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- [发明专利]用于物体的几何测量的装置和方法-CN202310687964.7在审
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C·艾姆韦格;T·梅
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泰勒·霍布森有限公司
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2019-08-09
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2023-09-05
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G01B11/24
- 本发明涉及一种用于物体(14)的几何测量的装置和方法，该装置具有：支座(12)，限定轴向方向和径向方向；支架(26)，可相对于支座(移动且设置有距离测量设备(30)；至少一个基准物体(18,19,20)，相对于该支座是可固定的，其中在支架和基准物体中的一个上布置纵向延伸的第一基准结构(22)和纵向延伸的第二基准结构(24)，以及其中在支架和基准物体中的另一个上布置对准至第一基准结构的第一基准传感器(32)和对准至第二基准结构的第二基准传感器(34)，并且其中至少所述第二基准结构或所述第二和第一基准结构相对于所述径向方向以及相对于所述轴向方向以预定的角度对准。
- 用于物体几何测量装置方法
- [发明专利]用于物体的几何测量的装置和方法-CN201980053182.X有效
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C·艾姆韦格;T·梅
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泰勒·霍布森有限公司
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2019-08-09
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2023-06-27
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G01B11/24
- 本发明涉及一种用于物体(14)的几何测量的装置和方法，该装置具有：‑用于该物体(14)的支座(12)，该支座限定轴向方向(z)和径向方向(x)；‑支架(26)，该支架关于该轴向方向(z)以及关于该径向方向(x)都可相对于该支座(12)移动并且设置有距离测量设备(30)；‑至少一个基准物体(18，19，20)，所述至少一个基准物体相对于该支座(12)是可固定的，‑其中在支架(26)和基准物体(18，19，20)中的一个上布置纵向延伸的第一基准结构(22)和纵向延伸的第二基准结构(24)，以及，‑其中在支架(26)和基准物体(18，19，20)中的另一个上布置对准至第一基准结构(22)的第一基准传感器(32)和对准至第二基准结构(24)的第二基准传感器(34)，并且其中至少所述第二基准结构或所述第二和第一基准结构(22，24)相对于所述径向方向(x)以及相对于所述轴向方向(z)以预定的角度对准。
- 用于物体几何测量装置方法
- [发明专利]干涉测量装置-CN202180042997.5在审
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T·梅;C·艾姆韦格
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泰勒·霍布森有限公司
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2021-04-14
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2023-03-03
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G01B11/06
- 干涉测量装置(1)以及测量方法，该干涉测量装置用于测量具有两个相对表面(20、30)的光学元件(10)的表面(20、30)或轮廓，该测量方法包括步骤：‑在光学元件(10)的表面(11)中的一个上限定至少三个测量点(21、31、22、32、23、33)，‑通过分别地将测量光束(61)从测量头(60)引导至测量点上且通过分别地检测在测量点(21、31)处所反射的测量光束部分(62)来测量每个测量点的位置，‑基于至少三个测量位置来确定测量表面(11)相对于基准轴(51)的偏心(D)和倾斜(T)中的至少一个。
- 干涉测量装置
- [发明专利]表面成型设备-CN03810843.7有效
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A·D·班克赫德;I·麦克唐奈
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泰勒·霍布森有限公司
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2003-03-13
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2005-08-10
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G01B11/24
- 沿采样路径(SP)朝向样品表面(7)并且沿参考路径(RP)朝向参考表(6)引导来自于宽带源的光线，如此使得样品表面区域反射的光线与参考表面反射的光线相干涉。移动器(11)在样品表面(7)和参考表面(6)之间沿扫描路径实现相对移动。检测器(10)以一定间隔感测光强以便提供一系列强度值，其表示样品表面区域产生的干涉条纹。数据处理器具有当前处理部件(34a；340)，用于在测量操作期间当接收装置接收到强度值时对强度值执行处理，以便产生表明相干峰值位置的数据，以及后续处理部件(34b；350)，在完成测量操作之后，使用由并行部件产生的数据来获得表明表面区域高度的数据。其中一个处理部件具有相关器(44；440)，用于将强度值与表示相关函数的相关函数数据相关，以便提供相关数据来识别相干峰值的位置。所述后续处理部件具有表面形貌确定器(35；350)，用于根据相干峰值位置数据来确定样品表面区域的高度。
- 表面成型设备
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