专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种金属-氧化层-栅极电容器及其制备方法-CN202110665747.9在审
  • 吴汉明;陈春章;胡煜 - 芯创智创新设计服务中心(宁波)有限公司
  • 2021-06-16 - 2021-10-29 - H01L23/64
  • 本发明公开了一种金属‑氧化层‑栅极电容器及其制备方法,包括以下步骤:在半导体衬底上覆盖第一绝缘层;在第一绝缘层的表面形成导电层;在导电层的表面上气相沉积第二层绝缘层;对第二层绝缘层进行蚀刻,形成对导电层的局部暴露,同时形成接触孔;对接触孔的开口进行金属填充,形成翅片结构,作为电容器的底板电极即栅极柱;对围绕栅极柱的第二层绝缘层进行蚀刻,使栅极柱从第二绝缘层突出,围绕栅极柱形成沟槽;在第二层绝缘层和栅极柱的表面上气相沉积绝缘介电层;在绝缘介电层上沉积并覆盖一层衬底金属层;在衬底金属层上沉积并覆盖一层主体金属层,形成电容器的上极板电极。本发明可用于传统半导体平面制备和最先进的FinFET制备技术。
  • 一种金属氧化栅极电容器及其制备方法

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