“森田和代”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法-CN201680075799.8有效
发明人： 森田和代 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： C08G81/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种即使在形成尺寸较大的图案的情形时，亦能够形成良好的相分离构造的图案形成用自身组织化组合物。此外，本发明的课题在于提供一种在形成微细图案构造时无需底层等而能够以简单的过程形成图案的图案形成用自身组织化组合物。本发明关于一种图案形成用自身组织化组合物，其特征在于含有如下嵌段共聚物，该嵌段共聚物含有：聚合部a，其包含2单位以上的选自葡萄糖单位及木糖单位中的至少1种；与聚合部b，其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属单位中的至少1种。
图案形成自身组织组合方法

[发明专利]图案形成用材料、图案形成方法及图案形成用材料用单体-CN201980015108.9在审
发明人： 森田和代;服部贵美子 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明以提供蚀刻耐性优异的图案形成用膜为课题。本发明关于一种图案形成用材料，含有含氧原子的聚合物；聚合物的氧原子含有率相对于聚合物总质量为20质量％以上；聚合物的硅原子含有率相对于聚合物总质量为10质量％以下。
图案形成用材方法单体

[发明专利]形成下层膜的组合物、图案形成方法及形成图案的下层膜形成用共聚物-CN201780092950.3在审
发明人：服部贵美子;森田和代 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2017-12-20 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种形成下层膜的组合物，该形成下层膜的组合物的材料对有机溶剂的溶解度较高，可通过在大气下且相对低温的加热处理而形成难以破裂的下层膜，在形成有下层膜的情况下对于有机溶剂的涂布膜残留率较高。本发明是一种形成下层膜的组合物及图案形成方法，该形成下层膜的组合物包含共聚物及有机溶剂，共聚物具有聚合部a及聚合部b，聚合部a具有糖衍生物部，糖衍生物部为五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者，聚合部b不具有糖衍生物部，该形成下层膜的组合物为用于图案形成的下层膜形成用。
形成下层组合图案方法共聚物

[发明专利]图案形成方法、底涂剂和层压体-CN201780066048.4在审
发明人： 森田和代;服部贵美子 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2017-05-30 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： B05D7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在扩大了图案尺寸的适用范围的情况下也能够容易且高精度地形成相分离结构的图案形成方法。本发明涉及一种图案形成方法，包含以下工序：在基板上涂布底涂剂的工序、和在基板上的涂布了底涂剂的面上涂布图案形成用自组装组合物、并通过自组装相分离而形成自组装膜的工序，图案形成用自组装组合物含有嵌段共聚物，所述嵌段共聚物包含具有选自由通式(103)表示的结构以及由通式(104)表示的结构中的至少一者的聚合部分a、和具有由通式(105)表示的结构的聚合部分b。
图案形成底涂剂自组装嵌段共聚物基板聚合相分离结构涂布图案自由通式自组装膜层压体相分离图案

[发明专利]图案形成用自组织化组合物及图案形成方法-CN201780030987.3在审
发明人： 森田和代;服部贵美子 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： C08F293/00 文献下载
摘要：本发明以提供图案尺寸的可应用范围宽广、且可容易形成良好的相分离构造的图案形成用自组织化组合物为课题。本发明关于一种图案形成用自组织化组合物，含有嵌段共聚物，该嵌段共聚物含有：具有选自下述通式(103)所示构造及下述通式(104)所示构造的至少一者的聚合部a；与具有下述通式(105)所示构造的聚合部b；嵌段共聚物中的糖部的含有率相对于嵌段共聚物的总质量，为3质量％以上且80质量％以下。
嵌段共聚物图案形成自组织化聚合部相分离图案应用

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top