专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]废气处理装置及废气处理系统-CN202221911579.3有效
  • 张伟明;丁宇;孙伟男;余欢;江枫涛;翁锐;石教杰 - 上海盛剑半导体科技有限公司
  • 2022-07-21 - 2023-01-03 - F23G7/06
  • 本实用新型提供一种废气处理装置及包括该废气处理装置的废气处理系统,涉及废气净化领域。废气处理装置包括反应器、燃烧器以及侦测器。反应器具有反应腔,反应器设置有与反应腔连通的进气管和出气管;燃烧器设置于反应器,且燃烧器用于向反应腔发出火焰;侦测器设置于反应器,且侦测器和燃烧器均位于反应器的同一端,侦测器用于检测燃烧器发出的火焰的状态。通过将侦测器设置在反应器内位于燃烧器的同一端,以使侦测器距离燃烧器更近,从而可使得侦测器直接对燃烧器发出的火焰状态进行侦测,有效避免了在燃烧过程中生成的粉尘对侦测器产生的影响,进而提高了侦测器的准确性,保证了废气处理装置能够稳定运行。
  • 废气处理装置系统
  • [实用新型]一种压力缓冲装置及半导体设备-CN202221918681.6有效
  • 张伟明;丁宇;余欢;石教杰 - 上海盛剑半导体科技有限公司
  • 2022-07-22 - 2022-11-15 - F16L55/027
  • 本实用新型提供一种压力缓冲装置及半导体设备,涉及压力缓冲技术领域。压力缓冲装置包括相互连接的进气管道和缓冲管道。所述进气管道的一端用于与半导体装置连接,另一端与所述缓冲管道连通,用于向所述缓冲管道输送废气;所述缓冲管道设置有出气口,所述出气口用于与所述废气处理装置连接,通过使部分缓冲管道的内径小于其余部分缓冲管道的内径,以使废气流速加快、压力减小,从而使在缓冲管道内产生一定压差,可对废气处理装置内产生的压力波动起到缓冲作用,并使得与半导体装置连接的进气管道处的压力保持稳定,进而使整个半导体设备系统稳定运行,避免装置宕机造成经济损失。
  • 一种压力缓冲装置半导体设备

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