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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]磁记录介质、其制造方法及磁读/写装置-CN200480002118.2无效
发明人： 清水谦治;坂胁彰;小林一雄;N·T·董;酒井浩志;彦坂和志;及川壮一;前田知幸;中村太 -专利权人：昭和电工株式会社;株式会社东芝
申请日： 2004-01-14 - 公布日： 2006-02-15 - 主分类号： G11B5/64 文献下载
摘要：一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供软磁性底涂膜、第一底涂膜、第二底涂膜、垂直磁记录膜、以及保护膜，并且所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。
记录介质制造方法装置

[发明专利]垂直磁记录装置-CN200510081819.6无效
发明人：青柳由果;田中勉;清水谦治;坂脇彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2005-06-30 - 公布日： 2006-01-25 - 主分类号： G11B5/667 文献下载
摘要：一种包含垂直双层介质和磁头的垂直磁记录装置，其中垂直双层介质包括基底(1)、包含软磁性层(3a)、中间层(4)和另一个软磁性层(3b)的软垫层(2)、以及垂直记录层(5)，其中两个软磁性层(3a，3b)彼此反铁磁性耦合；磁头包括主磁极(51)、旁轭(52)、以及激励线圈(53)。当低频信号通过所述的磁头记录到所述的垂直记录层(5)的时候，包含在所述软垫层(2)中的两个所述的软磁性层(3a，3b)之间的反铁磁性耦合力Hex_afc与在联络测线方向上的MWW最大值一半处的整个宽度之间的关系满足下列公式：Hex_afc＞1.6*ln((0.23－MWW)²*100))+25.6。
垂直记录装置

[发明专利]磁记录介质和磁记录/再现装置-CN200410007277.3无效
发明人：中村太;彦坂和志;及川壮一;岩崎刚之;前田知幸;酒井浩志;清水谦治;坂胁彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2004-02-27 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：磁记录介质和包含该磁记录介质的磁记录/再现装置，其中磁记录介质包含具有粒状结构的取向控制层(3)，该取向控制层在衬底(1)和磁记录层(4)之间形成并包含基底材料和分散在基底材料上的颗粒并且具有小于颗粒粒径的厚度。
记录介质再现装置

[发明专利]磁记录介质和磁记录/再现设备-CN200410007300.9无效
发明人：彥坂和志;中村太;及川壮一;岩崎刚之;前田知幸;酒井浩志;清水谦治;坂胁彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2004-02-27 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本申请公开了一种磁记录介质和磁记录/再现设备。其中形成一个多层(4)，其包括磁记录层(2)和高磁致形变层(3)，后者具有大于磁记录层(10)的磁致形变常数。
记录介质再现设备

[发明专利]垂直磁记录介质以及磁记录/再生设备-CN200410031901.3无效
发明人：及川壮一;岩崎刚之;酒井浩志;坂脇彰;清水谦治 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2004-03-31 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： G11B5/62 文献下载
摘要：公开了一种垂直磁记录介质(10)，包括非磁性基板(1)、包括具有39.5kA/m或更小的垂直矫顽力的铁磁底层(2)和具有50到150emu/cc的饱和磁化Ms的弱磁性底层(3)的多层底层(4)以及垂直磁记录层(5)。
垂直记录介质以及再生设备

[发明专利]垂直磁记录介质和磁记录/再现装置-CN200410031899.X无效
发明人：岩崎刚之;彦坂和志;及川壮一;中村太;前田知幸;酒井浩志;清水谦治;坂脇彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2004-03-31 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： G11B5/62 文献下载
摘要：本文公开了垂直磁记录介质和磁记录/再现装置。一种垂直磁记录介质(10)，在垂直磁记录层(4)之下形成了一个内涂层(3)，它具有若干晶体颗粒和一种含有碳化物或硼化物的颗粒边界材料，在上述内涂层(3)之下形成了另一个内涂层(2)，它含有形成晶体颗粒的元素之一。通过进一步缩小垂直磁记录层(4)的颗粒尺寸，它能够进行高密度记录。
垂直记录介质再现装置

[发明专利]垂直磁记录介质及其制造方法和磁记录/再现装置-CN200410045124.8无效
发明人：前田知幸;彦坂和志;中村太;岩崎刚之;酒井浩志;清水谦治;坂腋彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2004-03-17 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： G11B5/708 文献下载
摘要：本文公开的是一种磁记录介质，其包括一衬底(11)，一底层(13，14)，以及一垂直磁记录层(15)，其中这个垂直磁记录层包括磁性晶粒和环绕该磁性晶粒的基质，并且该基质包含从Zn，Cd，Al，Ga和In中选出的一种元素，以及从P，As，Sb，S，Se和Te中选出的一种元素。
垂直记录介质及其制造方法再现装置

[发明专利]垂直磁记录介质、其制造方法以及磁记录－再现装置-CN200310118358.6无效
发明人：岩崎刚之;彥坂和志;及川壮一;中村太;酒井浩志;清水谦治;坂脇彰 -专利权人：株式会社东芝;昭和电工株式会社
申请日： 2003-11-25 - 公布日： 2004-06-16 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本发明涉及垂直磁记录介质、其制造方法以及磁记录－再现装置，其中的垂直磁记录介质(10)包括在280－450℃下用磁层形成材料形成的垂直磁层(2)，所述磁层形成材料包含至少一种从包括钴、铂、铬、钼和钨的组中选择的添加成分，垂直磁层(2)构造为包括相互之间被晶粒边界分离开的多个磁晶粒，并且提供在晶粒边界中偏析所述添加成分的垂直磁层(2)。
垂直记录介质制造方法以及再现装置

[发明专利]磁记录介质及其制备方法，以及磁性记录和再现设备-CN03154627.7无效
发明人： 清水谦治;坂胁彰;酒井浩志;彦坂和志;岩崎刚之 -专利权人：昭和电工株式会社;株式会社东芝
申请日： 2003-07-11 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：一种磁记录介质包括非磁性基片，在这个基片上有至少一层软磁性下膜、一层控制直接在其上的膜定向的定向控制膜、一层具有基本上垂直于基片的易磁化轴的垂直磁记录膜，和一层保护膜，其中定向控制膜具有形成C11_b结构的材料组成。该磁记录介质采用一种方法生产，该生产方法包括按顺序实施以下步骤：至少一个在非磁性基片上形成软磁性下膜的步骤、形成控制直接在其上的膜定向的定向控制膜的步骤、形成具有基本上与基片垂直的易磁化轴的垂直磁记录膜的步骤，和形成保护膜的步骤。一种磁记录和再现设备包括磁记录介质和在磁记录介质上记录和再现信息的磁头，其中磁头是磁单极头。
记录介质及其制备方法以及磁性再现设备

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