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[发明专利]嘧啶化合物的结晶-CN202180061122.X在审
发明人：中村浩之;山中博义;浅井隆宏 -专利权人：大鹏药品工业株式会社
申请日： 2021-07-14 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： A61K31/519 文献下载
摘要：本发明提供7－((3R，5S)－1－丙烯酰基－5－甲基吡咯烷－3－基)－4－氨基－6－(环丙基乙炔基)－N－((R)－1－苯基乙基)－7H－吡咯并[2，3－d]嘧啶－5－甲酰胺(化合物(I))的结晶、其与酸的结晶(盐的结晶或共晶)。化合物(I)与1当量的富马酸的II型结晶，其在粉末X射线衍射图谱中，在衍射角(2θ±0.2°)为选自5.5°、6.8°、9.3°、13.4°、15.3°、16.3°、18.5°、19.8°、22.0°和24.5°中的3处以上具有特征峰。化合物(I)的(游离体)II型结晶，其在粉末X射线衍射图谱中，在选自8.3°、14.8°、17.3°、18.0°、19.1°、20.3°、21.0°、22.5°、23.0°和26.2°中的3处以上具有特征峰。化合物(I)的(游离体)I型结晶，其在粉末X射线衍射图谱中，在选自9.9°、11.7°、13.2°、17.7°、18.1°、18.8°和20.8°中的3处以上具有特征峰。化合物(I)与1当量的富马酸的V型结晶粉末，其在X射线衍射图谱中，在选自6.9°、9.4°、10.2°、13.7°、21.1°、23.6°和26.5°中的4处以上具有特征峰。化合物(I)与1当量的富马酸的I型结晶粉末，其在X射线衍射图谱中，在选自6.4°、10.3°、12.8°、15.0°、20.7°、23.4°和26.6°中的4处以上具有特征峰。
嘧啶化合物结晶

[发明专利]电磁波吸收体及电磁波吸收体形成用糊剂-CN202180034239.9在审
发明人：大越慎一;生井飞鸟;吉清麻里绘;原正之;浅井隆宏 -专利权人：国立大学法人东京大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够兼顾高频带中的良好的电磁波吸收特性与良好的散热性的电磁波吸收体、和适合用于该电磁波吸收体的制造的电磁波吸收体形成用糊剂。在电磁波吸收体中，设置由电磁波吸收材料与导热性材料构成的复合层，在电磁波吸收材料中含有ε型氧化铁，所述ε型氧化铁是从ε‑Fe2O3晶体以及晶体和空间群与ε‑Fe2O3相同且ε‑Fe2O3晶体的Fe位点的一部分被Fe以外的元素M取代而得的、以式ε‑MxFe2‑xO3表示而所述x超过0小于2的晶体中选择的1种以上。
电磁波吸收体形成用糊剂

[发明专利]电波吸收体膜及其制造方法-CN202080057040.3在审
发明人：大越慎一;生井飞鸟;吉清麻里绘;原正之;浅井隆宏 -专利权人：国立大学法人东京大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： H01F3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种为薄膜且电波吸收性能优异的电波吸收体膜、和该电波吸收体膜的制造方法。在形成于基材层上的电波吸收体膜中，使电波吸收层包含磁性体和粘结剂树脂，并使用芳香族酯‑氨基甲酸酯共聚物作为粘结剂树脂。粘结剂树脂的玻璃化转变温度优选为100℃以下，更优选为0℃以下。磁性体优选为选自由ε型氧化铁、钡铁氧体磁性体、及锶铁氧体磁性体组成的组中的至少一者。
电波吸收体及其制造方法

[发明专利]稠环嘧啶化合物或其盐-CN201680069524.3有效
发明人：南口和久;冈嶋茂雄;浅井隆宏;浅井雅则;荻野悦夫 -专利权人：大鹏药品工业株式会社
申请日： 2016-11-25 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明提供一种对雄激素受体具有抑制作用的化合物。其为下述通式(I)所示的稠环嘧啶化合物或其药学上可接受的盐(式中，X、Y、Z、R1和R2如说明书中的定义)。
嘧啶化合物

[发明专利]嘧啶化合物或其盐-CN202080008342.1在审
发明人：中村昌幸;浅井隆宏;井口聪;小口憩 -专利权人：大鹏药品工业株式会社
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： A61K31/519 文献下载
摘要：本发明提供一种能够抑制HER2活性并且显示脑渗透性的新型的嘧啶化合物或其盐、以及含有其的医药组合物。下述通式(I)所示的化合物或其盐。(式中，R1表示可以具有C1－C4烷氧基作为取代基的C1－C4烷基、或C3－C4环烷基；R2表示氢原子、卤原子、可以分别具有1～5个C1－C4烷氧基或氟原子作为取代基的C1－C6烷基、或C1－C6烷氧基；R3表示氢原子、或可以具有1～5个氟原子作为取代基的C1－C4烷基；R4表示氢原子或C1－C4烷基；R5表示可以具有1～3个选自氟原子和氯原子的取代基的苯基。)
嘧啶化合物

[发明专利]电波吸收层叠膜、其制造方法、以及包含其的元件-CN201980035076.9在审
发明人：大越慎一;生井飞鸟;吉清麻里绘;浅井隆宏;桑原大 -专利权人：国立大学法人东京大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：提供在表面和背面毫米波频段以上的透射衰减性以及反射衰减性均优异、即使极薄设计仍表现出良好的电波吸收性能的电波吸收层叠膜、该膜的制造方法、以及包含该膜的元件。一种电波吸收层叠膜，其具有电波吸收层，所述电波吸收层叠膜具有中心层、两个基材层、和两个电波吸收层，所述中心层包含至少一个金属层，两个所述基材层层叠于所述中心层的两面，两个所述基材层分别在与所述中心层相反的面层叠有所述电波吸收层，两个所述基材层可以相同也可以不同，两个所述电波吸收层可以相同也可以不同，至少一个所述电波吸收层含有磁性体。
电波吸收层叠制造方法以及包含元件

[发明专利]四氢吡啶并嘧啶化合物或其盐-CN201580012484.4有效
发明人：南口和久;冈嶋茂雄;青木真一;浅井雅则;浅井隆宏;山中博义;土肥卓 -专利权人：大鹏药品工业株式会社
申请日： 2015-05-28 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明提供一种对于雄激素受体具有抑制作用的化合物。一种四氢吡啶并嘧啶化合物或其药学上可接受的盐，其由下述通式(I)表示(式中，X和R的定义与说明书中的定义相同)。
新型吡啶嘧啶化合物

[发明专利]多孔聚酰亚胺膜的制造方法、多孔聚酰亚胺膜和使用了该多孔聚酰亚胺膜的隔板-CN201811356524.9在审
发明人：菅原司;浅井隆宏 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： C08J9/26 文献下载
摘要：本发明提供在负极面侧具有均匀且稠密的孔的隔板的制造方法。本发明所涉及的多孔聚酰亚胺膜的制造方法包括：第一未烧成复合膜成膜工序，使用包含(A1)聚酰胺酸或聚酰亚胺以及(B1)微粒、且(A1)与(B1)的体积比为19∶81～45∶65的第一清漆，在基板上使第一未烧成复合膜成膜；第二未烧成复合膜成膜工序，使用包含(A2)聚酰胺酸或聚酰亚胺以及(B2)微粒、(A2)与(B2)的体积比为20∶80～50∶50、且微粒含有比率低于上述第一清漆的第二清漆，在上述第一未烧成复合膜上使第二未烧成复合膜成膜；烧成工序，对包含上述第一未烧成复合膜和上述第二未烧成复合膜的未烧成复合膜进行烧成而得到聚酰亚胺‑微粒复合膜；和微粒除去工序，从上述聚酰亚胺‑微粒复合膜除去微粒。
复合膜烧成多孔聚酰亚胺膜聚酰亚胺清漆隔板成膜工序聚酰胺酸体积比成膜制造微粒除去负极面基板稠密

[发明专利]晶体生长控制剂、p型半导体微粒或p型半导体微粒膜的形成方法、空穴传输层形成用组合物及太阳能电池-CN201580012573.9有效
发明人：仲村亮正;山之内笃史;浅井隆宏;石川薰 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2015-03-10 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： H01L21/368 文献下载
摘要：第一，本发明提供一种能够抑制p型半导体的晶体尺寸增大且能够进行p型半导体微粒表面的化学修饰的晶体生长控制剂、使用了该晶体生长控制剂的p型半导体微粒或p型半导体微粒膜的形成方法、太阳能电池的空穴传输层形成用组合物、以及使用了该空穴传输层形成用组合物的太阳能电池。第二，本发明提供即使在使用具有除硫氰酸根离子以外的阴离子的有机盐(离子性液体)的情况下也能促进p型半导体的结晶化及微细化且能进行p型半导体微粒表面的化学修饰的空穴传输层形成用组合物、以及使用了该空穴传输层形成用组合物的太阳能电池。本发明的晶体生长控制剂包含选自通过质子或阳离子的解离而生成硫醇盐阴离子的化合物及二硫醚化合物中的至少1种含硫化合物(但硫氰酸盐除外。)，并且控制p型半导体的晶体生长。
晶体生长控制半导体微粒形成方法空穴传输组合太阳能电池

[发明专利]多孔聚酰亚胺膜的制造方法、多孔聚酰亚胺膜和使用了该多孔聚酰亚胺膜的隔板-CN201480003158.2在审
发明人：菅原司;浅井隆宏 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： B32B27/34 文献下载
摘要：本发明提供在负极面侧具有均匀且稠密的孔的隔板的制造方法。本发明所涉及的多孔聚酰亚胺膜的制造方法包括：第一未烧成复合膜成膜工序，使用包含(A1)聚酰胺酸或聚酰亚胺以及(B1)微粒、且(A1)与(B1)的体积比为19：81～45：65的第一清漆，在基板上使第一未烧成复合膜成膜；第二未烧成复合膜成膜工序，使用包含(A2)聚酰胺酸或聚酰亚胺以及(B2)微粒、(A2)与(B2)的体积比为20：80～50：50、且微粒含有比率低于上述第一清漆的第二清漆，在上述第一未烧成复合膜上使第二未烧成复合膜成膜；烧成工序，对包含上述第一未烧成复合膜和上述第二未烧成复合膜的未烧成复合膜进行烧成而得到聚酰亚胺-微粒复合膜；和微粒除去工序，从上述聚酰亚胺-微粒复合膜除去微粒。
多孔聚酰亚胺制造方法使用隔板

[发明专利]二次电池用多孔电极-CN201180045450.7有效
发明人： 浅井隆宏;小野贵司;金村圣志;栋方裕一 -专利权人：东京应化工业株式会社;公立大学法人首都大学东京
申请日： 2011-06-22 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： H01M4/13 文献下载
摘要：本发明提供一种充放电循环特性良好、能够提高二次电池的容量的电极。使用如下的电极(1)：其以相互分隔的多个多孔域结构(2)的集合的形式形成于集电体(3)的表面，多孔域结构(2)为俯视时不具有锐角的多边形形状，并且所述多边形形状的最大直径为120μm以下。
二次电池多孔电极

[发明专利]剥离方法及剥离液-CN201110083255.5有效
发明人：田村弘毅;浅井隆宏;久保安通史;今井洋文;吉冈孝广 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2011-03-30 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在短时间内容易地从基板上剥离支承板的剥离方法，其为将利用粘接剂粘贴于设有在厚度方向贯通的贯通孔的支承板的基板从该支承板剥离的方法，其中，包括有经由贯通孔使剥离液与粘接剂接触来溶解粘接剂的工序，粘接剂为以烃树脂为粘着成分的粘接剂，剥离液为粘度为1.3mPa·s以下、且对粘接剂的溶解速度为30nm/sec以上的烃系溶剂。
剥离方法

[发明专利]用于制造三维微成型体的方法-CN201110158684.4无效
发明人： 浅井隆宏;高桥亨;前田浩辉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-05-11 - 公布日： 2011-10-26 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于制造三维微成型体的方法，包括：将感光性干薄膜的感光性树脂组合物层覆盖在透明基板上，至少所述感光性树脂组合物层积层在支撑薄膜上；通过从透明基板侧以使光量沿着所述透明基板的平面发生变化的方式在所述感光性树脂组合物层上照射光化射线，在所述感光性树脂组合物层内部形成三维微成型体的硬化潜像；剥除所述支撑薄膜；和用显影液溶解而去除所述感光性树脂组合物层的未曝光部分，其中所述感光性树脂组合物层，是通过涂布包含以含有至少一个官能团的聚合性单体作为主成分的树脂成分和光聚合引发剂的感光性树脂组合物，并使其干燥而形成。
用于制造三维成型方法

[发明专利]用于制造三维微成型体的感光性干薄膜和感光性树脂组合物-CN200680015650.7无效
发明人： 浅井隆宏;高桥亨;前田浩辉 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-05-11 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种用于制造三维微成型体的感光性树脂组合物和使用此感光性树脂组合物的感光性干薄膜，将光化学射线曝光量(mJ/cm²)设为x，以显影后的残膜厚Δh(μm)相对于显影前的涂布膜厚h(μm)的比y(＝Δh/h)来表示由此曝光量所产生的树脂硬化量，以此求得x与y的关系式y＝αLn(x)±β(β为任意实数)，此时，所述用于制造三维微成型体的感光性树脂组合物具有0.35≤α≤0.78的高灵敏度。由此可提高具有特定立体面的三维微成型体的成型精确度。
用于制造三维成型感光性薄膜树脂组合

[发明专利]提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性的方法-CN200680015651.1有效
发明人： 浅井隆宏;高桥亨 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-05-11 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供一种提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性的方法，为了提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性，所述方法使用碳酸钾来作为显影液，所述具有光学透明性的三维微成型体是以光量沿着透明基板的平面发生变化的方式从所述透明基板侧对设置在所述透明基板上的包含感光性树脂组合物的被成型层照射光化学射线，并将照射后的该被成型层的未硬化的部分用显影液加以溶解除去而获得的。利用所述方法，可防止内置在光学构件中的透明三维微成型体的透明性随着时间推移而劣化，也就是可提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性。
提高具有光学透明性三维成型稳定性方法

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