专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于确定物体的距离、表面厚度和光学特性的设备及相关方法-CN202180066713.6在审
  • 海莫·凯雷宁 - 乐姆迈科技有限公司
  • 2021-09-29 - 2023-06-23 - G01B11/06
  • 本文描述了一种用于确定物体(2)的位置和/或光学特性的设备。所述设备包括:用于提供光的至少一个输出元件(4.1)、用于将光从所述输出元件引导至所述物体的照明光学器件(11)、光传感器(8)和用于将来自所述物体的光收集到所述光传感器的成像光学器件(13)。所述设备被配置成从由所述光传感器(8)检测到的光的强度分布的局部最大值来确定所述物体(2)的位置和/或光学特性,其中所述局部最大值是由从物点(2.1)与由所述照明光学器件(11)和所述成像光学器件(11)形成的重合聚焦点或聚焦区域中的一者的交点收集的光所产生的。所述设备可用于确定从所述物点(2.1)反射的具有至少两种不同波长的光的强度值。本文还描述了一种用于确定物体(2)的位置和/或光学特性的方法。
  • 用于确定物体距离表面厚度光学特性设备相关方法
  • [发明专利]用于光学测量的设备及相关方法-CN201280066177.0有效
  • 海莫·凯雷宁;彼得里·莱赫托宁 - 合欧米成像公司
  • 2012-12-20 - 2017-11-24 - G01B11/245
  • 一种用于光学测量可选地光滑的目标对象(106,206)的表面(例如,表面形状和/或相关的表面缺陷)的设置(101,201),包括限定空心的优选弯曲的表面形状的漫射半透明照明结构(102,202,302),被配置为至少部分地优选至少大致半球状地包围所述目标对象,所述表面进一步具有至少两个优选地大致针孔状并且可选地具有透镜的光圈(212);若干光源(208),光学耦合至该漫射照明结构,用于通过所述照明结构的表面照亮目标对象;至少两个成像装置(104,204),每个成像装置被配置为通过所述至少两个光圈中的一个光圈对目标对象成像;以及控制实体(210),被配置为指示所述若干光源形成通过所述照明结构的表面照亮目标对象的一系列预定的照明图案(即,在目标对象上投射的图像的视频序列),指示所述至少两个成像装置获得目标对象的相对于每个照明图像的图像,并且通过利用所利用的所述图形以及所获得的图像,获得目标对象的预定的与表面相关的性能。还提出了一种相应的测量方法。
  • 用于光学测量设备相关方法
  • [发明专利]用于确定物品及其表面的特性的测量仪器和方法-CN201080045557.7有效
  • 卡里·涅梅莱;海莫·凯雷宁 - VTT技术研究中心
  • 2010-10-07 - 2012-07-11 - G01N21/57
  • 一种用于通过光辐射来确定物体的表面的特征的测量装置,其中测量装置包括光辐射源以及接收从正在测量的表面反射的辐射的检测器。此外,测量装置包括发射光辐射处理单元,调整该发射光辐射处理单元,以将由光源发射的光辐射分成分离的波长,并在与正在测量的表面的法向不同的方向上将所述分离的波长引导至正在测量的物体,从而使所述波长中的至少最短波长和最长波长在正在测量的表面的法向方向上聚焦在所测量的物体的表面的不同半部和不同高度上。另外,测量装置包括反射光辐射处理单元,调整该反射光辐射处理单元,以至少在镜面反射的方向上接收从所测量的物体反射的光辐射,并将接收的光辐射引导至所述检测器,该镜面反射的方向不同于正在测量的表面的法向。再此外,调整该测量装置,以对由检测器产生的并与聚焦在检测器上的辐射的强度成比例的电信号进行分析,并进一步地以基于其波长的强度来确定所测量的物体的表面光泽(光泽度)和/或厚度特征特性,该波长的焦点位于所测量的表面上,并且该波长是镜面几何体系中的从该点反射至检测器的最强波长。
  • 用于确定物品及其表面特性测量仪器方法
  • [发明专利]同步光学测量和探伤方法及装置-CN200710101021.2无效
  • 伊罗·希耶塔宁;海莫·凯雷宁;塞波·派奥雷特 - SR仪器公司
  • 2003-11-04 - 2007-10-10 - G01B11/30
  • 本发明涉及一种探测工业片材中孔和其它相关缺陷以及测量其特征的方法。光学探测系统一直受到强烈的环境光的困扰并且其精度一直很难提高。本发明提供一种缺陷探测方法和装置,它能够免受强烈环境光的困扰并且能够对片材(410,510,610,710)进行连续探伤,而不需要很长的整合时间。在本发明中,使用了光发射器和接收器之间的同步探测。本发明可以用于探伤和测量运行在生产线上的纸张、金属、塑料、橡胶、铝箔、铜箔、薄膜或镀覆的金属片材以及其它的片材状材料。本发明还能够用于探测一些特殊缺陷,这包括孔、小孔、划伤、瑕玷、裂缝、边沿缺陷、条痕、表面缺陷以及其它能够想到的缺陷。
  • 同步光学测量探伤方法装置
  • [发明专利]同步光学测量和探伤方法及装置-CN200380102905.X有效
  • 伊罗·希耶塔宁;海莫·凯雷宁;塞波·派奥雷特 - SR仪器公司
  • 2003-11-04 - 2005-12-21 - G01B11/30
  • 本发明涉及一种探测工业片材中孔和其它相关缺陷以及测量其特征的方法。光学探测系统一直受到强烈的环境光的困扰并且其精度一直很难提高。本发明提供一种缺陷探测方法和装置,它能够免受强烈环境光的困扰并且能够对片材(410,510,610,710)进行连续探伤,而不需要很长的整合时间。在本发明中,使用了光发射器和接收器之间的同步探测。本发明可以用于探伤和测量运行在生产线上的纸张、金属、塑料、橡胶、铝箔、铜箔、薄膜或镀覆的金属片材以及其它的片材状材料。本发明还能够用于探测一些特殊缺陷,这包括孔、小孔、划伤、瑕玷、裂缝、边沿缺陷、条痕、表面缺陷以及其它能够想到的缺陷。
  • 同步光学测量探伤方法装置

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