专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种高周循环冷热冲击的试验系统-CN202120981822.8有效
  • 庞立龙;王志光;牟宗信 - 中国科学院近代物理研究所
  • 2021-05-10 - 2021-12-28 - G01N3/60
  • 本实用新型涉及一种高周循环冷热冲击的试验系统,其特征在于,包括真空腔体、真空系统、测温热电偶、加热系统、降温系统和控制系统;封装有待测试验样品的真空腔体的一端连接真空系统;用于测量待测试验样品温度的测温热电偶的一端接触待测试验样品;真空腔体上开设有用于向真空腔体内充入保护气体的进气口;真空腔体的外侧设置有加热系统和降温系统;控制系统分别连接测温热电偶、加热系统和降温系统,本实用新型加热快速且高效,能够有效模拟高能粒子束流对待测试验样品的加热方式,可以广泛应用于高周循环冷热冲击试验中。
  • 一种循环冷热冲击试验系统
  • [发明专利]一种高周循环冷热冲击的试验系统及方法-CN202110504353.5在审
  • 庞立龙;王志光;牟宗信 - 中国科学院近代物理研究所
  • 2021-05-10 - 2021-07-16 - G01N3/60
  • 本发明涉及一种高周循环冷热冲击的试验系统及方法,其特征在于,包括真空腔体、真空系统、测温热电偶、加热系统、降温系统和控制系统;封装有待测试验样品的真空腔体的一端连接真空系统;用于测量待测试验样品温度的测温热电偶的一端接触待测试验样品;真空腔体上开设有用于向真空腔体内充入保护气体的进气口;真空腔体的外侧设置有加热系统和降温系统;控制系统分别连接测温热电偶、加热系统和降温系统,控制系统用于根据测温热电偶测量的温度,通过加热系统为真空腔体内的待测试验样品进行加热或通过降温系统为真空腔体内的待测试验样品进行降温,本发明可以广泛应用于高周循环冷热冲击试验中。
  • 一种循环冷热冲击试验系统方法
  • [发明专利]测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法-CN201710616084.5有效
  • 赵栋烨;牟宗信;王奇;丁洪斌 - 大连理工大学
  • 2017-07-26 - 2019-06-25 - G01B11/06
  • 本发明公开了一种测量真空离子镀和等离子体喷涂镀膜膜厚与均匀性的方法。该方法基于激光诱导击穿光谱技术结合激光诱导荧光技术测量真空离子镀膜技术及等离子体喷涂镀膜技术的沉积膜厚膜厚与均匀性。该发明是一种微损接近无损的检测方法,能够实现对镀膜样品膜厚10nm量级测量,镀膜表面均匀性μm量级分辨测量。尤其是该方法还是一种可以实时、原位、在线、无接触与主动式的测量方法,且不会对镀膜过程有干扰,易于操作,实时分析。本发明主要用于真空离子镀,比如真空离子镀物理、化学气相沉积、等离子体喷涂等领域,不排除应用于其它的、具有相近技术特征的薄膜或者涂层沉积技术领域。
  • 测量真空离子镀等离子体喷涂镀膜均匀方法
  • [发明专利]一种实现大面积均匀介质阻挡放电的装置和方法-CN201510253935.5有效
  • 牟宗信;杨富翔;张家良;刘升光;丁洪斌;孙继忠 - 大连理工大学
  • 2015-05-19 - 2017-05-03 - H05H1/24
  • 一种实现大面积均匀介质阻挡放电的装置和方法,属于新材料合成、表面工程和高电压放电领域。其特征涉及实现大面积均匀介质阻挡放电的装置和相应方法,涉及电极的放电间隙气流流速、专用于产生介质阻挡放电的放电间距,和产生介质阻挡放电的谐振电源谐振频率或脉冲电源的脉冲频率的参数。实现大面积均匀介质阻挡放电的过程中气流的流速、放电间隙的距离以及谐振电源的频率之间的关系符合优化关系,相应的放电装置上安装与上述技术条件相匹配的部件。本发明的效果经济性好,通用性强,操作简单,容易实现大面积均匀介质阻挡放电。克服了现有介质阻挡放电实现大规模均匀性的效率低,设备昂贵,操作复杂等缺点。
  • 一种实现大面积均匀介质阻挡放电装置方法
  • [发明专利]钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺-CN201210253921.X有效
  • 董闯;陈宝清;牟宗信;王清;羌建兵;王英敏 - 大连理工大学
  • 2012-07-20 - 2012-11-21 - C23C14/16
  • 一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,属于材料表面技术领域。其特征是:离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺和离子镀超硬铬代替电镀硬铬。工件与真空室之间,施加有脉冲负变偏压,电压为100-2000V,膜层与工件之间有0.5-4微米(μ)的过渡层提高镀膜附着性,离子镀氮化锆、或氮化铬代替现行电镀装饰铬工艺中电镀镍层;离子镀铬或钴代替电镀装饰铬工艺中电镀铬层;离子镀超硬铬代替电镀硬铬,离子镀金属化合物光亮剂镀膜,如三氧化二鋁或二氧化硅提高离子镀膜光亮性。本发明的效果和益处是:膜层中没有Ni元素,对人体无害;没有三废排放无须治理;附着性好,致密性好,耐蚀性强,硬度高耐磨性好。
  • 钢铁合金真空离子镀铬工艺代替现行
  • [发明专利]一种观察尘埃斑图的装置-CN201110197884.0无效
  • 张鹏云;王华强;牟宗信 - 大连理工大学
  • 2011-07-14 - 2012-01-04 - G09B23/20
  • 本发明属于低温等离子体化学技术领域。本发明由反应生成尘埃等离子体的装置加上尘埃斑图的监控部分组成,其特征是:由激光器和光具组来照明尘埃斑图,由记录设备和计算机来存储和分析尘埃颗粒的状况,形成尘埃斑图的反应室设计成透明的圆筒状,用微凹的驱动极,直流负偏压电源,调控反应室内的气压,电源的输出功率来控制尘埃斑图。本发明的效果和益处是能直观地观测尘埃斑图的形成和演化,能够通过对尘埃斑图的分析来研究尘埃颗粒的生长,运动等规律,可广泛用于大中专院校的物理实验设置中。
  • 一种观察尘埃装置
  • [发明专利]一种实现高脉冲功率磁控放电方法-CN201010301411.6无效
  • 牟宗信;牟晓东;贾莉;郝胜智;王春;董闯 - 大连理工大学
  • 2010-02-09 - 2011-11-23 - H01J37/34
  • 本发明公开了一种实现高脉冲功率磁控放电方法,属于电工工程技术领域。其特征是该方法实现了通过调整横向磁场特性和非平衡磁场特性与磁控靶辉光放电的放电条件、瞬态特性相匹配,由电源的谐振特性与磁控靶的谐振特性相匹配,实现自触发和形成高脉冲功率磁控放电;磁控靶前设置空心阴极结构提高自触发等离子体的初始密度和放电功率密度,实现高脉冲功率磁控放电;与现有高脉冲功率磁控放电方法相比具有结构简单,对放电系统和电源要求低,工作可靠,从而实现更高工作效率和可靠性的放电方法。
  • 一种实现脉冲功率放电方法
  • [发明专利]一种交叉场放电共振耦合的控制方法-CN201010300432.6无效
  • 牟宗信;贾莉;牟晓东;王春;刘升光 - 大连理工大学
  • 2010-01-19 - 2010-09-15 - H05H1/16
  • 本发明公开了一种交叉场放电共振耦合的控制方法,属于电工工程技术领域。采用在交叉场放电离子源中由电场和磁场互相正交形成封闭或开放的交叉场空间的电场、磁场结构,磁控靶表面电场和磁场相互正交构成磁阱结构;磁控靶和与之平行的偏压基片之间或者开放端之间形成了另一种轴向势阱结构,静电波动在这两种势阱结构中分别形成驻波共振和相互耦合共振,与电源特性相匹配形成耦合共振放电;通过调整放电空间中的电极结构、形式和参数匹配能够形成单一的、两个或两个以上势阱结构,并分别发生静电驻波和发生耦合共振,本发明的有益效果是系统结构简单、放电效率高。
  • 一种交叉放电共振耦合控制方法
  • [发明专利]一种交叉场放电的控制方法-CN200910302325.4无效
  • 牟宗信;赵德有;贾莉;牟晓东;刘升光 - 大连理工大学
  • 2009-05-15 - 2009-10-07 - H05H1/46
  • 本发明公开了一种交叉场放电的控制方法,属于电工工程技术领域。通过控制交叉场中的磁场强度、磁场空间分布以及磁场特性和电源电压、放电气压和气体成分互相匹配来调整放电中的各种磁效应,调整放电状态为稳定放电或者等离子体磁流体行驻波共振的状态。在构成交叉场的磁场中磁场感应强度因在0-3T的范围之内,电压的范围在0-10000V之间,通过使用频率范围为0Hz-1MHz、电源电压在0-10000V之间的高功率脉冲开关电源供电或者直接使用0-10000V的可调直流电源为放电系统提供电能。本发明的有益效果是系统结构简单、放电效率高。
  • 一种交叉放电控制方法

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