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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]数据处理方法、数据处理装置、数据处理系统及记录介质-CN201910096770.3有效
发明人： 犹原英司;池内崇 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以高于以往的精度利用时序数据进行异常检测的数据处理方法。处理多个单位处理数据的数据处理方法包括：基准数据变更步骤(S300)，变更基准数据(是对每个单位要素从多个单位处理数据中选择出的数据并且是作为各单位处理数据的比较对象的数据)；以及基准数据扩展步骤(S310～S340)，将通过基准数据变更步骤(S300)变更后的基准数据即新基准数据扩展到除了变更了基准数据的单位要素以外的单位要素中。
数据处理方法装置数据处理系统记录介质

[发明专利]数据处理、数据处理装置以及计算机可读取记录介质-CN201910773111.9有效
发明人： 犹原英司;山本麻友美 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G05B23/02 文献下载
摘要：一种数据处理方法、数据处理装置和计算机可读取记录介质在对多个单位处理数据(各单位处理数据包含多种时间序列数据)进行处理的中，包含：评价值分布利用步骤，进行使用评价值分布的处理，所述评价值分布表示通过评价各时间序列数据而获得的评价值的每个值的度数(例如，进行评分的步骤、及基于评分的结果而使用评价值分布来进行异常度判定的步骤，所述评分是将各时间序列数据与基准数据进行比较，并将由此获得的结果数值化为评价值)；以及评价值分布更新步骤，更新评价值分布。
数据处理装置以及计算机读取记录介质

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN202180076552.9在审
发明人：远藤亨;犹原英司;冲田有史;东克荣;山口贵大;冢原隆太;石丸慧 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持在被筒状的防护罩包围的保持位置；处理液供给工序，一边使被保持在所述保持位置的所述基板绕穿过所述基板的中央部的旋转轴线旋转，一边将处理所述基板的被处理面的处理液供给至所述基板的被处理面；图像取得工序，在对所述基板的被处理面供给处理液的期间，取得所述基板的被处理面的图像以及所述防护罩的内壁面的图像；以及检测工序，监视在所述图像取得工序中取得的图像的亮度值，并检测处理结束时间点，所述处理结束时间点为处理液对于所述基板的被处理面的处理结束的时间点。
处理方法以及装置

[发明专利]烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置-CN201811432270.4有效
发明人：远藤亨;林昌之;柴山宣之;犹原英司;角间央章;冲田有史;増井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。
烟雾判定方法处理装置

[发明专利]数据处理方法、数据处理装置及记录介质-CN201910097340.3有效
发明人： 犹原英司;山本麻友美 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G06F11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够准确地判别在基板处理装置中基板是否被正常处理的数据处理方法。数据处理方法包括：期间设定步骤(S102)，对由基板处理装置(20)得到的时序数据(7)求取上升期间、稳定期间及下降期间；以及评价值计算步骤(S103)，求取上升期间的评价值、稳定期间的评价值及下降期间的评价值作为时序数据(7)的评价值。在期间设定步骤中，求取从控制信号变化起至时序数据(7)收敛至包括目标水平的第一范围内的期间作为上升期间，求取从控制信号变化起至时序数据(7)收敛至包括初始水平的第二范围内的期间作为下降期间，求取上升期间与下降期间之间的期间作为稳定期间。
数据处理方法装置记录介质

[发明专利]数据处理方法、数据处理装置及记录介质-CN201910096768.6有效
发明人： 犹原英司;平藤祐美子 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G06F17/18 文献下载
摘要：本发明提供一种能够容易地掌握基板处理装置的状态的数据处理方法。为了处理由具有多个处理单元(25)的基板处理装置(20)得到的时序数据(7)，数据处理方法包括：评价值计算步骤(S102)，通过将时序数据(7)与基准数据(8)进行比较，来求取时序数据(7)的分数(9)；以及结果显示步骤(S107)，显示评价结果画面(50)，评价结果画面(50)针对每个处理单元(25)包括圆图(53)，该圆图(53)用于表示分数(9)异常的基板的张数即分数错误件数(52)以及表示分数错误件数(52)在处理过的基板的张数中的比例。分数错误件数(52)与圆图(53)的显示尺寸根据分数错误件数(52)而变化。
数据处理方法装置记录介质

[发明专利]判定方法及基板处理装置-CN201811470249.3有效
发明人： 犹原英司;角间央章;冲田有史;増井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种能够定量地判定干燥区域的状态是否正常的判定方法及基板处理装置。在执行干燥处理的装置中，判定干燥处理是否合格，所述干燥处理是在水平地保持着的基板(W)的上表面形成液膜，使被去除液膜的干燥区域逐渐扩大的处理。具体来说，首先，在干燥处理的执行过程中，利用摄像部(70)反复拍摄基板(W)的上表面。接着，基于通过拍摄而获取到的多个拍摄图像，判定干燥区域的状态是否正常。由此，能够基于多个拍摄图像，定量地判定干燥区域的状态是否正常。
判定方法处理装置

[发明专利]衬底处理装置及衬底处理方法-CN201811084085.0有效
发明人： 犹原英司;角间央章;冲田有史;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点的衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：衬底旋转部，所述衬底旋转部将衬底保持为水平并使其旋转；喷嘴，所述喷嘴向通过衬底旋转部进行旋转的衬底的被处理面供给处理液；拍摄部，所述拍摄部对包含多个对象区域的拍摄区域进行拍摄，所述对象区域是在向衬底供给了处理液时形成了液膜的区域；和检测部，所述检测部参照拍摄部的拍摄结果，基于多个对象区域的各自的亮度值的变化，来检测多个对象区域的各自的处理结束时间点。另外，拍摄区域至少包含被处理面的中央侧的区域和外周侧的区域作为多个对象区域。因此，能掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点。
衬底处理装置方法

[发明专利]数据处理方法、装置与系统、以及计算器可读取记录介质-CN201910782458.X有效
发明人： 犹原英司;山本麻友美 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： G05B23/02 文献下载
摘要：一种数据处理方法、装置与系统、以及计算器可读取记录介质，在对多个单位处理数据(各单位处理数据包含多种时间序列数据)进行处理的数据处理方法中，包含：单位处理数据选择步骤，从多个单位处理数据中选择两个以上的单位处理数据；第一评价值计算步骤，算出关于被选择单位处理数据中所含的各时间序列数据的评价值，所述被选择单位处理数据是在单位处理数据选择步骤中所选择的单位处理数据；以及第一评价值分布制作步骤，基于在第一评价值计算步骤中所算出的关于各时间序列数据的评价值，针对每种时间序列数据来制作评价值分布，所述评价值分布表示评价值的每个值的度数。
数据处理方法装置系统以及计算器读取记录介质

[发明专利]用于基板处理监视的设定信息的设定方法、基板处理装置的监视方法以及基板处理装置-CN202180043923.3在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种用于基板处理监视的设定信息的设定方法，具备：设置制程工序(S12)，对使基板处理装置内的第一监视对象物移动的移动机构进行控制，使所述第一监视对象物移动至第一停止位置；设置拍摄工序，与设置制程工序(S12)并行地执行，并由照相机对第一监视对象物进行拍摄；以及设定工序(S16)，基于在设置拍摄工序中由照相机取得并包含停止于第一停止位置的第一监视对象物的第一图像数据和表示第一监视对象物的至少一部分的第一参照图像数据，检测第一图像数据内的第一监视对象物的位置，并将该位置设定为与所述第一停止位置相关的适当位置。
用于处理监视设定信息方法装置以及

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180038150.X在审
发明人：沖田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供可根据更适当的图像数据来进行对多个监视对象分别进行监视处理的技术。本发明的基板处理方法具备：保持步骤，将基板搬入腔室的内部并将基板加以保持；供给步骤，在腔室的内部对基板供给流体；拍摄步骤(S12)，由照相机对腔室的内部按序地进行拍摄来获取图像数据；条件设定步骤(S11)，从腔室内的多个监视对象候补中确定监视对象，并根据监视对象来变更图像条件；及监视步骤(S13)，根据具有与监视对象对应的图像条件的图像数据，进行对监视对象的监视处理。
处理方法装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180040992.9在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：在第一吐出工序中，对设于供给管的阀输出开信号，从喷嘴(30)的前端向基板(W)的主面吐出处理液。在移动工序中，在对阀输出闭信号的时间点以后，使喷嘴(30)移动。在拍摄工序中，至少在对阀输出闭信号的时间点以后使摄像机依次拍摄，取得多个图像数据。在设定工序中，检测多个图像数据的每一个中的喷嘴(30)的位置，追踪喷嘴(30)的位置变化，在比喷嘴(30)的前端靠下侧设定判定区域(R11)。在漏液监视步骤中，基于多个图像数据的每一个中的判定区域(R11)内的像素，监视从喷嘴(30)的前端落下的处理液的有无。
处理方法装置

[发明专利]状态检测装置以及状态检测方法-CN202210786506.4在审
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉;出羽裕一 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及状态检测装置以及状态检测方法，在抑制检测精度的降低的同时检测卡盘销的开闭状态。状态检测装置具有：至少1个卡盘销，其用于保持基板；拍摄部，其拍摄卡盘销，将获得的至少1个图像作为对象图像；匹配坐标计算部，其利用对象图像和表示卡盘销的至少1个图像即基准图像进行匹配处理，计算匹配坐标，所述匹配坐标是表示图像间的匹配分数最高的情况下的基准图像在对象图像中的位置的坐标；检测部，其根据匹配坐标，检测卡盘销的开闭状态。
状态检测装置以及方法

[发明专利]可动部位置检测方法、基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统-CN201980056745.0有效
发明人：冲田有史;犹原英司;角间央章;增井达哉 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：差异运算部(92)计算基准图像(80)中的各卡盘销(26)的位置与对象图像(82)中的各卡盘销(26)的位置之间的差异。判定区域设定部(932)在对象图像(82)中设定用于检测喷嘴(30)的位置的判定区域(DR)。此时，判定区域设定部(932)根据作为标识部的各卡盘销(26)之间的位置差异，对基准图像(80)中设定的基准判定区域(SDR)的位置进行修正，从而在对象图像(82)中设定判定区域(DR)。
部位检测方法处理装置以及系统

[发明专利]数据处理方法、数据处理装置及记录介质-CN201910096735.1有效
发明人： 犹原英司;秋田正史 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-01-31 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： G06F11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在异常发生前获取详细的数据的数据处理方法。数据处理方法包括：采样步骤(S103)，基于基板处理装置(20)的物理量的测定结果来求取时序数据7；评价值计算步骤(S105)，将时序数据(7)与基准数据(8)进行来求取时序数据(7)的评价值；以及采样周期控制步骤，对每个时序数据(7)控制在采样步骤中利用的采样周期。在采样周期控制步骤中，在初始状态下将所有采样周期控制为正常周期(S101)，在时序数据(7)的评价值为异常时，将求取时序数据(7)时的采样周期控制为比正常周期短的异常周期(S113)。
数据处理方法装置记录介质

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