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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]橡胶块及其制造方法、聚合物组合物、交联体及轮胎-CN202180070413.5在审
发明人： 桑原力丸 -专利权人：株式会社引能仕材料
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B60C1/00 文献下载
摘要：本发明是一种橡胶块，含有：改性共轭二烯系聚合物；以及HLB为9.0以下的表面活性剂。通过包括如下工序的方法来制造橡胶块，即，混合工序，将在溶媒中溶解有改性共轭二烯系聚合物的聚合物溶液与HLB为9.0以下的表面活性剂加以混合；以及脱溶媒工序，从通过所述混合工序而获得的溶液中除去溶媒。
橡胶及其制造方法聚合物组合联体轮胎

[发明专利]聚合物组合物、其制造方法、交联体、其制造方法及轮胎-CN201980067729.1有效
发明人： 桑原力丸 -专利权人：株式会社引能仕材料
申请日： 2019-12-02 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C08L15/00 文献下载
摘要：本公开提供一种聚合物组合物、其制造方法、交联体、其制造方法及轮胎。聚合物组合物含有：改性共轭二烯系聚合物，具有选自由一级氨基、二级氨基、三级氨基、经鎓化或保护的一级氨基、经鎓化或保护的二级氨基、及经鎓化的三级氨基所组成的群组中的至少一种含氮的官能基；以及含官能基的聚合物，具有选自由环氧基、酸酐结构、恶唑啉基、羟基、羧基及磺基所组成的群组中的至少一种官能基。
聚合物组合制造方法联体轮胎

[发明专利]橡胶组合物的制造方法-CN201880053415.1有效
发明人：谷耕一郎;舟木亮太;桑原力丸;森田浩之;松本贵臣 -专利权人：株式会社引能仕材料
申请日： 2018-08-13 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C08J3/20 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种含有改性共轭二烯系聚合物的橡胶组合物的制造方法，该制造方法能够得到可获得优异的加工性而且在含有填充剂(填料)时该填充剂可获得良好分散性的橡胶组合物。本发明的橡胶组合物的制造方法的特征在于，具有如下工序：第1工序，将改性共轭二烯系聚合物和酸解离常数为8.0以上的碱性化合物混炼，所述改性共轭二烯系聚合物是将包含共轭二烯化合物的单体聚合而得到的且具有选自伯氨基、仲氨基、叔氨基、化的伯氨基、化的仲氨基和化的叔氨基中的至少一种含氮官能团；第2工序，将上述第1工序中得到的混炼物和交联剂混炼。
橡胶组合制造方法

[发明专利]聚氨酯及含有它的研磨层形成用组合物、以及化学机械研磨用垫及使用它的化学机械研磨方法-CN201080023626.4无效
发明人：冈本隆浩;桑原力丸 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2010-05-31 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： C08G18/65 文献下载
摘要：本发明中所述的聚氨酯是使至少含有(A)二异氰酸酯、(B)多元醇和(C)扩链剂的混合物进行反应而得到的，其特征在于，前述(B)多元醇的数均分子量为400～5,000，前述(C)扩链剂含有(C1)下述通式(1)所示的化合物和(C2)下述通式(2)所示的化合物，前述化合物(C1)及前述化合物(C2)的数均分子量不足400，由前述化合物(C1)的摩尔数(M1)及前述化合物(C2)的摩尔数(M2)算出的M1/(M1+M2)的值为0.25～0.9。HO-(CR1R2)2m+1-OH...(1)HO-(CR3R4)2n-OH...(2)
聚氨酯含有研磨形成组合以及化学机械使用方法

[发明专利]化学机械研磨垫-CN200780004401.2有效
发明人：冈本隆浩;桑原力丸;栗山敬祐;辻昭卫 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2007-01-30 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够在赋予高研磨速度的同时，充分地抑制被研磨面的刮痕的发生，且对于研磨量能够实现高度的被研磨面内均匀性的化学机械研磨垫。上述目的通过研磨层的表面电阻率为1.0×10⁷～9.9×10¹³Ω的化学机械研磨垫达成。该研磨层优选由含有(A)体积电阻率为1.0×10¹³～9.9×10¹⁷Ω·cm的高分子基质成分和(B)体积电阻率为1.0×10⁶～9.9×10¹²Ω·cm的成分的组合物形成。
化学机械研磨

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