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[发明专利]基板盒及基板收容装置-CN201080060044.3有效
发明人： 水谷英夫;木内徹;川口透;增川孝志 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： B65H75/14 文献下载
摘要：基板盒，包括：轴部，卷绕有片状基板，该片状基板具有经电路生成处理后的电路区域；以及罩部，用以收容卷绕于该轴部的状态的基板；轴部，具有保持基板的开始卷绕的一端部中与电路区域不同的区域的保持部。
基板盒收容装置

[发明专利]曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法-CN201180018579.9无效
发明人：木内彻;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2011-04-13 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置、基板处理装置以及器件制造方法。曝光装置使沿规定的圆筒面设置的图案在上述圆筒面的圆周方向旋转并将上述图案转印至基板，曝光装置具备：第一投影光学系统，该第一投影光学系统将上述图案中的配置于上述圆筒面的第一区域的第一部分图案的像投影于第一投影区域；第二投影光学系统，该第二投影光学系统将上述图案中的配置于与上述第一区域不同的第二区域的第二部分图案的像投影于与上述第一投影区域不同的第二投影区域；以及引导装置，该引导装置与上述图案的在上述圆周方向的旋转同步地将上述基板向上述第一投影区域以及上述第二投影区域引导。
曝光装置处理以及器件制造方法

[发明专利]曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法-CN201180004420.1有效
发明人：木内彻;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2011-02-02 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F7/213 文献下载
摘要：本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备：使图案移动的工作台机构(MS)；投影光学系统(PL)，其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1)，且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2)；移动机构(SC)，该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动；以及调整机构(50)，该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔，对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。
曝光方法装置图案形成器件制造

[发明专利]图案形成装置、图案形成方法以及装置制造方法-CN201080031672.9有效
发明人：木内彻;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过控制装置在Z轴方向上细微地驱动暂时支持片(S)的六个辅助片支持物(SH2)和(SH3)，以使得其支持表面定位在片支持物(SH1)的支持表面的略微较低侧(-Z侧)。因此，在宽度方向(Y轴方向)和长度方向上向片(S)施加适当的张力，以使得片(S)的中心部分固定到片支持物(SH1)的支持表面。即，在XY二维张力被施加到片(S)的分开区域(SAi)的状态下，与片(S)的分开区域(SAi)对应的后表面部分根据片支持物(SH1)的支持表面的平坦形状而改变。另外，在张力在长度方向和宽度方向上被施加到预定区域的状态下，与片材料(S)的预定区域对应的后表面部分根据平坦参考表面而改变以便平坦化。另外，用能量束照射平坦化的片材料的预定区域，以在其上形成图案。
图案形成装置方法以及制造

[发明专利]图案形成设备、图案形成方法及装置制造方法-CN201080032017.5有效
发明人：木内彻;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-07-14 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：当片(S)的分块区域(SAi)被扫描曝光时，载物台(SST1)在扫描区域(AS)的+X端部的备用位置处将与片(S)的分块区域(SAi)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上，并且与掩模(掩模载物台)同步地以预定行程在X轴方向(-X方向)上移动。此时，与掩模的图案部分对应的照射束通过投射光学系统照射在片(S)上。由此转印(形成)图案。在对分块区域(SAi)进行扫描曝光之后，载物台(SST2)移动到XY平面内的备用位置。在载物台(SST2)将与片(S)的下一个分块区域(SAi+1)对应的后表面部分吸附到片保持器(SH1)的保持表面上之后，通过与上述类似的扫描曝光方法进行曝光，由此形成图案。
图案形成设备方法装置制造

[发明专利]曝光设备、曝光方法和加工装置的方法-CN201080011781.4无效
发明人：木内彻;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-03-05 - 公布日： 2012-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的一个方面的曝光设备被提供有：移动机构(SC)，其沿着第一方向(X方向)在第一航向上(-X方向)上移动具有光敏性的带形衬底(SH)的第一部分并沿着第一方向在第二航向(+X方向)上移动衬底的第二部分；台机构(MS)，保持掩模(M)并与衬底的移动同步地沿着第二方向(Y方向)在第三航向(+Y方向)上移动掩模；以及投影光学系统(PL)。投影光学系统在第一部分上形成图案的第一投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第一部分的第一航向光学对应，并在第二部分上形成图案的第二投影图像使得关于掩模的第三航向和关于第二部分的第二航向光学对应。
曝光设备方法加工装置

[发明专利]曝光装置以及器件制造方法-CN200380105420.6无效
发明人： 水谷英夫;马込伸贵 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2003-12-09 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种曝光装置，在投影光学系统与基片(P)之间的至少一部分用液体充满，经由投影光学系统和液体将图案像投影到基片(P)上，由此对基片(P)进行曝光，具备对投影光学系统与基片(P)之间的液体中的气泡进行检测的气泡检测器(20)。曝光装置在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光处理之际，能够抑制起因于液体中的气泡的图案像的劣化。
曝光装置以及器件制造方法

[发明专利]保持装置、保持方法、曝光装置以及器件制造方法-CN02804844.X无效
发明人：萩原恒幸;吉元宏充;堀川浩人;水谷英夫 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2002-02-13 - 公布日： 2004-06-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在本发明的保持装置中，标线片保持座(18)备有第1吸引部(63)、第2吸引部(64)、与吸引装置相连的细孔(70a)、与吸引装置(72)相连的细孔(70b)。第1吸引部(63)与标线片(R)的下面(Ra)中的、具有规定面精度的精度保证区域(AR1)相对。第2吸引部(64)与精度保证区域(AR1)以外的精度非保证区域(AR2)相对。吸引装置用于吸引标线片(R)的下面(Ra)与第1吸引部(63)之间空间的气体。吸引装置(72)用于吸引标线片(R)的下面(Ra)与第2吸引部(64)之间空间的气体。这样，不使精度保证区域的面精度恶化，可稳定地保持住标线片。
保持装置方法曝光以及器件制造