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[发明专利]酰亚胺系树脂膜制造系统、酰亚胺系树脂膜制造方法、及隔膜-CN201910617936.1有效
发明人：川村芳次;杉山真也;石川薰 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01M50/403 文献下载
摘要：本发明涉及酰亚胺系树脂膜制造系统、酰亚胺系树脂膜制造方法、及隔膜。本发明的课题是能够有效地制造高品质的酰亚胺系树脂膜，减轻制造过程中的废液处理的负担。本发明的解决手段为制造系统(SYS1)，其为制造多孔性树脂膜(F)的制造系统，所述制造系统具备下述单元：膜形成单元(U1)，所述膜形成单元(U1)通过将包含聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺、以及微粒的烧成膜(FB)浸渍于能够将微粒溶解或分解的第一浸蚀液(Q1)中，或者通过加热至能够将微粒分解的温度，从而将微粒除去，形成多孔性树脂膜(F)，所述多孔性树脂膜(F)中形成有在膜厚方向上贯通的多孔部(A4)；预湿单元(U2)，所述预湿单元(U2)向利用膜形成单元(U1)形成的多孔性树脂膜(F)供给不溶解多孔性树脂膜(F)的预湿液(PW)；和化学浸蚀单元(U3)，所述化学浸蚀单元(U3)使用与第一浸蚀液(Q1)不同的第二浸蚀液(Q2)，将被供给有预湿液(PW)的多孔性树脂膜(F)的一部分溶解。
亚胺树脂制造系统方法隔膜

[发明专利]二次电池及二次电池用多孔质隔膜-CN201910088841.5有效
发明人： 石川薰;西端巳季夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01M50/423 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供电池性能(例如，反复充放电中的放电容量保持率高、阻抗低、快速充电性能高)优异的二次电池、及其中使用的二次电池用多孔质隔膜。本发明的解决手段为一种二次电池，其是具备多孔质隔膜的二次电池，前述多孔质隔膜包含多孔质聚酰亚胺膜，所述多孔质聚酰亚胺膜包含：含有下述式(1‑1)表示的结构单元及下述式(1‑2)表示的结构单元的聚酰亚胺。上述式中，A11及A12各自独立地表示由包含芳香族四羧酸酐的酸酐衍生的4价的芳香族基团，B11及B12各自独立地表示由芳香族二胺衍生的2价的二胺残基，选自由A12及B12组成的组中的至少1个在其结构中包含2价的间隔基团。
二次电池多孔隔膜

[发明专利]多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法及组合物-CN201910087385.2有效
发明人： 石川薰;西端巳季夫;川村芳次;中尾浩章 -专利权人：东京应化工业株式会社;JFE化学株式会社
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C08L79/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供抗拉强度及弯曲强度优异的多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法、及可合适地用于其制造的组合物。本发明的解决手段为由ASTM标准D638规定的抗拉强度为45MPa以上的多孔质聚酰亚胺膜坯膜。所述多孔质聚酰亚胺膜坯膜包含：含有下述式(1‑1)表示的结构单元及下述式(1‑2)表示的结构单元的聚酰亚胺。上述式中，A11及A12各自独立地表示由包含芳香族四羧酸酐的酸酐衍生的4价的芳香族基团，B11及B12各自独立地表示由芳香族二胺衍生的2价的二胺残基，选自由A12及B12组成的组中的至少1个在其结构中包含2价的间隔基团。
多孔聚酰亚胺膜坯膜制造方法组合

[发明专利]清漆组合物、聚酰亚胺多孔质膜的前体膜及其制造方法、以及聚酰亚胺多孔质膜的制造方法-CN202010570916.6有效
发明人： 石川薰;野口拓也 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C09D179/08 文献下载
摘要：本发明提供：即使包含水也能形成厚度、组成均匀的涂布膜、并且组成均匀的用于形成聚酰亚胺多孔质膜的包含微粒的清漆组合物及其制造方法；使用该清漆组合物的聚酰亚胺多孔质膜的前体膜的制造方法；聚酰亚胺多孔质膜的前体膜和使用其的聚酰亚胺多孔质膜的制造方法。在形成包含聚酰胺酸(A)、有机微粒(B)和溶剂(S)的前述清漆组合物时，向清漆组合物中添加碱性化合物(C)，并且，使用包含规定量的水(S‑I)和有机溶剂(S‑II)的溶剂(S)，或者，作为溶剂(S)，将水(S‑i)及/或水溶性有机溶剂(S‑ii)、与水溶性有机溶剂(S‑ii)以外的有机溶剂(S‑iii)组合使用，并且，使水(S‑i)及水溶性有机溶剂(S‑ii)的使用量的总量在特定的范围内。
清漆组合聚酰亚胺多孔质膜前体膜及其制造方法以及

[发明专利]多孔聚酰亚胺膜制造用清漆及使用了它的多孔聚酰亚胺膜的制造方法-CN201580044220.7有效
发明人：户张光治;市川正则;石川薰;菅原司 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： C08J9/26 文献下载
摘要：本发明提供能够制成难以产生海岛结构的未烧成复合膜的多孔聚酰亚胺膜制造用清漆及使用了它的多孔聚酰亚胺膜的制造方法。本发明的多孔聚酰亚胺膜制造用清漆含有包含聚酰胺酸和/或聚酰亚胺的树脂、微粒、和溶剂，上述微粒的含量相对于上述树脂与上述微粒的合计为65体积％以上，25℃时的粘度为550mPa·s以上。该多孔聚酰亚胺膜制造用清漆优选还含有分散剂。本发明的多孔聚酰亚胺膜的制造方法具有：未烧成复合膜成膜工序，使用上述多孔聚酰亚胺膜制造用清漆，形成未烧成复合膜；烧成工序，对上述未烧成复合膜进行烧成而得到聚酰亚胺‑微粒复合膜；以及微粒除去工序，从上述聚酰亚胺‑微粒复合膜中去除微粒。
多孔聚酰亚胺制造清漆使用方法

[发明专利]多孔质聚酰亚胺膜的制造方法-CN201580047300.8有效
发明人：户张光治;川村芳次;石川薰;菅原司 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： C08J9/26 文献下载
摘要：本发明提供多孔质聚酰亚胺膜的制造方法，所述制造方法能够抑制在对未烧成复合膜进行烧成而得到的聚酰亚胺‑微粒复合膜中发生卷曲。本发明涉及的多孔质聚酰亚胺膜的制造方法以下述的顺序包括：未烧成复合膜成膜工序，使用下述清漆形成未烧成复合膜，所述清漆含有由聚酰胺酸及/或聚酰亚胺形成的树脂、微粒和溶剂；浸渍工序，将上述未烧成复合膜在含水溶剂中浸渍；烧成工序，对上述未烧成复合膜进行烧成，从而得到聚酰亚胺‑微粒复合膜；以及微粒除去工序，从上述聚酰亚胺‑微粒复合膜中除去微粒。
多孔聚酰亚胺制造方法

[发明专利]晶体生长控制剂、p型半导体微粒或p型半导体微粒膜的形成方法、空穴传输层形成用组合物及太阳能电池-CN201580012573.9有效
发明人：仲村亮正;山之内笃史;浅井隆宏;石川薰 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-03-10 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： H01L21/368 文献下载
摘要：第一，本发明提供一种能够抑制p型半导体的晶体尺寸增大且能够进行p型半导体微粒表面的化学修饰的晶体生长控制剂、使用了该晶体生长控制剂的p型半导体微粒或p型半导体微粒膜的形成方法、太阳能电池的空穴传输层形成用组合物、以及使用了该空穴传输层形成用组合物的太阳能电池。第二，本发明提供即使在使用具有除硫氰酸根离子以外的阴离子的有机盐(离子性液体)的情况下也能促进p型半导体的结晶化及微细化且能进行p型半导体微粒表面的化学修饰的空穴传输层形成用组合物、以及使用了该空穴传输层形成用组合物的太阳能电池。本发明的晶体生长控制剂包含选自通过质子或阳离子的解离而生成硫醇盐阴离子的化合物及二硫醚化合物中的至少1种含硫化合物(但硫氰酸盐除外。)，并且控制p型半导体的晶体生长。
晶体生长控制半导体微粒形成方法空穴传输组合太阳能电池

[发明专利]显影液组合物及其制造方法、和抗蚀图形的形成方法-CN200680006791.2有效
发明人： 石川薰;三隅浩一;斋藤宏二 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-04-07 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供一种可以形成良好的厚膜抗蚀图形、且起泡少的显影液组合物。该显影液组合物，其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物，其中，含有作为主剂的有机季铵盐基、用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂、和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂及非离子表面活性剂系消泡剂中选择的消泡剂。(I)式中的R¹是碳数为5～18的烷基或烷氧基，a是1或2；R²、R³是独立的磺酸铵基、磺酸取代铵基或下述通式(II)表示的基团，b是0或1～3的整数；c是1～3的整数。(II)式中M是金属原子。
显影液组合及其制造方法图形形成

[发明专利]用于制造抗蚀图案和导体图案的方法-CN200580040726.7有效
发明人：三隅浩一;斋藤宏二;石川薰 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-11-28 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明用于制造抗蚀图案的方法包括：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型正性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层，获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
用于制造图案导体方法

[发明专利]用于制造抗蚀图案和导体图案的方法-CN200580040710.6有效
发明人：三隅浩一;斋藤宏二;石川薰 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-11-29 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明用于制造抗蚀图案的方法是包括下列步骤的用于制造抗蚀图案的方法：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型负性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层以获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
用于制造图案导体方法

[发明专利]车辆用反射镜装置-CN200610007706.6有效
发明人： 石川薰 -专利权人：本田制锁有限公司
申请日： 2006-02-14 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： B60R1/072 文献下载
摘要：一种车辆用反射镜装置，相对反射镜保持架的支点配置在驱动轴相反侧的动作轴的一端部可摆头地与反射镜保持架连接，传感器的检测杆与插入动作轴连接，以便检测与动作轴的轴向位置对应的反射镜保持架的摆动角，导孔设置在固定的支承部件上，动作轴(26A)以可绕与下述平面正交的轴线摆动的方式由支承部件(34)支承，并插入在导孔(75A)中，该平面是包含连接驱动轴在反射镜保持架(20)上的连接部、反射镜保持架的支点及动作轴(26A)在反射镜保持架上的连接部的直线的平面，具有与动作轴的摆动轴线同轴的轴线的检测杆(96A)，以可使动作轴绕该检测杆的轴线摆动的方式与动作轴连接。从而，可高精度地检测反射镜保持架的摆动角。
车辆反射装置

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