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[发明专利]成膜装置-CN201811029582.0有效
发明人：小野大祐;神户优 -专利权人：芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种能够容易且正确地进行屏蔽构件与工件的间隔的设定的成膜装置。本发明具有：腔室(1)，能够使内部为真空，并在上部具有能够开闭的盖体(1a)；旋转平台(3)，设于腔室(1)内，并以圆周的轨迹对工件(W)进行旋转搬运；成膜部(4a～4g)，通过溅射而使成膜材料堆积于由旋转平台(3)搬运的工件(W)以进行成膜；屏蔽构件(9)，在供工件(W)通过的一侧具有开口(91)，形成供利用成膜部(4a～4g)进行成膜的成膜室(S)；以及支撑部(P)，对屏蔽构件(9)进行支撑，相对于腔室(1)为不动且独立于盖体(1a)。
装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201810242740.4有效
发明人：川又由雄;神户优 -专利权人：芝浦机械电子装置株式会社
申请日： 2018-03-22 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置，可正确地调整气体空间与工件之间的间隔。包括：搬送部，在真空容器中具有旋转体，通过旋转体而以圆周的搬送路径循环搬送工件；筒部，在朝向真空容器的内部的搬送路径的方向上延伸存在；窗构件，将导入有工艺气体的气体空间与外部之间加以划分；以及天线，通过施加电力而在气体空间的工艺气体中产生对工件进行等离子体处理的电感耦合等离子体；并且筒部具有设置有开口且朝向旋转体的对向部，在对向部与旋转体之间具有隔离壁，所述隔离壁相对于对向部及旋转体而非接触且相对于真空容器而以固定不动的方式介隔存在，在隔离壁形成有与开口对向且调节等离子体处理的范围的调节孔。
等离子体处理装置