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[发明专利]具有原位监视和过程参数调谐的等离子体处理方法-CN200780015283.5无效
发明人：安东尼·雷诺;维克拉姆·辛;阿塔尔·古普塔;提摩太·米勒;爱德温·阿雷瓦洛;乔治·帕帕守尔艾迪斯;田容培 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2007-03-20 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种选择等离子体掺杂过程参数的方法，其包含确定一制法参数数据库以实现至少一个等离子体掺杂条件。根据所述制法参数数据库来确定初始制法参数。执行至少一个等离子体掺杂条件的原位测量。使所述至少一个等离子体掺杂条件的原位测量与至少一个等离子体掺杂结果相关。响应于所述相关而改变至少一个制法参数，以便改进至少一个等离子体掺杂过程性能量度。
具有原位监视过程参数调谐等离子体处理方法

[发明专利]制造薄膜致动的反射镜阵列的方法-CN97112141.9无效
发明人： 田容培 -专利权人：株式会社大宇电子
申请日： 1997-05-23 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： G02B5/124 文献下载
摘要：制造M×N块薄膜致动的反射镜的阵列的方法，包括：制备一有源矩阵；淀积一钝化层及一蚀刻剂阻挡层；淀积一薄膜待除层；建立M×N对空的空腔的阵列及一连续的待除区，从而形成组合层；构成M×N个致动的反射镜结构的阵列，各该结构包含第一薄膜电极、薄膜电致位移件、第二薄膜电极、弹性件；及清除薄膜待除层，从而构成M×N块薄膜致动的反射镜的阵列。由于等切割位于连续的待除区上方，在清除待除区时不会影响钝化层及有源矩阵。
制造薄膜反射阵列方法

[发明专利]用于光学投影系统中的薄膜致动反射镜阵列-CN96180412.2无效
发明人：闵庸基;田容培 -专利权人：大宇电子株式会社
申请日： 1996-08-21 - 公布日： 1999-08-18 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明的薄膜致动反射镜(301)的阵列(300)设置有一具有一转换装置(215)的阵列的有源矩阵(210)、一致动机构(200)的阵列和一反射镜(290)的阵列,其中各致动机构(200)从有源矩阵(210)上伸出悬臂,且各转换装置(215)位于在各致动机构(200)伸出悬臂的位置旁边的有源矩阵(210)上。在该阵列中,在该阵列的工作期间,由于各反射镜(290)通过其一凹入部分被连接至致动机构(200),反射镜(290)保持平整,使得光束的反射更加精确和有效,进而提高了阵列的整体光学效率。而且,由于有源矩阵(210)具有位于各致动机构旁边而非直接其下方的转换装置(215)的阵列,可在阵列制造中的所有的高温处理完成后进行各转换装置(215)和致动机构(200)之间的电连接,从而使所受影响减至最小。
用于光学投影系统中的薄膜反射阵列