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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]图形曝光装置用的试样台-CN99102830.9无效
发明人： 相崎尚昭 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 1999-03-05 - 公布日： 1999-11-03 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：一种曝光装置用的试样台将在掩模上形成的电路图形复制在试样上,没有放大倍数偏差、检测部件和位置偏移计量部件而引起的精度降低,另外,也不会使掩模本身或掩模支持的基片受到损伤。即使在掩模图形小的情况下,也可以在短时间内,将试样硅基片伸长或缩短。图形曝光装置用的试样台,被分为中央部和周围部,分别设有吸附试样硅基片21的吸盘机构,周围的一部分或全部可以从试样台的中心沿半径方向移动。
图形曝光装置试样

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共 1 条

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