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[发明专利]抗蚀剂添加剂及包含该添加剂的抗蚀剂组合物-CN201210572957.4有效
发明人：裵昌完;朱炫相;申大铉;洪容和 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2012-12-25 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种下式1表示的抗蚀剂添加剂和包含该添加剂的抗蚀剂组合物。在抗蚀剂组合物中包含的抗蚀剂添加剂改善在曝光过程中抗蚀剂膜表面的疏水性以防止在浸没式光刻过程中在水中浸出，并且形成具有优异的敏感度和高分辨率的微抗蚀剂图案：式1在式1中，取代基的定义如说明书中所述。
抗蚀剂添加剂包含组合

[发明专利]新的丙烯酸类单体、聚合物以及包含该聚合物的抗蚀剂组合物-CN201210564295.6无效
发明人：韩俊熙;金真湖;任铉淳;申大铉 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2012-12-21 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： C07C69/753 文献下载
摘要：本发明公开了具有由化学式（1）表示的结构的丙烯酸类单体、含有来自所述丙烯酸类单体的重复单元的聚合物和通过使用该聚合物制备的抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物显示优异的粘合性、存储稳定性和改善的线宽度粗糙度，在C/H图案和L/S图案二者中显示优异的分辨率，具有优异的工艺窗口，使得可以获得优异的图案轮廓而与衬底的类型无关，并且显示改善的对比度。化学式中各取代基的定义如说明书中所述。
丙烯酸单体聚合物以及包含抗蚀剂组合

[发明专利]包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物-CN201110176511.5有效
发明人：申珍奉;金真湖;申大铉;李承宰 -专利权人：韩国锦湖石油化学株式会社
申请日： 2011-06-28 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：一种包括新丙烯酸系单体的光刻胶用共聚物和包括其的光刻胶用树脂合成物。根据本发明的一个实施例的光刻胶用树脂合成物，包括：100个重量单位的以下列化学式3表示的共聚物；0.5到15个重量单位的光酸发生剂；和700到1500个重量单位的溶剂。[化学式3]在该化学式中，R1、R2和R3分别相互独立地表示包括或不包括氢基、醚基(ether group)、酯基(ester group)、羰基(carbonyl group)、缩醛基(acetal group)、环氧基(epoxy group)、腈基(nitrile group)、醛基(aldehyde group)的C1-30的烷基(alkyl group)或C3-30的环烷基(cyclo alkyl group)，R4、R5和R5分别相互独立地表示氢基或甲基(methyl group)，l、m、n和o作为分别表示主锁内重复单位的数目，具有l+m+n+o＝l、0≤l/(l+m+n+o)＜0.4、0＜m/(l+m+n+o)＜0.6、0≤n/(l+m+n+o)＜0.6和0＜o/(l+m+n+o)＜0.4的值。
包括丙烯酸单体光刻共聚物树脂合成物

[发明专利]锍化合物、光致产酸剂及其制备方法-CN201210004606.3有效
发明人：朱炫相;徐东辙;尹队卿;申大铉 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2012-01-04 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：[化学式1]本发明涉及锍化合物、光致产酸剂及其制备方法。具体而言，本发明提供了由式(1)表示的锍化合物、光致产酸剂以及制备锍化合物的方法。在式1中，X表示供电子基团；R1和R2各自表示烷基、环烷基等；R3和R4各自表示亚芳基或亚杂芳基；R5和R6各自表示烷基、环烷基等；且A-和B-为彼此不同的阴离子。当所述锍化合物用作光致产酸剂时，其可产生均匀且优异的抗蚀图形。
化合物光致产酸剂及其制备方法

[发明专利]光生酸剂、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物-CN201110139962.1无效
发明人：韩俊熙;金真湖;赵承德;申大铉 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2011-05-24 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光生酸剂、其制备方法、以及包含该光生酸剂的抗蚀剂组合物。该光生酸剂是由下式1表示的化合物：[式1]其中，在式1中，Y表示选自具有3至30个碳原子的环烷基基团和具有3至30个碳原子的环烯基基团中的任一种；Q₁和Q₂各自独立地表示卤素原子；X表示选自烷烃二基、烯烃二基、NR′、S、O、CO及其组合中的任一种；R′表示选自氢原子和烷基中的任一种；n表示0至5的整数；且A+表示有机反离子。该光生酸剂在曝光时能够产生酸，所述酸具有低的扩散速率，具有短的扩散距离，且显示适当程度的酸度，从而能够改善线宽粗糙度(LWR)特性，并且能够控制其在处理中所用的诸如纯水的溶剂中的洗脱。
光生酸剂制备方法以及含有抗蚀剂组合

[发明专利]丙烯酸单体、聚合物和化学增幅型光致抗蚀剂组合物-CN201010211793.3无效
发明人：朴兰罗;金真湖;李昌洙;申大铉 -专利权人：韩国锦湖石油化学株式会社
申请日： 2010-06-18 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： C07C69/67 文献下载
摘要：本发明公开了丙烯酸单体、聚合物和化学增幅型光致抗蚀剂组合物，所述丙烯酸单体在其末端具有叔丁氧羰基(t-BOX group)。所述丙烯酸单体被用作制备组成所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物的所述聚合物的原材料。
丙烯酸单体聚合物化学增幅型光致抗蚀剂组合

[发明专利]光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法-CN200910171536.9无效
发明人：吴贞薰;金相珍;金真湖;申大铉 -专利权人：韩国锦湖石油化学株式会社
申请日： 2009-08-28 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种光酸产生剂、共聚物、化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。所述光酸与所述共聚物的主链有联系，借此，所述光酸被等同地分散在抗蚀剂层内部，且抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性被提高。
产生共聚物抗蚀剂组合使用述抗蚀剂形成图形方法

[发明专利]鎓盐化合物、聚合物化合物、化学放大型抗蚀剂组合物、以及形成图案的方法-CN200910203900.5有效
发明人：朱炫相;朴柱铉;吴贞薰;申大铉 -专利权人：锦湖石油化学株式会社
申请日： 2009-05-22 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： C07C321/28 文献下载
摘要：提供了一种由式(1)表示的化合物，其中R₁表示氢原子、三氟甲基、具有1-5个碳原子的烷基、或具有1-5个碳原子的烷氧基；A表示由式(2)或式(3)代表的基团，其中R₂、R₃、R₄、R₅和R₆各自独立地表示取代或未取代的具有1-20个碳原子的烷基、取代或未取代的具有3-10个碳原子的烯丙基、取代或未取代的具有1-10个碳原子的全氟烷基、取代或未取代的苄基、或取代或未取代的具有6-30个碳原子的芳基；且两个或更多个R₂、R₃和R₄可以彼此连接，以形成饱和或不饱和的碳环，或者饱和或不饱和的杂环；包含根据本发明的式1化合物制备的聚合物化合物的化学放大型抗蚀剂组合物提供了对远紫外辐射敏感的化学放大型抗蚀剂，远紫外辐射的代表为KrF准分子激光或ArF准分子激光。所述抗蚀剂组合物不太依赖于基材，并具有优异的粘合性、在目标波长区中的优异的透明性、以及优异的耐干法蚀刻性，并且从所述抗蚀剂组合物可以形成感光度、分辨率和显影性优异的抗蚀图。
盐化聚合物化合物化学大型抗蚀剂组合以及形成图案方法

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