专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]电镀银缸自动加药系统-CN202120776203.5有效
  • 郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2021-04-15 - 2021-12-14 - C25D21/14
  • 本实用新型提供一种电镀银缸自动加药系统,包括:银缸,用于进行电镀银反应;添加剂自动加药桶,所述添加剂自动加药桶的出口通过第一管路与所述银缸的入口连通;酸液自动加药桶,所述酸液自动加药桶的出口通过第二管路与所述银缸的入口连通;氰化银钾自动加药桶,所述氰化银钾自动加药桶的出口通过第三管路与所述银缸的入口连通;氰化银自动加药桶,所述氰化银自动加药桶的出口通过第四管路与所述银缸的入口连通,所述氰化银自动加药桶的入口通过第五管路与所述银缸的出口连通。本实用新型实现向银缸内自动添加药水,从而减少人工分析药水和人工添加药水的频率,不仅节省大量时间和人工,同时能够使银缸内药水浓度更稳定。
  • 镀银自动系统
  • [实用新型]高速喷镀银结构-CN202121165720.5有效
  • 罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2021-05-27 - 2021-11-16 - C25D5/08
  • 本实用新型提供一种高速喷镀银结构,包括喷嘴和受镀件,所述受镀件上设有受镀结构,所述喷嘴位于所述受镀件的一侧且对应所述受镀结构设置,所述喷嘴内于靠近所述受镀件的一侧设有出液口,所述出液口为具有斜面的斜口结构,药水由所述喷嘴喷射到所述受镀件上的覆盖宽度大于或等于所述受镀结构的大小。本实用新型通过采用斜口结构的喷嘴,从而改善射水印的问题。
  • 高速镀银结构
  • [实用新型]风刀机构-CN202120556232.0有效
  • 罗小平;郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2021-03-18 - 2021-10-15 - F26B21/00
  • 一种风刀机构,包括安装座、第一调节座、第二调节座、第一风刀和第二风刀,第一调节座、第二调节座可调节相互间距地连接在安装座上,第一风刀的一端固定于第一调节座,第二风刀的一端固定于第二调节座,第一风刀与第二风刀间隔设置,第一风刀内设有第一进风通道,第一风刀靠近第二风刀的一侧设有与第一进风通道连通的第一出风口,第二风刀内设有第二进风通道,第二风刀靠近第一风刀的一侧设有与第二进风通道连通的第二出风口。本实用新型的风刀机构结构简单,通用性强,能满足实际需求。
  • 机构
  • [发明专利]一种保护水及其制备方法-CN202010970763.4有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-09-15 - 2021-09-14 - C23G1/10
  • 本申请涉及电镀银处理剂领域,具体公开了一种保护水及其制备方法。保护水包括以下质量份数的组分:无机中强酸1‑10份;有机膦酸类阻垢剂1‑10份;三氮唑类化合物0.11‑2份;氢氧化钠0.5‑0.9份;硫脲1‑10份;保护水的总质量份数为100份,余量为水;其制备方法为:将保护水的各组分混合均匀,即得保护水。本申请的保护水可用于镀银产品的清洗,其具有更好地去除镀银产品的碱性残留物的同时有利于更好地保护镀银产品表面的镀银层的优点;另外,本申请的制备方法具有制备简单方便、有利于工业化生产的优点。
  • 一种保护及其制备方法
  • [实用新型]废液处理装置及处理系统-CN202022600975.1有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-11-11 - 2021-08-24 - C25C7/00
  • 本实用新型公开了一种废液处理装置及处理系统,其中,该废液处理装置包括缸体、阳极板以及阴极板,缸体设有相互连通的电解室和净化室,阳极板和阴极板交替设置于电解室内,缸体在电解室和净化室之间设有下隔板,下隔板的上端设有上缺口,电解室和净化室通过上缺口相连通。通过在缸体设有相互连通的电解室和净化室,而且设置下隔板将电解室和净化室间隔开,使处理好的废液可以从下隔板的上缺口流入净化室内,电解室中金属阳离子可以快速吸附在阴极板上,以提高废液处理效率和处理效果。
  • 废液处理装置系统
  • [实用新型]消泡机及电镀装置-CN202022782161.4有效
  • 郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-11-26 - 2021-07-13 - C25D17/00
  • 本实用新型公开了一种消泡机及电镀装置,其中,消泡机包括底板、消泡盒以及排气盒,消泡盒和排气盒均与底板连接,消泡盒具有第一容纳腔,排气盒具有第二容纳腔,底板上设有与第一容纳腔连通的第一通孔,第二容纳腔和第一容纳腔相连通,消泡盒设有叶轮以及用于驱动叶轮转动的驱动机构,叶轮设于第一容纳腔内,排气盒设有与第二容纳腔连通的排气孔。当生产过程中产生的气泡较多时,堆积气泡高度超过底板并进入消泡盒,驱动机构带动叶轮转动,将气泡打碎,气泡破碎后内部空气经过排气盒后从排气孔排出,从而避免了药水浪费以及对电镀品质的影响。
  • 消泡机电镀装置
  • [发明专利]一种LED支架电镀溶液及其制备方法-CN202110324714.8在审
  • 郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2021-03-26 - 2021-07-06 - C25D3/12
  • 本发明公开了一种LED支架电镀溶液及其制备方法,具体涉及LED支架电镀技术领域,所使用原料(按重量份数计)包括次磷酸镍30‑45份、次磷酸钠35‑50份、丁二酸25‑40份、单宁酸25‑40份、表面活性剂15‑30份、蒸馏水90‑120份、醋酸钠10‑25份、糖精10‑25份。本发明利用电镀液中的单宁酸一方面去除LED支架和阳极铁棒上的生物油,以净化电镀液,另一方便使其与阳极出的金属离子发生络合反应并将其沉淀在电镀槽的底部,以实现对该金属的回收,并使单宁酸在电镀反应的后期在PH小于7的酸性条件下与丁二酸进行配位,以阻止丁二酸与电镀液中的镍离子配位,使得电镀液中的镍离子能够最大限度的附着在阴极LED支架的表面上。
  • 一种led支架电镀溶液及其制备方法
  • [实用新型]料盘固定支架及料盘驱动装置-CN202022606747.5有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-11-11 - 2021-06-29 - B65H18/02
  • 一种料盘固定支架,包括料盘压板、固定块、压紧块、盖板和螺杆,固定块固定连接在料盘压板上,固定块和料盘压板上设有轴孔,轴孔贯穿固定块和料盘压板,固定块上设有与轴孔连通的缺口,压紧块可活动地设置在缺口中,盖板固定连接在固定块上,并覆盖缺口,螺杆的一端穿过盖板并与压紧块连接,当转动螺杆时,压紧块向着轴孔内移动。本实用新型的料盘固定支架,能确保摩擦力足够固定料盘在生产过程中不滑动,对料盘轴表面无压花影响。本实用新型还涉及一种料盘驱动装置。
  • 固定支架驱动装置
  • [实用新型]电镀槽电流屏蔽装置及电镀系统-CN202022483874.0有效
  • 罗小平;郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-10-30 - 2021-06-22 - C25D17/00
  • 一种电镀槽电流屏蔽装置,包括至少两个安装架、第一屏蔽板、第二屏蔽板、第三屏蔽板和第四屏蔽板,安装架包括第一安装架第二安装架,第一屏蔽板、第二屏蔽板、第三屏蔽板和第四屏蔽板固定连接于第一安装架与第二安装架之间,第一屏蔽板与第二屏蔽板沿电镀片倾斜对称设置,第三屏蔽板与第四屏蔽板沿电镀片倾斜对称设置,第一屏蔽板与第三屏蔽板间隔设置,第二屏蔽板与第四屏蔽板间隔设置,第一屏蔽板、第二屏蔽板、第三屏蔽板和第四屏蔽板上设有通孔,电镀片包括第一侧边和第二侧边,第一屏蔽板至电镀片的间距逐渐增大,第三屏蔽板至电镀片的间距逐渐减小。本实用新型的电镀槽电流屏蔽装置能减小电流边缘效应。本实用新型还涉及一种电镀系统。
  • 电镀电流屏蔽装置系统
  • [实用新型]速度适配装置及电镀驱动系统-CN202022607145.1有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-11-11 - 2021-06-22 - H02P5/46
  • 本实用新型公开了一种速度适配装置及电镀驱动系统,该速度适配装置包括底座、拉片轮、拉片轮安装架以及位移传感器,拉片轮安装在拉片轮安装架上并能够在拉片轮安装架上转动,拉片轮安装架安装在底座上并能够在底座上滑动,位移传感器安装在底座上并用于检测拉片轮安装架在底座上滑动的位移。速度适配装置通过位移传感器检测拉片轮安装架在底座上的滑动位移,根据拉片轮安装架在底座上的滑动位移可以判断收料驱动电机与中间驱动电机的速度关系,从而控制中间驱动电机加速或减速,使中间驱动电机的转速与收料驱动电机的转速保持一致。
  • 速度配装电镀驱动系统
  • [实用新型]导电支架及电镀系统-CN202022509147.7有效
  • 罗小平;郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-11-03 - 2021-06-22 - C25D17/00
  • 一种导电支架,包括导电底板、接线柱、第一扶片柱和第二扶片柱,接线柱的一端固定连接在导电底板上,接线柱的另一端与电源电性连接,第一扶片柱和第二扶片柱相对设置地固定连接在导电底板上,第一扶片柱与第二扶片柱之间形成供电镀片经过的导向间隙,第一扶片柱上设有可绕着轴线转动的第一扶片轮和第二扶片轮,第一扶片轮与第二扶片轮上下间隔设置,第一扶片轮与第二扶片轮之间形成第一避让空间,当电镀片从导向间隙经过时,第一扶片轮、第二扶片轮与电镀片的非功能区接触,电镀片的功能区从第一避让空间经过。本实用新型的导电支架能避开电镀片上的功能区,避免电镀片的功能区压变形。本实用新型还涉及一种电镀系统。
  • 导电支架电镀系统
  • [发明专利]风刀机构-CN202110288840.2在审
  • 罗小平;郑建国 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2021-03-18 - 2021-05-28 - F26B21/00
  • 一种风刀机构,包括安装座、第一调节座、第二调节座、第一风刀和第二风刀,第一调节座、第二调节座可调节相互间距地连接在安装座上,第一风刀的一端固定于第一调节座,第二风刀的一端固定于第二调节座,第一风刀与第二风刀间隔设置,第一风刀内设有第一进风通道,第一风刀靠近第二风刀的一侧设有与第一进风通道连通的第一出风口,第二风刀内设有第二进风通道,第二风刀靠近第一风刀的一侧设有与第二进风通道连通的第二出风口。本发明的风刀机构结构简单,通用性强,能满足实际需求。
  • 机构
  • [发明专利]一种在铜合金表面进行表面活化处理的方法-CN202010970739.0有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-09-15 - 2021-05-28 - C25D5/34
  • 本申请公开了一种在铜合金表面进行表面活化处理的方法。包括以下步骤:1)将铜合金待电镀件进行电解除油并水洗;2)将电解除油、水洗之后的铜合金待电镀件传送至活化液中并在室温下进行活化;活化液由包含以下组分制成:A剂、B剂、硫酸;其中A剂由包含以下组分制成:A剂由包含以下体积百分比的组分制成:过硫酸钠70‑90%、氯化钠0.5‑5%、柠檬酸5‑15%、尿素4‑10%;B剂由包含以下组分制成:非离子表面活性剂、氧化铁、去离子水;3)将活化完成后的铜合金待电镀件进行水洗并烘干,从而得到电镀产品,本申请的方法具有改善铜和铜合金材料活化不足或浸蚀过度、生产过程稳定、并且能够适应不同成分的铜和铜合金材料优点。
  • 一种铜合金表面进行活化处理方法
  • [发明专利]卷对卷式连续电镀导电装置-CN202010981897.6有效
  • 郑建国;罗小平 - 深圳市崇辉表面技术开发有限公司
  • 2020-09-17 - 2021-05-14 - C25D7/06
  • 本申请涉及电镀导电装置的领域,尤其是涉及一种卷对卷式连续电镀导电装置,解决了电镀过程中电镀片容易因偏移而影响镀层质量的问题。导电装置包括安装底板、竖直设置于安装底板上的两转动轴、以及分别转动套设于两转动轴上的第一安装底座和第二安装底座,第一安装底座的两端以及第二安装底座的两端均水平转动设置有导电轮。第一安装底座包括第一安装块和第二安装块,第一安装块和第二安装块均与转动轴转动连接,第一安装块以及第二安装块远离第二安装底座的一侧均设置有纠偏块,两纠偏块之间连接有纠偏弹簧。本申请能够在电镀片出现偏移时使导电轮转动并保持与电镀片紧密连接,具有自动纠偏的效果。
  • 连续电镀导电装置

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