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- [发明专利]废液处理装置-CN201310728262.5有效
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吉田干;藤田敦史;石黑裕隆
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株式会社迪思科
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2013-12-25
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2017-09-12
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C02F1/48
- 本发明提供废液处理装置，其将含有硅屑的废液分离成硅屑和不含硅屑的水，即使经过分离时间也能够高效地将废液分离成硅屑和水。废液处理装置（1）具备分离次数存储部（322），其按照各个硅吸附板（21）中的每一个对从硅吸附板（21）分离出硅屑的次数进行计数并存储；判断部（323），其判断存储在分离次数存储部（322）中的分离次数是否达到了规定的次数；以及报知部（324），其在判断部（323）判断为各个硅吸附板（21）的分离次数达到了规定的次数的情况下进行报知，因此对于分离次数达到了规定的次数的硅吸附板（21），能够判断为劣化后的硅吸附板（21）并从液槽（20）取出，能够长期高效地将含有硅屑的废液分离成硅屑和净水。
- 废液处理装置
- [发明专利]负压生成装置-CN201310718850.0在审
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石黑裕隆;藤田敦史
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株式会社迪思科
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2013-12-24
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2014-07-02
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B24B37/34
- 本发明提供负压生成装置，其具有：水密封式真空泵（10）；吸引路径（20），其对加工装置（100）的卡盘台（102）赋予吸引力并经过所述卡盘台（102）吸引空气和加工液（L），该加工装置（100）具有加工构件（101）；排水箱（30），其储存水密封式真空泵（10）的密封水和吸引出的加工液（L）的混合液（L2）；供给路径（40），其将储存在排水箱（30）中的混合液（L2）作为密封水提供到水密封式真空泵（10）；加工屑去除构件（50），其去除从排水箱（30）送出的混合液（L2）所包含的加工屑；及返回路径（60），其将从加工屑去除构件（50）排出的去除加工屑后的处理水（L3）返回到排水箱（30）。
- 生成装置
- [发明专利]加工废液处理装置-CN201210508751.5有效
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吉田干;石黑裕隆
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株式会社迪思科
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2012-12-03
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2013-06-19
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C02F1/28
- 本发明提供一种加工废液处理装置，其能够从含有硅微粒的加工废液中分离出硅微粒而生成清水，并且能够有效地回收硅微粒。其用于将混入有硅微粒的加工废液分离成硅微粒和清水，其具备：废液处理槽，其用于处理加工废液；硅分离机构，其从加工废液中分离出硅微粒；和硅回收机构，其用于回收硅微粒，硅分离机构具备硅吸附构件和阴极构件，硅吸附构件具备：多个上部辊；多个下部辊；驱动辊，其配设于废液处理槽的外部；以及环形带，其依次搭设于驱动辊、上部辊和下部辊并带正电且具有挠性，所述阴极构件具备在搭设于上部辊及下部辊的环形带之间配设的带负电的多个阴极板，硅回收机构配设于废液处理槽的外部，将硅微粒剥离并回收。
- 加工废液处理装置
- [发明专利]废液处理装置-CN201210515096.6有效
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石黑裕隆;吉田干;藤田敦史
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株式会社迪思科
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2012-12-05
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2013-06-12
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B03C5/02
- 本发明提供一种废液处理装置，其能够将含有硅屑的废液有效地以容易再利用的状态分离成硅屑和净水（水）。废液处理装置（1）具备分离处理构件（20）和回收构件（50）。分离处理构件（20）具备积存废液的液槽（21）、等间隔地配置有多个的硅吸附板（23）、电场形成部（25）以及包括与硅吸附板（23）对置地配置有多个的硅通过限制板的硅通过限制部（24）。硅通过限制板仅容许废液的液体通过并限制硅屑的通过。硅通过限制部（24）具备将划分出通过硅通过限制板的净水存在的区域的壳体（30）内的净水排出的排出部（31）。电场形成部将硅吸附板（23）作为阳极而将硅通过限制板作为阴极。回收构件（50）从硅吸附板（23）分离出硅屑。
- 废液处理装置
- [发明专利]分离装置-CN201110202517.5有效
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石黑裕隆;吉田干
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株式会社迪思科
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2011-07-19
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2012-02-01
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B03C5/02
- 本发明提供一种分离装置，其能够高效地将含有硅屑的废液以易于再利用的状态分离为硅屑和水。该分离装置包括：水槽(2)，其贮留在水中含有硅屑(5)的废液(4)；和硅分离机构(3)，其配置于该水槽(2)内，硅分离机构(3)包括：吸附板(8)，其配置于水槽(2)内并在废液(4)中吸附硅屑(5)；以及网眼状的硅穿过限制板(9A)，其与吸附板(8)对置地分离配置，仅容许废液(4)中的水(4A)穿过而限制硅屑(5)的穿过，并且该分离装置设有作为电场形成构件的电压施加电路(10)，以便使吸附板(8)为阳极，使硅穿过限制板(9A)为阴极，从而形成电场。
- 分离装置
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