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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于照射紫外线的装置-CN01124818.1有效
发明人：朴庸硕;韩占烈 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2004-08-18 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：一种用于照射紫外线的装置，包括：真空室，在其一侧设置有供气部件和真空排气口；光源，设置在所述真空室的上部，用于将紫外线发射到所述基片的表面上；支持架，用于支持所述基片；和控制部件，其中在低真空状态下，所述真空室的内部压强为360-1mTorr，来自所述光源的紫外线照射到所述基片的表面上。
用于照射紫外线装置

[发明专利]用于处理玻璃基片或晶片的除灰装置-CN01124819.X有效
发明人：裵禹庆 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于处理玻璃基片或晶片的除灰装置，包括：下电极，其上安装有玻璃基片或晶片，其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上；上电极，用于与下电极一起形成电场；气缝或气管，用于供气到除灰室内；安全盖，设置在上电极上，用于与除灰室的外壁一起形成密封环境；电源，用于在上电极与下电极之间形成电场；绝缘体，插入上电极与除灰室的外壁之间，用于防止彼此之间的电接触；和排气口，将除灰室中汽化的光阻材料排放到除灰室外。
用于处理玻璃晶片装置

[发明专利]用于处理玻璃基片或晶片的注入装置-CN01124801.7无效
发明人：韩占烈 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2003-01-29 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：根据本发明的注入装置包括注入部件，用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽；供应部件，用于再生残留的液体或提供新的液体；发生器，用于蒸发IPA和溶液。注入部件具有设置在其一端的注入孔，用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽；和压力罐，具有形成在两侧端部的入口和出口导向件，用于使玻璃基片自由进出。供应部件具有蒸发单元和冷凝单元，用于通过泵传输压力罐出口导向件一侧残留的液体，并蒸发传输的液体。发生器具有设置在其中的加热器和供应单元，加热并提供IPA和溶液，由此将液体通过注入孔提供给玻璃基片。
用于处理玻璃晶片注入装置

[发明专利]多功能清洗模块及应用该模块的清洗设备-CN01123278.1有效
发明人：朴庸硕;韩占烈;金贞真;朴炳厚 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-04-17 - 主分类号： B08B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种多功能清洗模块,包括多个气帘、eximer紫外光照射装置、刷、高速喷淋装置、和空气刮刀,在此这些部件被连续的布置在一个平面上,而玻璃基片可以被连续地插入它们之中。也公开了一种应用该多功能清洗模块的清洗设备,其包括执行装载和卸载玻璃基片的驱动部以及所述多功能清洗模块。
多功能清洗模块应用设备

[发明专利]用于生产半导体装置和平板显示器的设备-CN01124802.5无效
发明人：韩占烈 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-04-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：根据本发明,生产半导体装置和平板显示设备的设备结合/连接具有处理功能的模块,用于在相同类型的实体分布设备中形成半导体装置和平板显示器,处理功能如清洁－沉积－扩散－离子掺杂－再耦合－抛光－光刻－蚀刻－除灰－剥离－检查－退火,由此防止由于实体分布的重复导致生产率损失。
用于生产半导体装置平板显示器设备

[发明专利]用于处理玻璃基片或晶片的电子回旋共振除灰装置-CN01124820.3无效
发明人：朴庸硕;裵禹庆 -专利权人： 株式会社D.M.S
申请日： 2001-06-29 - 公布日： 2002-04-03 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：一种ECR除灰装置,包括除灰室,在其一侧设置有玻璃基片或晶片的插入口、除灰气体的排气口和供气部件下电极,在所述除灰室中,下电极上安装有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;RF电源,用于对所述下电极提供电源;ECR源,包括微波产生部件、波导管、等离子体放电室和磁线圈,用于在所述除灰室中形成等离子体;电源,用于对所述ECR源提供电源;和扫描单元,用于驱动所述ECR源前后或左右移动。
用于处理玻璃晶片电子回旋共振装置

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