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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]导电性柱、接合结构、电子设备及导电性柱的制造方法-CN202080073466.8在审
发明人：山口亮太;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2020-09-17 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L23/488 文献下载
摘要：本发明提供一种可经由接合层将基材与被接合构件以高接合强度接合的导电性柱及其制造方法。具体而言，制成如下导电性柱1，包含设置于基材11上的金属微粒的烧结体12，金属微粒的使用X射线小角散射测定法测定的平均粒径不足1μm，烧结体12的上表面12b为向基材11侧凹陷的凹型形状。金属微粒优选为选自Ag及Cu中的一种以上的金属。
导电性接合结构电子设备制造方法

[发明专利]光压印用固化性组合物及使用其的图案形成方法-CN201780029089.6有效
发明人：伊部武史;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2017-04-25 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： C08F2/46 文献下载
摘要：本发明要解决的课题在于，提供含有聚硅氧烷等含有硅原子的聚合性化合物、对基板的密合性及在微细图案模具中的脱模性优异、并且模具污染非常少的压印用固化性组合物。通过提供光压印用固化性组合物来解决上述课题，所述光压印用固化性组合物的特征在于，包含：分子中含有硅原子的聚合性化合物(A)、光聚合引发剂(B)和添加剂(C)，前述添加剂(C)为下述式(C1)或下述式(C2)[式(C1)中的R1为碳数12～30的烷基，X1为氢原子或酰基，n为0～50的整数。式(C2)中的X2及X3各自独立地表示氢原子或酰基，p、q、r各自独立地为1～50的整数。]所示的化合物。
压印固化组合使用图案形成方法

[发明专利]支柱形成用导电糊剂-CN201980039134.5在审
发明人：山口亮太;关根信博;矢田真;佐野义之 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2019-04-25 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： H01L21/60 文献下载
摘要：在作为现有方法的电镀法中，存在难以不受底切的影响而形成微细的支柱这样的问题。另外，在化学镀法中，存在难以没有空隙地形成相同形状的支柱这样的问题。因此，本发明的目的在于，使用本发明的支柱形成用导电糊剂，通过埋入法制作支柱，由此能够防止底切，并且再现性良好地提供相同形状的金属柱。发现了以微细的金属微粒且特定的微粒含有率为特征的导电糊剂在支柱的形成中特别有效。
支柱形成导电

[发明专利]固化性组合物、抗蚀材料及抗蚀膜-CN201580056812.0有效
发明人：伊部武史;矢木直人;谷本尚志;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2015-10-06 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： C08F30/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物，提供含有该固化性组合物的抗蚀膜及层叠体、以及使用该抗蚀膜的图案形成方法。本发明通过提供如下的固化性组合物，从而解决了上述课题，所述固化性组合物含有多官能聚合性单体(A)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(A)具备两个以上具有聚合性基团的基团，并且具备至少一个所述式(1)所示的具有聚合性基团的基团Q。
固化组合材料抗蚀膜

[发明专利]树脂组合物、干式蚀刻用抗蚀掩模及图案形成方法-CN201480071050.7有效
发明人：伊部武史;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物，其特征在于，所述干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物含有聚合物(A)，所述聚合物(A)在侧链具有包含连接有乙烯基的芳香族基团的特定结构，该聚合物(A)中的特定结构在聚合物(A)中占80～100重量％。还提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其特征在于，其是使该干式蚀刻抗蚀剂用固化性组合物固化而成的，以及提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其具有由纳米压印法得到的图案。
树脂组合蚀刻用抗蚀掩模图案形成方法

[发明专利]压印用固化性组合物-CN201480032326.0有效
发明人：山口纯司;谷本尚志;伊部武史;矢田真;矢木直人 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种固化性组合物，其特征在于，其为含有聚合性化合物的压印用固化性组合物，(a)上述聚合性化合物的聚合性基团浓度为4.3～7.5mmol/g，(b)相对于全部聚合性化合物以40～95质量％的范围含有大西参数为3.5以下、环参数为0.35以上的聚合性化合物X，(c)进而，相对于全部聚合性化合物以5～20质量％的范围含有具有3个以上聚合性基团的聚合性化合物C，(d)组合物的25℃下的粘度在不含溶剂的状态下为3～8000mPa·s的范围。
压印固化组合

[发明专利]氧等离子体蚀刻用抗蚀材料、抗蚀膜和使用抗蚀膜的层叠体-CN201580013836.8在审
发明人：矢木直人;伊部武史;谷本尚志;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2015-03-12 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种氧等离子体蚀刻用抗蚀材料，其特征在于，是一种含有复合树脂(A)的干式蚀刻用抗蚀材料，上述复合树脂(A)具有聚硅氧烷链段(a1)和乙烯基系聚合物链段(a2)，上述聚硅氧烷链段(a1)具有通式(1)和/或通式(2)表示的结构单元以及硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基，该氧等离子体蚀刻用抗蚀材料的总固体成分量中的硅原子的含量为15～45wt％。
等离子体蚀刻用抗蚀材料抗蚀膜使用层叠

[发明专利]粘合带-CN201280048113.8有效
发明人：森野彰规;加藤直树;矢田真;里川雄一;山上晃;杉浦隆峰;角木将哉 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2012-09-28 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于光学膜的固定的粘合带，其通过与光学膜相接的粘合剂层为由水分散型丙烯酸系粘合剂组合物所构成的粘合剂层，粘合剂层的玻璃化转变温度为-5℃以下，凝胶分率为25～45％的粘合带，即使使用降低了VOC的水系粘合剂时，也可适宜地固定构件，而且可抑制易发生形变的光学膜的形变。本发明的粘合带，具有优异的环境适应性，在光学膜作为被粘合对象的情况下，能够抑制由光学膜形变造成的视认性的降低、框体变形等造成的粘合带的剥落，因此适合于以光学膜为被粘合对象的图像显示装置的部件间的固定，特别是光学膜与透明面板之间的固定。
粘合

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