“柴崎祐一”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果117个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]移动体系统、图案形成装置、曝光装置及测量装置、以及器件制造方法-CN200880018726.0有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-12-12 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G01D5/36 文献下载
摘要：本发明提供一种移动体系统，具备：具有沿XY平面移动的载台本体(91)、在该载台本体上可微动于与XY平面正交的方向(Z轴方向)及对XY平面倾斜的方向上的台(WTB)的载台(WST)，测量在XY平面内的载台(WST)的位置信息的测量装置。测量装置具有设于台(WTB)的多个编码器读头(60C等)、与各读头对置地将端部设于载台本体(91)且在端部处光轴与Z轴方向实质平行的光纤(24、26)，根据和与XY平面实质平行配置的光栅部(RG)对置的读头的输出，测量载台(WST)的位置信息。并在各读头与光纤的端部之间进行信号的空中传输。
移动体系图案形成装置曝光测量以及器件制造方法

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法-CN200880011784.0有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-11-04 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：从一晶圆载台(WST1)位于形成液浸区域(14)的投影光学系统(PL)下方的区域的状态转移至另一晶圆载台(WST2)位于形成液浸区域(14)的投影光学系统(PL)下方的区域的状态时，使分别设于两晶圆载台(WST1，WST2)的檐部(23a’)与段部(23b)卡合，并在X轴方向错开的状态下，使两晶圆载台(WST1，WST2)沿Y轴方向接近或接触，并维持该状态沿Y轴方向同时驱动两晶圆载台(WST1，WST2)。藉此，液浸区域即透过檐部在两个晶圆载台间进行交接，并抑制形成液浸区域的液体的泄漏。
曝光装置方法以及元件制造

[发明专利]曝光装置及曝光方法-CN200910149533.5无效
发明人：藤原朋春;柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-10-31 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种可以抑制液体的残留的曝光装置。曝光装置(EX)具备：可保持衬底(P)并移动的衬底载台(ST1)；可与衬底载台(ST1)独立地移动的计测载台(ST2)；在衬底载台(ST1)及计测载台(ST2)的至少一个的载台的上面形成液体(LQ)的浸液区域(LR)的浸液机构(12等)。在计测载台(ST2)的上面，设有可回收液体(LR)的回收口(51)。
曝光装置方法

[发明专利]移动体系统、曝光装置及组件制造方法-CN200910132529.8在审
发明人：依田安史;柴崎祐一;荒井大 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-11-24 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
移动体系曝光装置组件制造方法

[发明专利]结合装置、曝光装置、器件制造方法-CN200910140881.6无效
发明人：小野一也;柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-08 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及结合装置、曝光装置、器件制造方法。该曝光装置用液体充满投影光学系统和基板之间，并通过所述投影光学系统和所述液体把图案像投影到所述基板上来对所述基板进行曝光，所述投影光学系统包含具有与所述液体接触的光学构件的第一群以及与该第一群不同的第二群，第一群支撑在第一支撑构件上，所述第二群分离地支撑在与所述第一支撑构件不同的第二支撑构件上。
结合装置曝光器件制造方法

[发明专利]曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法-CN200910009907.3有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-08-05 - 公布日： 2009-08-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法。为了在对一个晶片载置台(WST1)上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台(WST1、WST2)的替换，使另一个晶片载置台(WST2)暂时位于一个晶片载置台的下方，通过包含该步骤，可以在对一个晶片载置台上的晶片进行曝光动作的同时进行两个晶片载置台的替换动作(交换动作)，上述两个晶片载置台的替换动作基于使另一个晶片载置台暂时位于该一个晶片载置台的下方的方式，这样一来，与从对一个晶片载置台上的晶片的曝光动作结束的时刻开始进行两个晶片载置台的替换动作时相比，可在短时间内进行该替换。
曝光方法装置载置台设备制造

[发明专利]移动体驱动方法和移动体驱动系统、图案形成方法和装置、曝光方法和装置、以及器件制造方法-CN200780010439.0有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：通过驱动装置，根据用于测量晶片载台(WST)在Y轴方向的位置信息的编码器(62A)的测量值、与该编码器所测量的标尺(39Y₁)的平面度的相关信息，将晶片载台WST驱动于Y轴方向。此时，可根据以与标尺平面度相关的信息修正该编码器的测量值所包含的标尺平面度所造成的测量误差后的测量值，来将晶片载台驱动于既定方向。因此，可不受标尺凹凸的影响，使用编码器将晶片载台WST以良好精度驱动于既定方向。
移动驱动方法系统图案形成装置曝光以及器件制造

[发明专利]移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法-CN200780009872.2有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-09-03 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：通过控制装置，使用编码器系统的包含X编码器与Y编码器的至少各一个的三个编码器(Enc1，Enc2，Enc3)测量载台WST在XY平面内的位置信息，根据该位置信息的测量结果及该位置信息的测量所使用的读头(编码器)(Enc1，Enc2及Enc3)的平行于XY平面的面内的位置信息(p₁，q₁)、(p₂，q₂)及(p₃，q₃)，在XY平面内驱动载台WST。据此，能一边使用包含多个读头的编码器系统切换载台WST的移动中控制所使用的读头(编码器)，一边高精度控制载台的移动。
移动驱动方法系统图案形成装置曝光组件制造以及校正

[发明专利]移动体驱动系统及移动体驱动方法、图案形成装置及方法、组件制造方法以及决定方法-CN200780009923.1有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：通过驱动装置，根据用于测量晶片台WTB在Y轴方向位置信息的编码器(64)的测量值、与该测量时以干涉仪(16，43A及43B)所测量的晶片台WTB在非测量方向(例如，Z、及θz及θx方向)的位置信息所对应的已知修正信息，将晶片台WTB驱动于Y轴方向。也即，根据用于修正因读头往非测量方向与标尺的相对位移引起的编码器测量误差的修正信息修正后的编码器测量值，将移动体驱动于Y轴方向。因此，能在不受读头与标尺间的要测量方向(测量方向)以外的相对运动影响的情形下，一边以编码器测量位置、一边以良好精度将晶片台WTB(移动体)驱动于所希望的方向。
移动驱动系统方法图案形成装置组件制造以及决定

[发明专利]图案形成装置及图案形成方法、移动体驱动系统及移动体驱动方法、曝光装置及曝光方法、以及组件制造方法-CN200780005146.3有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-02-21 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：空间像测量装置，其一部分设于晶圆载台(WST)，且剩下的一部分设于测量载台(MST)，用以测量透过投影光学系统(PL)而形成的标记的空间像。因此，可在通过空间像测量装置来测量投影光学系统(PL)的最佳聚焦位置时，将设有空间像测量装置一部分的晶圆载台在与投影光学系统的光轴(AX)平行的方向的位置，当作其最佳聚焦位置的基准来进行测量。因此，在以照明光(IL)使物体(W)曝光时，根据该最佳聚焦位置的测量结果，以高精度调整晶圆载台(WST)在与光轴(AX)平行的方向的位置。
图案形成装置方法移动驱动系统曝光以及组件制造

[发明专利]测定装置及方法、处理装置及方法、图案形成装置及方法、曝光装置及方法、以及元件制造方法-CN200780005077.6有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-02-21 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：可通过测量值的短期稳定性良好的编码器系统(39X₁，39X₂，39Y₁，39Y₂，62B，62D，62A，62D)来在不受空气晃动等的影响的情况下以高精度测量移动体(WTB)在平面内的位置信息，且能通过面位置测量系统(74，76)来在不受空气晃动的影响的情况下以高精度测量移动体在与XY平面正交的Z轴方向的位置信息。此时，由于编码器系统及面位置测量系统的两者均可直接测量移动体上面，因此能简易且直接地控制移动体的位置。
测定装置方法处理图案形成曝光以及元件制造

[发明专利]图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法-CN200780005155.2有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-02-21 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在晶片载台(WST)在Y轴方向直线移动的期间，通过多点AF系统(90a、90b)检测在X轴方向以规定间隔所设定的多个检测点中晶片(W)表面的面位置信息，且通过沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL2₁～AL2₄)分别检测晶片(W)上彼此不同位置的标记。即，由于晶片载台(晶片)仅直线通过多点AF系统的多个检测点的排列与多个对准系统，就结束多个检测点中晶片表面的面位置信息的检测与晶片上彼此不同位置的标记的检测，因此与毫无关连地进行标记的检测动作与面位置信息(聚焦信息)的检测动作的情形相比较，能提升处理能力。
图案形成装置标记检测曝光方法组件制造

[发明专利]维修方法、曝光方法及装置、以及组件制造方法-CN200780005788.3无效
发明人： 柴崎祐一;水谷刚之;一之濑刚;涉田慎 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2007-05-23 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：维修方法，具备：将液体1供应到光学构件(2)与衬底(P)之间以形成液浸区域的液浸空间形成构件(30)、将液体1供应到液浸空间的液体供应机构(10)、移动衬底(P)的衬底载台(PST)、以及形成有基准标记的测量载台MST的曝光装置。为了洗净液浸空间形成构件(30)，将洗净液供应到测量载台MST与液浸空间形成构件(30)之间。曝光装置具备用于洗净液浸空间形成构件(30)的各种洗净机构。能有效地进行曝光装置的维修同时实施液浸曝光。
维修方法曝光装置以及组件制造

[发明专利]平台装置与曝光装置,以及元件制造方法-CN200710163828.9有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-01-26 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种平台装置与曝光装置，以及元件制造方法。该平台(RST)，是一面浮动于平板的上方一面支撑光栅，并可移动于二维面内的三自由度方向，框状构件是以浮动于平板的上方可移动于二维面内的三自由度方向。在框状构件设置第一定子(136₁～138₂)、第二定子(140₁、140₂)，在平台设第一可动元件、第二可动元件以与第一定子、第二定子个别协动以产生使平台于二维面内驱动的驱动力。因此，由平台的驱动的反力作用于第一或第二定子，由此反力框状构件大略依照动量守恒定律在二维面内移动。藉此，由平台的移动的反力可大略完全加以消除的同时，不产生包含平台及框状构件系统的重心移动的关系，偏负载亦不会作用在平板。
平台装置曝光以及元件制造方法

[发明专利]载台装置及曝光装置-CN200680007894.0有效
发明人： 柴崎祐一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-08-03 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供载台装置及曝光装置。晶片载台(WST)及计测载台(MST)被构成为可沿着底盘(21)上表面移动，通过相互靠近而成为一体并沿Y方向移动，来进行水(Lq)的转移。对准系统(45)测定晶片载台(WST)与计测载台(MST)的相互靠近的边缘部，聚焦/调平检测系统(64)测定晶片载台(WST)及计测载台(MST)相互靠近状态下的Z方向的阶梯差。在使两载台靠近的情况下，基于这些测定结果来调整晶片载台(WST)与计测载台(MST)之间的相对位置。
装置曝光

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top