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[发明专利]处理液供给装置-CN201710805006.X有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[发明专利]管体和泵装置-CN202010080475.1有效
发明人： 石丸大辅;桥本克也;高木康弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： F04B53/00 文献下载
摘要：本发明提供一种管体和泵装置。使管体的寿命提高。该管体被使用于供液构件，是能够利用加压而变形的空心的管体，其中，所述管体的轴向截面具有彼此相对的两个长边部和彼此相对的两个短边部，各所述长边部与各所述短边部所形成的、4个角部分具有向外侧凸出地弯曲而成的形状，各所述长边部具有与所述角部分连续的向内侧凹陷而成的凹部，各所述短边部的除了所述角部分以外的部分是平坦形状。
装置

[发明专利]基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质-CN202010662689.X在审
发明人：梶原正幸;一野克宪;石丸大辅;田尻卓也;山本笃;今村真人;牟田友彦;入山哲郎;坂本丈明;冈口广树;安达健二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质，对于减少向基板喷出的处理液中的微粒是有用的。本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备：喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；送液部，其向喷出部输送处理液；补充部，其向送液部补充用于向喷出部输送的处理液；连接部，其具有将补充部与送液部之间进行开闭的切换阀；过滤器，其将从补充部向送液部补充的处理液中包含的异物去除；补充准备部，其使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小，之后打开所述切换阀；以及补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的情况下，使补充部开始向送液部补充处理液。
处理装置控制方法以及计算机可读存储介质

[实用新型]管体和泵装置-CN202020152621.2有效
发明人： 石丸大辅;桥本克也;高木康弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： F04B53/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种管体和泵装置。使管体的寿命提高。该管体被使用于供液构件，是能够利用加压而变形的空心的管体，其中，所述管体的轴向截面具有彼此相对的两个长边部和彼此相对的两个短边部，各所述长边部与各所述短边部所形成的、4个角部分具有向外侧凸出地弯曲而成的形状，各所述长边部具有与所述角部分连续的向内侧凹陷而成的凹部，各所述短边部的除了所述角部分以外的部分是平坦形状。
装置

[发明专利]泵、泵装置和供液系统-CN201510691124.3有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;大久保敬弘;汤本知行;牟田友彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： F04B43/10 文献下载
摘要：本发明提供抑制液体的滞留的泵(100)，其包括：具有弹性的、用于流通输送对象的液体的管(102)；管用壳体(104)，覆盖管(102)的外侧，在该管用壳体与管(102)的外表面之间的内部空间(V)中保持气体；和进行向内部空间(V)供给气体和从所述内部空间(V)排出气体的动作的电动气动调节器(RE)。
装置系统

[实用新型]处理液供给装置-CN201721148388.5有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。在以往的处理液供给装置中，有时处理液经过过滤器时的液压由于缓冲罐与过滤器的位置关系、两者之间的配管等而不成为期望的液压。本实用新型的抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[发明专利]基板处理系统及基板处理方法-CN201110396126.1有效
发明人：出口雅敏;船越秀朗;武井利亲;佐藤礼史;清田弥;石丸大辅;待鸟真一;须中郁雄;龟井繁则 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理系统及基板处理方法。其抑制涂敷膜的向输送臂的附着并且适当地处理基板。涂敷显影处理系统(1)包括：用于调节晶圆(W)的中心位置的位置调节装置(42)；用于在晶圆上涂敷聚酰亚胺溶液的涂敷处理装置；用于输送晶圆的晶圆输送装置(80)。晶圆输送装置包括：以比晶圆的半径大的曲率半径沿着晶圆的周缘部弯曲的臂部；自臂部向内侧突出并用于保持晶圆的背面的保持部。位置调节装置包括：保持晶圆的背面的中心部的吸盘；对被保持于吸盘的晶圆的中心位置进行检测的位置检测部；使吸盘移动的移动机构；控制部，其根据位置检测部所检测到的检测结果控制移动机构，以使被保持于吸盘的晶圆的中心位置与臂部的中心位置对齐。
处理系统方法