专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备-CN202311222006.9在审
  • 马春雨;陈冠中;聂方园 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2023-09-21 - 2023-10-27 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备。该方法包括:根据焦距能量矩阵和目标光刻图案的关键尺寸确定目标曝光条件;根据目标曝光条件和预设步进量确定多个第一曝光条件和多个第二曝光条件,以使得曝光设备根据目标曝光条件和多个第一曝光条件对第一晶圆进行曝光,以及根据目标曝光条件和多个第二曝光条件对第二晶圆进行曝光;获取第一晶圆在曝光过程中的多个第一目标焦距和第二晶圆在曝光过程中的多个第二目标焦距;根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第一目标焦距确定第一晶圆的第一光刻工艺窗口,并根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第二目标焦距确定第二晶圆的第二光刻工艺窗口。
  • 确定光刻工艺窗口方法装置存储介质电子设备

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