专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]热处理炉-CN202011341186.9有效
  • 森元阳介 - 岛津产业机械系统株式会社
  • 2020-11-25 - 2023-03-21 - F27D9/00
  • 本发明提供一种可均匀地对被处理物进行冷却的热处理炉。热处理炉包括:压力容器;隔热体;加热器;第一端口,向压力容器的内部空间供给冷却气体;第二端口,向压力容器的外部排出冷却气体;第一贯通孔,形成在隔热体,且用于将冷却气体引导至由隔热体所形成的内部空间;第二贯通孔,形成在隔热体,且用于将冷却气体从由隔热体所形成的内部空间排出;第一风扇,使冷却气体冷循环;冷却装置,使冷却气体冷却;以及密封箱,配置在由隔热体所形成的内部空间,收容被处理物,由冷却气体冷却,通过热辐射对所述被处理物进行冷却。
  • 热处理
  • [实用新型]热处理炉-CN201921177058.8有效
  • 森元阳介 - 株式会社岛津制作所
  • 2019-07-24 - 2020-05-26 - C21D1/74
  • 本实用新型提供一种容易对被处理物进行冷却的热处理炉。热处理炉(10)包括:容器状的压力容器(12);隔热体(16),配置在所述压力容器(12)的内部空间(14),具有隔热本体(52)及隔热盖(54);加热器(20),配置在所述隔热本体(52)的内部空间(18);密封箱(24),配置在所述隔热本体(52)的内部空间(18),收容被处理物(22);风扇(26),配置在所述压力容器(12)的内部空间(14),使气体进行循环;冷却器(28),对在所述压力容器(12)的内部空间(14)进行循环的气体进行冷却;导风路径(30),为将所述风扇(26)的周围与隔热盖(54)的附近连接的风道。
  • 热处理
  • [实用新型]热处理炉-CN201921188582.5有效
  • 森元阳介;清水洋幸;山田龙之介;结城崇仁 - 株式会社岛津制作所
  • 2019-07-25 - 2020-05-22 - C21D1/74
  • 本实用新型提供一种可在短时间内将大量的气体导入压力容器的热处理炉。热处理炉(10)包括:容器状的压力容器(12);隔热体(16),配置在所述压力容器(12)的内部空间(14);加热器(20),配置在由所述隔热体(16)所形成的内部空间(18);密封箱(24),配置在由所述隔热体(16)所形成的内部空间(18),收容被处理物(22);泵(28),对所述压力容器(12)的内部空间(14)及密封箱(24)的内部空间(26)进行减压;第一气体源(30),将第一气体导入所述压力容器(12)的内部空间(14);第一导入管(32),将所述压力容器(12)与第一气体源(30)连接;以及缓冲罐(34),设置在所述第一导入管(32)的中途,储存第一气体。
  • 热处理
  • [发明专利]基板移载系统-CN201580058301.2在审
  • 森元阳介 - 株式会社岛津制作所
  • 2015-01-22 - 2017-09-26 - H01L21/677
  • 一种基板移载系统,其是通过真空吸附来保持基板的基板移载系统,其包括多个吸附垫,各自具有形成有真空孔及包围所述真空孔的周围的突起部的吸附面,各个突起部的上表面与基板的彼此隔开的位置接触;臂部,支撑多个吸附垫;以及真空装置,经由真空路径分别与多个吸附垫的真空孔连接,使真空路径的内部与周围相比成为负压。
  • 基板移载系统
  • [发明专利]电弧等离子体成膜装置-CN201380071791.0有效
  • 铃木正康;森元阳介 - 株式会社岛津制作所
  • 2013-10-29 - 2017-02-15 - C23C14/32
  • 本发明的电弧等离子体成膜装置包括成膜腔室,储存作为处理对象的基板;等离子体腔室,储存靶的至少一部分,且与成膜腔室连结;以及多个中空线圈,在靶与成膜腔室之间具有至少一处弯曲部以产生连续的磁力线,被包含非磁性金属的外皮覆盖,且配置于等离子体腔室内;利用电弧放电而在等离子体腔室内生成的含有源自靶材料的离子的等离子体是通过中空线圈的内侧而从靶被输送到基板。
  • 电弧等离子体装置

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