子 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2014-03-26 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： C01B39/48 文献下载
摘要：一种DDR型沸石晶体的制造方法，其具有至少混合二氧化硅、水、有机溶剂和作为结构导向剂的1‑金刚烷胺，配制原料溶液的原料溶液配制工序，以及加热处理所述原料溶液生成DDR型沸石晶体的DDR型沸石晶体生成工序；所述有机溶剂为不含胺的有机溶剂，所述原料溶液为不含PRTR物质的原料溶液。本发明提供在原料溶液配制工序中，可不使用高环境负担的物质(PRTR物质)，而容易地溶解结构导向剂的DDR型沸石晶体的制造方法。
ddr 型沸石晶体制造方法以及型沸石膜

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