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[发明专利]显色组合物、平版印刷版原版、平版印刷版的制造方法及化合物-CN201780051497.1有效
发明人： 稻崎毅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-08-23 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C09B23/00 文献下载
摘要：本发明提供一种包含由式1表示的化合物的显色组合物、至少具有包含上述显色组合物的层的平版印刷版原版、使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法、以及能够优选地用作显色剂的由式1表示的化合物。
显色组合平版印刷原版制造方法化合物

[发明专利]平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法-CN201880043534.9有效
发明人：野越启介;稻崎毅;榎本和朗 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： B41N1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种平版印刷版原版及使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法，该平版印刷版原版在亲水性支承体上具有图像记录层，上述图像记录层含有通过红外线曝光而分解的红外线吸收色素及因红外线曝光而显色的显色剂。
平版印刷原版制作方法

[发明专利]平版印刷版原版和平版印刷版的制作方法-CN201880024688.3有效
发明人：石地洋平;野越启介;稻崎毅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： B41N1/14 文献下载
摘要：一种平版印刷版原版和使用了上述平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法，所述平版印刷版原版在亲水性支承体上具有图像记录层，上述图像记录层包含聚合引发剂、红外线吸收剂、聚合性化合物和酸显色剂，上述红外线吸收剂包含式1所示的化合物。式1中，Ar1和Ar2中的至少一者具有下述式2所示的基团。‑X式2X表示卤素原子、‑C(＝O)‑X2‑R11、‑C(＝O)‑NR12R13、‑O‑C(＝O)‑R14、‑CN、‑SO2NR15R16或全氟烷基，X2表示单键或氧原子，R11和R14各自独立地表示烷基或芳基，R12、R13、R15和R16各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。
平版印刷原版制作方法

[发明专利]显色组合物、平版印刷版原版、平版印刷版的制造方法及显色性化合物-CN201780012745.1有效
发明人： 稻崎毅;野越启介;出井宏明;水野明夫 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-02-13 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： C09B23/00 文献下载
摘要：本发明提供一种显色组合物，所述显色组合物通过含有由下述式(1)表示的化合物的显色组合物、在图像记录层含有上述显色组合物的平版印刷版原版，而显色性优异，并且经时引起的褪色少，其中，式中，各符号如说明书中所记载。并且，能够提供一种基于显色的可见性优异，经时也能够维持优异的可见性，显示良好的机上显影性，白灯稳定性优异，且印刷耐久性及色调再现性中也良好的平版印刷版原版及使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制造方法。而且，能够提供一种显色性优异，并且经时引起的褪色少的显色性化合物。由式1表示的化合物中，作为R4或R5，或者在R1、Ar1或Ar2中具有至少1个由下述式(2)～(4)表示的基团，其中，式中，各符号如说明书中所记载。[化学式1] [化学式2]。
显色组合平版印刷原版制造方法显色性化合物

[发明专利]近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法-CN201480020247.8有效
发明人： 稻崎毅;川岛敬史;人见诚一;佐佐木晃逸 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-04-10 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明提供一种在制成硬化膜时近红外线遮蔽性高的近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜络合物，所述铜络合物是使具有至少两处配位部位的化合物(A)与铜成分反应而成。
近红外线吸收性组合物近红外线截止滤波器照相机模块铜络合物制造近红外线硬化膜遮蔽性配位

[发明专利]光化射线或辐射敏感树脂组合物，由其制备的光化射线或辐射敏感膜和形成图案的方法-CN201280028773.X有效
发明人： 稻崎毅;川端健志;土村智孝 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-06-14 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：根据一个实施方案，一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P)，所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
光化射线辐射敏感树脂组合制备形成图案方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物和使用该组合物的抗蚀剂膜、涂有抗蚀剂的掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模-CN201280022975.3有效
发明人：土村智孝;稻崎毅 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-11 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种正型抗蚀剂组合物，其含有(A)聚合物化合物，所述聚合物化合物具有其中酚羟基的氢原子被由下式(I)表示的酸不稳定基团代替的结构，其中R表示单价有机基团；A表示具有多环烃环结构的基团或具有多环杂环结构的基团；并且*表示与所述酚羟基的氧原子的结合位置。
正型抗蚀剂组合使用抗蚀剂膜涂有抗蚀剂掩模坯抗蚀剂图案形成方法光掩模