专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种尼龙11基薄膜及其制备方法和应用-CN202010729884.X有效
  • 王志强;王泓珺 - 苏州赛迪斯新材料科技有限公司
  • 2020-07-27 - 2023-05-05 - C08L77/02
  • 本发明提供了一种尼龙11基薄膜及其制备方法和应用,属于及聚酰亚胺薄膜技术领域。本发明提供的尼龙11基薄膜,制备原料包括尼龙11和改性空心玻璃微珠;所述改性空心玻璃微珠的质量为尼龙11基薄膜质量的3~11%;所述改性空心玻璃微珠由硅烷偶联剂KH‑792对空心玻璃微珠进行改性得到。PA11中酰胺基团上羰基的氧和基团中的氢结合形成强氢键,且亚甲基密度较高,使得PA11呈现半结晶的特性,韧性好;HGB具有球形表面,流动性好,KH‑792改性的空心玻璃微珠在PA11中的分散性好,利于将受到的外力均匀地传递给PA11,从而保证尼龙11基薄膜的收缩率和力学性能;HGB内部填充有惰性气体,使其具有轻质的特点,能够有效降低薄膜的负重、隔热以及生产成本,附加价值高。
  • 一种尼龙11薄膜及其制备方法应用
  • [发明专利]一种碳化硅修饰碳糊电极的制备方法-CN201710565322.4在审
  • 王志强;王泓珺;焦晨旭 - 中北大学
  • 2017-07-12 - 2017-11-24 - G01N27/30
  • 本发明公开了一种碳化硅修饰碳糊电极的制备方法,具体步骤如下(1)将石墨粉和碳化硅放入研钵中充分混匀,之后加入液体石蜡,将其充分研磨、混匀制成糊状物;将制好的糊状物填充到聚四氟乙烯管中压实,最后将电极表面打磨、抛光得到电极;(2)在BR缓冲溶液中,利用三电极体系,对步骤(1)制备的电极进行循环伏安扫描,直到得到稳定的循环伏安曲线,将电极取出,用二次去离子水洗净,制备得到本发明的碳化硅修饰碳糊电极。与裸碳糊电极相比,用本发明制备的碳化硅修饰碳糊电极对Hg2+的测定有着明显的提高。
  • 一种碳化硅修饰电极制备方法

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