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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]聚芳醚酮树脂及其制造方法、以及成型体-CN202080048160.7在审
发明人：岩楯展行;矢木直人 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： C08G67/00 文献下载
摘要：为具有下述通式(1‑1)、(2‑1)和(3‑1)所表示的重复单元的聚芳醚酮树脂。(式(1‑1)中，m1为1～3的任意整数。)(式(2‑1)中，m2为1～3的任意整数。)(式(3‑1)中，n为0～2的任意整数。)
聚芳醚酮树脂及其制造方法以及成型

[发明专利]固化性组合物、抗蚀材料及抗蚀膜-CN201580056812.0有效
发明人：伊部武史;矢木直人;谷本尚志;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2015-10-06 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： C08F30/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物，提供含有该固化性组合物的抗蚀膜及层叠体、以及使用该抗蚀膜的图案形成方法。本发明通过提供如下的固化性组合物，从而解决了上述课题，所述固化性组合物含有多官能聚合性单体(A)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(A)具备两个以上具有聚合性基团的基团，并且具备至少一个所述式(1)所示的具有聚合性基团的基团Q。
固化组合材料抗蚀膜

[发明专利]层叠体-CN201580056300.4有效
发明人：高田泰广;三木崇之;矢木直人;冈贤一郎;鸟井秀树;工藤伸一 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种层叠体，其特征在于，是层叠树脂层(I)与第二层(II)而成的层叠体，上述树脂层(I)由含有无机微粒复合体(M)的树脂组合物构成，上述无机微粒复合体(M)是聚硅氧烷链段(a1)与乙烯基系聚合物链段(a2)介由通式(4)表示的键进行键合而成的复合树脂(A)与无机微粒(m)在上述聚硅氧烷链段(a1)介由硅氧烷键进行键合而成的，其中，上述聚硅氧烷链段(a1)具有通式(1)和/或通式(2)表示的结构单元以及硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基。
层叠

[发明专利]无机微粒复合体和其制造方法、组合物及固化物-CN201480035948.9有效
发明人：三木崇之;矢木直人;冈贤一郎;高田泰广;工藤伸一;大津理人;兼松孝之 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2014-04-24 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C08G77/442 文献下载
摘要：本发明提供一种无机微粒复合体(M)，其特征在于，键合有具有特定结构的聚硅氧烷链段(a1)和乙烯基系聚合物链段(a2)的复合树脂(A)与无机微粒(m)以上述聚硅氧烷链段(a1)借助硅氧烷键键合。另外，还提供含有上述无机微粒复合体(M)的组合物、硬涂材料。另外，还提供使含有上述无机微粒复合体(M)的组合物固化而得到的固化物及含有该固化物的层叠体。
无机微粒复合体制造方法组合固化

[发明专利]压印用固化性组合物-CN201480032326.0有效
发明人：山口纯司;谷本尚志;伊部武史;矢田真;矢木直人 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2014-05-23 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种固化性组合物，其特征在于，其为含有聚合性化合物的压印用固化性组合物，(a)上述聚合性化合物的聚合性基团浓度为4.3～7.5mmol/g，(b)相对于全部聚合性化合物以40～95质量％的范围含有大西参数为3.5以下、环参数为0.35以上的聚合性化合物X，(c)进而，相对于全部聚合性化合物以5～20质量％的范围含有具有3个以上聚合性基团的聚合性化合物C，(d)组合物的25℃下的粘度在不含溶剂的状态下为3～8000mPa·s的范围。
压印固化组合

[发明专利]氧等离子体蚀刻用抗蚀材料、抗蚀膜和使用抗蚀膜的层叠体-CN201580013836.8在审
发明人： 矢木直人;伊部武史;谷本尚志;矢田真 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2015-03-12 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种氧等离子体蚀刻用抗蚀材料，其特征在于，是一种含有复合树脂(A)的干式蚀刻用抗蚀材料，上述复合树脂(A)具有聚硅氧烷链段(a1)和乙烯基系聚合物链段(a2)，上述聚硅氧烷链段(a1)具有通式(1)和/或通式(2)表示的结构单元以及硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基，该氧等离子体蚀刻用抗蚀材料的总固体成分量中的硅原子的含量为15～45wt％。
等离子体蚀刻用抗蚀材料抗蚀膜使用层叠

[发明专利]纳米压印用固化性组合物、纳米压印成形体以及图案形成方法-CN201280008915.6有效
发明人：关根均;高田泰广;谷本尚志;矢木直人 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种用于按压纳米压印用模具来转印微细凹凸图案的“纳米压印”的、含有复合树脂的纳米压印用固化性组合物，所述复合树脂具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基及聚合性双键的聚硅氧烷链段、和该聚硅氧烷以外的聚合物链段。另外，提供使用该纳米压印组合物的纳米压印成形体、抗蚀膜、树脂模具和图案形成方法。
纳米压印固化组合成形以及图案形成方法

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