“欧阳欠”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法-CN202310109086.0在审
发明人： 欧阳欠;任文明;钱海蛟;孙智磊 -专利权人：南京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本申请涉及显示面板技术领域，特别是涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。显示面板包括基底和设于基底一侧的显示区和周边区，周边区围绕显示区设置。显示区内设有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极，薄膜晶体管包括基底和设于基底一侧的栅极、第一栅极绝缘层、第一有源层和源、漏极；周边区设有异层相交的第一信号走线和第二信号走线，第一信号走线与栅线同层设置，第二信号走线朝向基底的一侧依次设有第二有源层和第二栅极绝缘层，第二有源层与第二信号走线一一对应设置。第二信号走线和第一信号走线之间多了一层第二有源层，可有效阻挡铜离子向下或向上的扩散，从而避免因铜离子扩散导致的第一信号走线和第二信号走线短接不良。
一种显示面板显示装置制作方法

[发明专利]一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备-CN201610675863.8有效
发明人：齐发;徐海涛;刘超;钱娟娟;彭亮亮;欧阳欠;江涛 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-08-16 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： G01N21/17 文献下载
摘要：本发明提供一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备，涉及显示器制造技术领域，用于解决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。该光电检测装置包括：光源，用于产生检测光束并将检测光束投射至透明基板；与光源相对固定且位于光源后方的接收处理器，用于接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值；接收处理器还用于判断测量光程差是否满足预设条件以及在测量光程差不符合预设条件时确认透明基板上具有水波纹。本发明用于shell mura的检测。
一种光电检测装置方法光刻胶涂覆设备

[实用新型]一种空气刀系统-CN201620525505.4有效
发明人：钱娟娟;马超;黄胜;徐海涛;刘超;王守波;欧阳欠;林杰 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种空气刀系统，用于分离基板表面的液体，包括向基板表面喷射气体的空气刀，以及用于吸取由空气刀喷射的气体吹起的液体的真空吸液装置。本实用新型有益效果是：真空吸液装置和空气刀配合及时吸取由空气刀喷射的气体吹起的液体，避免水渍残留，保证空气刀对基板表面作用力的均匀性。
一种空气系统

[实用新型]基板显影后清洗装置-CN201220431632.X有效
发明人：余海;崔缀奎;马超;欧阳欠 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-08-28 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻技术，公开了一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。本实用新型在保证显影后基板清洗效果的同时大幅节约用水，并且自动化能力强，易实现。
显影清洗装置