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[发明专利]花色苷系色素组合物-CN201580045522.6有效
发明人： 石田正彦;小原隆由;吹野伸子;柿崎智博;大野友道;浜崎孝治;横山贵正;今井雅志 -专利权人：三荣源有限公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C09B67/54 文献下载
摘要：本发明的目的在于以与红甘蓝色素相比效率良好且低成本提供现有技术无法实现的高品质的花色苷系色素组合物。本发明提供下述组合物。一种花色苷系色素组合物，来自红甘蓝以外的植物体且具有下述(A)、(B)和(C)中记载的特征：(A)含有所述花色苷系色素组合物且利用柠檬酸缓冲液(pH3.0)以pH成为3的方式制备的水溶液在可见光区域在500～550nm具有极大吸收波长；(B)以色值E10％1cm值为10的方式制备含有所述花色苷系色素组合物、柠檬酸0.2质量％、乙醇20质量％和水的含色素组合物的水溶液，将该水溶液1mL封入20mL容量的管形瓶中并在50℃下保管5天后，进一步在40℃下保持30分钟时的该管形瓶的密闭空间气体中的甲基硫醇、二甲基二硫醚和二甲基三硫醚的合计量为100pg/mL以下；(C)在所述(B)中记载的在40℃下保持30分钟时的所述管形瓶的密闭空间气体中含有5－甲硫基戊腈。
花色色素组合

[发明专利]基板保持装置-CN201180016263.6有效
发明人：森本直树;石田正彦 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2011-03-16 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供一种基板保持装置（ES），用于在实施等离子处理的处理室内吸附基板。所述装置在等离子处理过程中也能掌握基板的翘曲，并且，以适当的吸附力吸附基板而不致基板破损或诱发异常放电。其包括：卡盘本体，其具有正负电极（3a、3b）；卡板（2），其具有可与基板的外周边部面接触的挡边部（2a）及在所述挡边部围绕出的内部空间（2b）中以规定间隔竖直设立的多个支持部（2c）；直流电源（E1），其在两电极间施加直流电压；提供流经卡板的静电电容的交流电流的电源（E2）及测量此时的交流电流的第一测量装置（M）。而且，设置有去除装置（F），其在等离子处理过程中，从发生在处理室内的等离子体去除与所述交流电流重叠的交流成分。
保持装置

[发明专利]溅镀装置及溅镀方法-CN201180016926.4有效
发明人：森本直树;石田正彦 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2011-03-16 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：提供一种溅镀装置，来抑制基板间薄膜厚度的参差不齐，所述溅镀装置具有配置了靶的真空室；向靶输入功率的电源；气体导入装置；排气装置；保持待处理基板的基板保持装置，基板保持装置具有卡盘本体，所述卡盘本体有正负电极；卡板，所述卡板具有与基板的外周边部能面接触的挡边部及在挡边部所围绕的内部空间里以规定间隔垂直设立的多个支持部；直流电源，所述直流电源向两电极间施加直流电压。所述控制装置具有流出通过卡板（62）的静电电容的交流电流的交流电源（64b）及测量该交流电流的测量装置（A），具有控制装置，控制真空室内的压力，以便在真空室（1）内导入规定气体，向靶（2）输入功率并溅镀靶，在基板表面形成规定薄膜时，保持测量装置测量出的交流电流值是规定值。
装置方法

[发明专利]静电卡盘用卡板的制造方法-CN200980151941.2有效
发明人：难波隆宏;森本直树;曾我部浩二;石田正彦 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2009-12-09 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供一种静电卡盘用卡板的制造方法，具有从开始使用时使作为待处理基板的晶片W不易发生脱离不良的高生产效率。是覆盖具有电极(3a、3b)的卡盘主体(1)的表面的、用在静电卡盘(ES)上的由介电体制成的卡板(2)的制造方法，包括：将原料粉末压缩成指定形状后，烧结得到烧结体的工序；通过研磨加工，将烧结体中与应吸附基板接触的表面加工到指定的表面粗糙度及平坦度的工序；选择性地仅去除伴随研磨加工产生的准备脱出的粒子的喷砂处理的工序。
静电卡盘用卡板制造方法

[发明专利]基板管理方法-CN200980139964.1无效
发明人： 石田正彦;森本直树;曾我部浩二 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2009-10-05 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种基板管理方法，目的在于切实把握静电卡盘上导致应处理基板的破损的基板状态。在将基板保持在静电卡盘上时，经交流电源输入流经卡板的电容的交流电流，检测此电流值；监测经气体导入设备的输入所述气体的流量，通过电流值及气体流量中至少一方的变化量来管理基板状态，以防基板破损，所述卡盘包括：卡盘主体1，其具有电极3a、3b；绝缘体卡板2，具有可与应处理基板的外周边缘部面接触的挡边部2a，以及在所述挡边部2a所围绕的内部空间2b中垂直设立的、具有指定间隔的多个支持部2c；导入设备，将指定的气体导入所述内部空间，所述静电卡盘用卡板保持基板，且向所述内部空间供给指定的气体形成气体气氛。
管理方法

[其他]端型多层干涉滤光器的制作方法-CN85106301无效
发明人：山岸丰;石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-08-21 - 公布日： 1988-12-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及端形多层干涉滤光器，本发明的目的是尽可能地控制多层膜发生在其切割边缘的分离，从而改进产品。在本发明中，设置有具有所需要尺寸的窗口的掩膜被固定在衬底上，以使蒸发镀敷材料不能附着到要切割的衬底部分上。根据本发明的端型多层干涉滤光器可用于检测器，例如红外分析仪的检测器。
多层干涉滤光制作方法

[其他]端型多层干涉滤光器的制作方法-CN101985000006301在审
发明人：山岸丰;石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-08-21 - 公布日： 1988-12-21 - 主分类号：文献下载
摘要：本发明涉及端形多层干涉滤光器，本发明的目的是尽可能地控制多层膜发生在其切割边缘的分离，从而改进产品。在本发明中，设置有具有所需要尺寸的窗口的掩膜被固定在衬底上，以使蒸发镀敷材料不能附着到要切割的衬底部分上。根据本发明的端型多层干涉滤光器可用于检测器，例如红外分析仪的检测器。
多层干涉滤光制作方法

[其他]用于气体分析器的多层膜干涉滤光器-CN85106181无效
发明人： 石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-08-16 - 公布日： 1988-06-22 - 主分类号： G01N21/35 文献下载
摘要：本发明涉及用于氨气、乙烯等气体分析器的多层膜干涉滤光器，其目的是要在物理强度和耐久性上对之进行改进。在由红外线可穿透材料制作的基片上，制作出了一种多层膜，在这种多层膜中锗被用作高折射率材料，而硫化锌被用作低折射率材料。
用于气体分析器多层干涉滤光

[其他]用于气体分析器的多层膜干涉滤光器-CN101985000006181在审
发明人： 石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-08-16 - 公布日： 1988-06-22 - 主分类号：文献下载
摘要：本发明涉及用于氨气、乙烯等气体分析器的多层膜干涉滤光器，其目的是要在物理强度和耐久性上对之进行改进。在由红外线可穿透材料制作的基片上，制作出了一种多层膜，在这种多层膜中锗被用作高折射率材料，而硫化锌被用作低折射率材料。
用于气体分析器多层干涉滤光

[其他]滤光片生产中用的掩膜-CN85104654无效
发明人：山岸丰;石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-06-17 - 公布日： 1987-03-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种在滤光片生产中采用的带有许多孔的掩膜，它可以防止蒸涂的金属覆盖到基片的被切割部分而仅仅能覆盖到基片上为掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的边缘加工成薄的阶梯形，这样的结构能够消除所谓的遮蔽部分和避免掩膜的弯曲。
滤光生产中用

[其他]滤光片生产中用的掩膜-CN101985000004654在审
发明人：山岸丰;石田正彦 -专利权人：株式会社堀场制作所
申请日： 1985-06-17 - 公布日： 1987-03-11 - 主分类号：文献下载
摘要：一种在滤光片生产中采用的带有许多孔的掩膜，它可以防止蒸涂的金属覆盖到基片的被切割部分而仅仅能覆盖到基片上为掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的边缘加工成薄的阶梯形，这样的结构能够消除所谓的遮蔽部分和避免掩膜的弯曲。
滤光生产中用

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