专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种长尺寸SiCf-CN202211380016.0在审
  • 汤哲鹏;董凯;王梦千;刘坤;程仁政;谢宇辉 - 核工业第八研究所
  • 2022-11-04 - 2023-01-17 - C04B35/573
  • 本发明涉及一种长尺寸SiCf/SiC复合材料包壳(PyC/SiC)n多层界面层及其制备方法,(PyC/SiC)n多层界面层位于SiC纤维和SiC基体之间,其由内向外依次由PyC界面层和SiC界面层交替沉积组成,所述(PyC/SiC)n多层界面层中的n为PyC界面层和SiC界面层交替沉积的次数,n的范围为1‑3,所述(PyC/SiC)n多层界面层的总厚度为100nm~1000nm,所述(PyC/SiC)n多层界面层采用化学气相沉积工艺制备。与现有技术相比,本发明通过CVD工艺工装交替沉积制备PyC界面层和SiC界面层形成的(PyC/SiC)n多层界面层,实现了(PyC/SiC)n多层界面层的均匀沉积,也提高了SiCf/SiC复合材料包壳的抗氧化性能、界面稳定性和力学性能。
  • 一种尺寸sicbasesub
  • [发明专利]制备长尺寸碳化硅复合材料包壳CVD工艺的工装流场及其设计方法-CN202211190620.7在审
  • 汤哲鹏;谢宇辉;王梦千;刘坤 - 核工业第八研究所
  • 2022-09-28 - 2023-01-13 - C23C16/455
  • 本发明涉及制备长尺寸碳化硅复合材料包壳CVD工艺的工装流场及其设计方法,该工装流场包括沿气体流动方向依次连通的锥形通道结构、第一层气体分散结构、第二层气体分散结构、SiC沉积室和气体出口,所述的第一层和第二层气体分散结构为多孔石墨板,由排布有通气孔的石墨板组成,所述第一层气体分散结构上的通气孔还与所述锥形通道结构相连通,所述第二层气体分散结构上的通气孔还与所述SiC沉积室相连通。本发明可实现对长尺寸包壳的SiC基体均匀沉积;通过对CVD沉积炉的工装流场设计,有效地优化了沉积炉内的流场和浓度场分布,而且可一次性大批量制备SiCf/SiC复合材料包壳;此外,整体简易高效,通过对沉积炉工装设计,实现对长尺寸SiCf/SiC复合材料包壳的均匀致密和批量化制备。
  • 制备尺寸碳化硅复合材料cvd工艺工装及其设计方法
  • [发明专利]甲基三氯硅烷气体的裂解状态模拟预测方法、设备及应用-CN202110724362.5在审
  • 汤哲鹏;谢宇辉 - 核工业第八研究所
  • 2021-06-29 - 2021-09-03 - G16C10/00
  • 本发明涉及一种甲基三氯硅烷(CH3SiCl3,MTS)气体的裂解状态模拟预测方法、设备及应用,该方法以简化的甲基三氯硅烷气体裂解反应动力学机理模拟所述甲基三氯硅烷气体在反应设备中的裂解过程,预测获得给定工艺条件下的裂解状态;构建甲基三氯硅烷气体裂解反应动力学机理初始数据库;对所述初始数据库进行偏差调试和灵敏度调试,获得所述简化的三氯甲基硅烷气体裂解反应动力学机理。与现有技术相比,本发明具有准确可靠等优点,可以通过甲基三氯硅烷气体的裂解状态模拟预测方法获得在反应设备中甲基三氯硅烷气体的裂解状态,基于所述裂解状态调控和优化碳化硅涂层制备过程的工艺参数。
  • 甲基硅烷气体裂解状态模拟预测方法设备应用
  • [发明专利]均匀化氮化硼涂层的制备方法-CN201510711019.1在审
  • 李爱军;李琳琳;彭雨晴;白瑞成;吴彪;贾林涛;汤哲鹏 - 上海大学
  • 2015-10-28 - 2016-02-03 - C23C16/34
  • 本发明涉及一种均匀化氮化硼涂层的制备方法。给方法以三氯化硼(BCl3)和氨气(NH3)为反应气体,通入反应器中,先在混合区混合均匀,再在沉积反应区发生表面沉积,最后将所得样品进行高温热处理,经扫描隧道显微镜(SEM)、傅立叶红外(FT-IR)和X射线衍射(XRD)检测,制备出厚度均匀、成分单一、结晶度较高的氮化硼涂层。此方法可用于复合材料中氮化硼界面的制备其它样品表面氮化硼涂层的制备,还可用于研究氮化硼气相沉积过程及机理的研究。该方法主要解决的是双组元化学气相沉积氮化硼过程中气体混合不均的问题,以提高氮化硼涂层的均匀度,更好地控制涂层厚度。
  • 均匀氮化涂层制备方法
  • [发明专利]催化呋喃树脂碳石墨化的方法-CN201510285476.9在审
  • 李爱军;张涛;范杨;彭雨晴;庞宏伟;白瑞成;汤哲鹏 - 上海大学
  • 2015-05-29 - 2015-09-16 - C01B31/02
  • 本发明公开了一种呋喃树脂碳的催化石墨化方法,通过催化剂的加入,提高呋喃树脂碳的石墨化程度。在呋喃树脂中加入一定量的硼粉,然后在加热的条件下进行超声处理,使树脂开始凝胶,同时硼粉能够均匀的分散在树脂中且不会发生沉降;然后进行固化处理。随后将固化后的树脂在惰性气体保护下进行碳化,最后将碳化后的树脂碳在氩气的保护下进行高温热处理。本发明方法能使呋喃树脂碳的石墨化度提高到99.4%。呋喃树脂碳化后是乱层无序的碳,其在电学、热学和力学性能等方面都不及理想的石墨结构的碳材料,而且呋喃树脂碳/碳复合材料常用的基体碳,提高其石墨化程度,对提高碳/碳复合材料的性能有重大意义。
  • 催化呋喃树脂石墨方法

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