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[发明专利]布线基板和布线基板的制造方法-CN202180067541.4在审
发明人：木下一树;饭村庆太;武诚司;川口修司;榊真史 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2021-10-04 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01P11/00 文献下载
摘要：布线基板(10)具备：基板(11)；布线图案区域(20)，其配置在基板(11)上，包含多个布线(21)；以及多个虚设图案区域(30)，其配置在布线图案区域(20)的周围，与布线(21)在电气上独立。与布线图案区域(20)相邻的第1虚设图案区域(301)的开口率(A21)为布线图案区域(20)的开口率(A1)以上。另外，与第1虚设图案区域(301)相邻并且比第1虚设图案区域(301)远离布线图案区域(20)的第2虚设图案区域(302)的开口率(A22)比第1虚设图案区域(301)的开口率(A21)大。
布线制造方法

[发明专利]配线基板和配线基板的制造方法-CN202180029449.9在审
发明人： 武诚司;川口修司;初田千秋 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2021-04-28 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：配线基板(10)具备：基板(11)；和网格状配线层(20)，其配置于基板(11)上，包含多个配线(21、22)。基板(11)对于波长400nm以上700nm以下的光线的透射率为85％以上。配线(21、22)包含表面粗糙度Ra，表面粗糙度Ra为100nm以下。
配线基板制造方法

[发明专利]配线基板和配线基板的制造方法-CN202180024780.1在审
发明人： 武诚司;川口修司;初田千秋 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：配线基板(10)具备：基板(11)；和网格状配线层(20)，其配置于基板(11)上，包含多个配线(21、22)。基板(11)对于波长380nm以上750nm以下的光线的透射率为85％以上。配线(21、22)具有金属层(27)和位于金属层(27)上的黑化处理层(28)。黑化处理层(28)的厚度(T2)为5nm以上100nm以下。
配线基板制造方法

[发明专利]配线基板和配线基板的制造方法-CN202080033584.6在审
发明人：铃木纲一;武诚司;松浦大辅 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：配线基板(10)具备：基板(11)，其具有透明性；配线图案区域(20)，其配置于基板(11)上，包含多个第1方向配线(21)；以及供电部(40)，其与配线图案区域(20)的多个第1方向配线(21)电连接。第1方向配线(21)具有位于供电部(40)的附近的第1区域(26)和除第1区域(26)以外的第2区域(27)。第1区域(26)中的第1方向配线(21)的线宽(W3)比第2区域(27)中的第1方向配线(21)的线宽(W1)粗。
配线基板制造方法

[发明专利]配线基板和配线基板的制造方法-CN201980063043.5在审
发明人：铃木纲一;武诚司;松浦大辅 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01Q1/38 文献下载
摘要：配线基板(10)具有：具有透明性的基板(11)；以及配线图案区域(20)，其配置于基板(11)上，包含有多个配线(21、22)。配线图案区域(20)的方块电阻值为5Ω/□以下，以120°的视角观察各配线(21、22)时的最大宽度为3μm以下。
配线基板制造方法

[发明专利]布线基板及布线基板的制造方法-CN201880075830.7在审
发明人：铃木纲一;武诚司;松浦大辅 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2020-07-03 - 主分类号： H05K1/02 文献下载
摘要：布线基板具备：基板，所述基板具有透明性；多个第一布线，所述多个第一布线配置在基板的上表面且向第一方向延长，具有与基板相接的背面和朝向背面的相反侧的表面；以及第二布线，所述第二布线配置在基板的上表面且向与第一方向交叉的第二方向延长，具有与基板相接的背面和朝向背面的相反侧的表面。第一布线具有向第一方向延长且与第一布线的背面邻接的一对侧面，第一布线的一对侧面分别朝向内侧凹陷。第二布线具有向第二方向延长且与第二布线的背面邻接的一对侧面，第二布线的一对侧面分别朝向内侧凹陷。
布线制造方法

[发明专利]用于形成空穴注入传输层的含过渡金属的纳米粒子及其制造方法-CN201310049424.2有效
发明人：上野滋弘;桥本庆介;冈田政人;武诚司;田口洋介;加纳正隆;藤本慎也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2009-04-28 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明是用于形成空穴注入传输层的含过渡金属的纳米粒子及其制造方法。提供一种制造工艺简单且可以实现长寿命的器件。所述器件的特征在于，具有在基板上对置的2个以上电极和配置在其中的2个电极间的空穴注入传输层，所述空穴注入传输层含有含过渡金属的纳米粒子，所述含过渡金属的纳米粒子包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物及过渡金属和保护剂，或者包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物和保护剂。
用于形成空穴注入传输过渡金属纳米粒子及其制造方法

[发明专利]空穴注入传输层用器件材料、空穴注入传输层形成用油墨、具有空穴注入传输层的器件及其制造方法-CN201080029869.9有效
发明人：上野滋弘;冈田政人;田口洋介;武诚司;下河原匡哉;多谷奈苗 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2010-07-29 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供通过能量照射润湿性变化，同时工序耐性高，并且具有优异的空穴注入传输性，能够采用溶液涂布法形成空穴注入传输层的空穴注入传输层用器件材料以及使用了该器件材料的空穴注入传输层用油墨。此外，还提供能够将在空穴注入传输层上层叠的层构图，并且能够实现长寿命的器件及其制造方法。本发明涉及空穴注入传输层用器件材料，其特征在于，在至少包含过渡金属氧化物的含有过渡金属的纳米粒子或含有过渡金属的纳米簇的表面附着有含氟有机化合物。此外，还涉及使用了该器件材料的、空穴注入传输层用油墨、器件及其制造方法。
空穴注入传输器件材料形成油墨具有及其制造方法

[发明专利]具有空穴注入传输层的器件及其制造方法、以及用于形成空穴注入传输层的墨液-CN200980114949.1有效
发明人：上野滋弘;桥本庆介;冈田政人;武诚司;田口洋介;加纳正隆;藤本慎也 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2009-04-28 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供一种制造工艺简单且可以实现长寿命的器件。所述器件的特征在于，具有在基板上对置的2个以上电极和配置在其中的2个电极间的空穴注入传输层，所述空穴注入传输层含有含过渡金属的纳米粒子，所述含过渡金属的纳米粒子包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物及过渡金属和保护剂，或者包含至少含过渡金属氧化物的过渡金属化合物和保护剂。
具有空穴注入传输器件及其制造方法以及用于形成

[发明专利]发光装置-CN200880110452.8有效
发明人：冈田政人;上野滋弘;赤井智纪;下河原匡哉;武诚司 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2008-09-29 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H05B33/14 文献下载
摘要：本发明提供与发光层粘结剂成分的相容性高的QD保护材料以及使用所述保护材料的驱动寿命长的发光装置。本发明涉及发光装置，其具有在基板上相对向的2个以上电极和设置在其中的2个电极间的发光层，还可在所述电极上具有金属层，其特征在于，所述发光层包含具有原子量总和MA在100以上的A部分的化合物和通过保护材料保护的量子点作为其化学结构的一部分，所述保护材料具有与量子点表面相连接的连接基团和B部分作为其化学结构的一部分，所述B部分的原子量总和MB在100以上，MB和MA满足|MA-MB|/MB≤2的关系，所述原子量总和MB大于保护材料的分子量的1/3，A部分的溶解度参数SA和B部分的溶解度参数SB满足|SA-SB|≤2的关系。
发光装置

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